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本发明公开了一种调整减反射膜厚度和折射率的方法，包括：设置多个温区；获取各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率；根据所获取的各个温区内已沉积完成的硅片表面减反射膜的厚度和折射率，调整相应的各个温区内当前待沉积硅片的加热速率；在...
该专利属于英利能源（中国）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过英利能源（中国）有限公司授权不得商用。

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