【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及太阳能电池领域,尤其涉及。
技术介绍
在目前的太阳能电池片的制作过程中,在硅片表面形成减反射膜为太阳能电池片制作过程中必不可少的一部分。硅片表面的减反射膜具有钝化作用和减反射作用,此减反射膜的质量对太阳能电池的性能具有很大的影响。为了检测减反射膜的质量,也即为了保证太阳能电池的性能,在形成减反射膜后,需要通过测量仪器,对形成的减反射膜的均匀性进行测试。所述均匀性与减反射膜的厚度和折射率有关,是通过STDVE函数反应减反射膜厚度和折射率标准差的一个数值,用以反 应减反射膜的厚度和折射率的均匀性。在生产实践中,为了保证减反射膜的均匀性,通常在镀膜过程中需要调整减反射膜的厚度和折射率。但是现有技术中的调整减反射膜的厚度和折射率的方法对减反射膜厚度和折射率的均匀性的调整有一定的局限性,从而影响成品太阳能电池片的质量。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供,可以克服现有技术在调整减反射膜的厚度和折射率时的局限性,保证成品太阳能电池片的质量。为实现上述目的,本专利技术实施例提供了如下技术方案—种调整减反射膜厚度和折射率的方法,包括设置多个温区;获取各个温区内已沉 ...
【技术保护点】
一种调整减反射膜厚度和折射率的方法,其特征在于,包括:设置多个温区;获取各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率;根据所获取的各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率,调整相应的各个温区内当前待沉积硅片的加热速率;在待沉积硅片表面形成减反射膜。
【技术特征摘要】
1.一种调整减反射膜厚度和折射率的方法,其特征在于,包括设置多个温区;获取各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率;根据所获取的各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率,调整相应的各个温区内当前待沉积硅片的加热速率;在待沉积硅片表面形成减反射膜。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率包括分别在各个温区内已沉积完成的硅片中选取样本硅片;在每个样本硅片表面选取多个样本点;测量并记录每个样本硅片表面的多个样本点处的减反射膜的厚度和折射率;根据测量所得的各样本硅片样本点处的减反射膜的厚度和折射率,分别计算并记录每个样本硅片表面的多个样本点处的减反射膜的厚度平均值和折射率平均值,作为每个样本硅片的减反射膜的厚度和折射率,即各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率。3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述根据所获取的各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率,调整相应的各个温区内当前待沉积硅片的加热速率包括分别将所获取的各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度与预设厚度、所获取的各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的折射率与预设折射率进行比较;根据比较结果调整相应的各个温区内的当前待沉积硅片的加热速率。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据比较结果调整相应的各个温区内的当前待沉积硅片的加热速率包括当某个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度大于预设厚度,且折射率小于预设折射率时,提高相应温区内的待沉积硅片的加热速率。5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据比较结果调整相应的各个温区内的当前待沉积硅片的加热速率包括当某个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度小于预设厚度,且折射率大于预设折射率时,降低相应温区内的待沉积硅片的加热速率。6.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵强,
申请(专利权)人:英利能源中国有限公司,
类型:发明
国别省市:
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