【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示
,尤其涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
彩膜基板是液晶显示必须的组成部分,传统彩膜基板通常由透明基板1、黑矩阵(Black Matrix, BM)单元3、彩色树脂层4、平坦层(Over Coating, 0C)5和柱状隔垫物(PostSpacer, PS)6构成(如图1所示)。彩色树脂层4与BM单元3搭接的部位存在角段差(角段差区域为图1中的圆圈定的区域),需要平坦层5进行平坦处理,BM单元3的厚度与其OD值(光学浓度值)成正比,BM单元3的OD值太小存在漏光的风险,而如果BM单元3太厚,会增大所述彩色树脂层4相应位置的角段差h。现有的彩膜基板,BM单元3直接制备在透明基板I上,厚度一般为1. n. 5um,为彩色树脂层4的一半左右。这种结构的彩膜基板在制备过程中由于BM单元3太厚,容易导致彩色树脂层4与BM单元3搭接的部位出现比较大的角段差h。目前,高世代的产线一般采用喷墨(Inkjet)设备在基板的表面涂布聚酰亚胺PI层(取向层,用于使得彩膜基板与阵列基板之间的液晶按照一定规律排布)。这种工艺对基板表面的平坦性 ...
【技术保护点】
一种彩膜基板,包括透明基板,设置在所述透明基板上的黑矩阵单元和彩色树脂层,其特征在于,所述黑矩阵单元包括:作为所述彩色树脂层形成基础的第一子黑矩阵;和位于所述第一子黑矩阵之上,且在所述彩色树脂层形成后填充于所述彩色树脂层之间的第二子黑矩阵;所述第一子黑矩阵的至少一部分被在所述第一子黑矩阵之后形成的所述彩色树脂层覆盖,且所述第一子黑矩阵的厚度和所述第二子黑矩阵的厚度之和不小于满足遮光需求的最小厚度值。
【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板,包括透明基板,设置在所述透明基板上的黑矩阵单元和彩色树脂层,其特征在于,所述黑矩阵单元包括 作为所述彩色树脂层形成基础的第一子黑矩阵;和位于所述第一子黑矩阵之上,且在所述彩色树脂层形成后填充于所述彩色树脂层之间的第二子黑矩阵; 所述第一子黑矩阵的至少一部分被在所述第一子黑矩阵之后形成的所述彩色树脂层覆盖,且所述第一子黑矩阵的厚度和所述第二子黑矩阵的厚度之和不小于满足遮光需求的最小厚度值。2.根据权利要求1所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一子黑矩阵的厚度小于O.5um。3.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩阵单元的厚度小于所述彩色树脂层的厚度,所述透明基板上还设置有用于消除所述彩色树脂层的段差和所述彩色树脂层与所述黑矩阵单元之间的角段差的平坦层。4.根据权利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述平坦层的厚度小于lum。5.根据权利要求4所述的彩膜基板,其特征在于,还包括设置在所述平坦层上的柱状隔垫物。6.根据权利要求2所述的彩膜基板,其特征在于,所述黑矩阵单元的厚度等于所述彩色树脂层的厚度。7.根据权利要求1-6任一项所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄常刚,王耸,万冀豫,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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