结构光照明层析显微成像系统技术方案

本发明专利技术提供了一种结构光照明层析显微成像系统，本系统主要包括结构光照明装置和成像装置。在结构光照明装置方面，照明光由三个中心波长相近但光谱互不重叠的窄带光或激光组成，三路光通过各自独立的投影路径，把格栅投影到样品上获得结构光照明；在成像装置方面，利用分光模块把不同波长的样品反射光投影到成像模块的不同感光区域并同时进行成像。本系统与现有的多次曝光结构光照明成像装置不同。本系统利用照明光颜色的不同，实现单次曝光的层析显微成像，从而可对动态目标进行快速成像研究。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学显微成像领域，尤其涉及一种结构光照明层析显微成像系统。
技术介绍
传统的宽场光学显微镜是部分相干成像系统，光学传递函数中某些频率成分不随着离焦距离的增加而衰减，因而系统不具备层析成像的能力。在弱光成像条件下考察系统光学传递函数，发现只有空间频率为零的成分不随着离焦而衰减。进一步研究发现，通过改变显微镜的照明系统，将具有单一空间频率的条纹格栅投射到样本，显微镜可以对条纹格栅投影到所在的焦面进行很好的成像，这样便可以获得标记有锐利的条纹的样本层析图像。在格栅位于不同的相对空间位置时进行三次成像，通过图像处理便可以获得宽场层析成像结果。现有的结构光层析显微成像系统一般米用横向移动格栅的方式改变其相对空间位置，在不同的位置进行三次成像。这种方式需要对格栅的位置移动进行严格的控制并与摄像机同步操作，成像速度慢且只能用于观察静态的样本。另外，还有一种基于彩色CCD的结构光成像系统，采用不同颜色的格栅作为照明模式，虽然实现了不同空间位置的单次结构光成像，但是CCD探测得到的不同颜色光之间会存在严重的光谱串扰，而且由于光源采用宽谱光源，成像系统色差会极大的影响成像质量。专利技术内本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种结构光照明层析显微成像系统，用于样品层析成像，其特征在于，包括：结构光照明装置，包括第一结构光装置、第二结构光装置、第三结构光装置、对应第一、第二结构光装置设置的第一分光镜、对应第三结构光装置和第一分光镜设置的第二分光镜以及对应第二分光镜设置的第一透镜，结构光由第一透镜出射，所述结构光装置均包括依次设置的光源、光束准直器和格栅；成像装置，依次包括第二透镜、分光模块以及成像模块；以及设置于结构光照明装置与成像装置的光路之间可将产生的结构光投影到样品的半透半反镜和显微物镜；所述结构光经半透半反镜、显微物镜投影到样品，样品反射光经显微物镜、半透半反镜由成像装置接收，成像装置的分光模块将样品反射光...

【技术特征摘要】
1.一种结构光照明层析显微成像系统，用于样品层析成像，其特征在于，包括结构光照明装置，包括第一结构光装置、第二结构光装置、第三结构光装置、对应第一、 第二结构光装置设置的第一分光镜、对应第三结构光装置和第一分光镜设置的第二分光镜以及对应第二分光镜设置的第一透镜，结构光由第一透镜出射，所述结构光装置均包括依次设置的光源、光束准直器和格栅；成像装置，依次包括第二透镜、分光模块以及成像模块；以及设置于结构光照明装置与成像装置的光路之间可将产生的结构光投影到样品的半透半反镜和显微物镜；所述结构光经半透半反镜、显微物镜投影到样品，样品反射光经显微物镜、半透半反镜由成像装置接收，成像装置的分光模块将样品反射光分为三束，由成像模块接收。2.根据权利要求1所述的结构光照明层析显微成像系统，其特征在于所述结构光照明装置包括三个光源，分别对应设置在第一结构光装置、第二结构光装置以及第三结构光装置中。3.根据权利要求2所述的结构光照明层析显微成像系统，其特征在于所述各结...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑炜，杨守胜，
申请(专利权)人：中国科学院深圳先进技术研究院，
类型：发明
国别省市：