一种煎烤器制造技术

技术编号:8496564 阅读:162 留言:0更新日期:2013-03-29 13:23
本实用新型专利技术公开一种煎烤器,包括烤盘和铆压在烤盘上的加热管,在烤盘的底部直接向内凹陷形成凹槽,加热管嵌置在凹槽中,烤盘深度大于25mm。本实用新型专利技术加热管直接与烤盘充分接触,可以更好地对烤盘整体加热,热量利用率大大提高,加热效果好,特别针对较深烤盘的加热效果更好,满足了煎烤食物能均匀加热至熟透,实现煎烤四周温度均匀化加热的效果,克服了传统较深烤盘加热不均匀的弊端。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种煎烤器
技术介绍
现有技术中,一般的煎烤器是在靠近烤盘的底部安装加热管,加热管是通过对烤盘底部局部加热再传递至整个烤盘的,热能利用率低,局部温度过高,加热效果欠佳,特别是针对较深的烤盘来说,因为仅在底部附近有加热管,所以,加热不均匀,食物无法均匀熟透。 有鉴于此,本专利技术人对煎烤器的加热结构加以改进,本案由此产生。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种煎烤器,以提升均匀加热效果。为了达成上述目的,本技术的解决方案是一种煎烤器,包括烤盘和铆压在烤盘上的加热管,在烤盘的底部直接向内凹陷形成凹槽,加热管嵌置在凹槽中。所述用于放置加热管的凹槽环绕在烤盘的底部四周。所述烤盘沿凹槽外侧的整个壁面形成利于烤盘蓄热和热传导的加厚壁。所述烤盘的底部至少一侧加厚形成用于放置温控器的安装部。所述烤盘分上烤盘和下烤盘,下烤盘的深度大于25mm。采用上述结构后,本技术因为将加热管嵌置在向内凹陷的凹槽中,加热管直接与烤盘四周充分接触,可以更好地对烤盘整体加热,热量利用率大大提高,加热效果好,特别针对较深烤盘的加热效果更好,满足了煎烤食物能均匀加热至熟透,实现煎烤四周温度均匀化加热的效果,克服了传统本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种煎烤器,其特征在于:包括烤盘和铆压在烤盘上的加热管,在烤盘的底部直接向内凹陷形成凹槽,加热管嵌置在凹槽中。

【技术特征摘要】
1.一种煎烤器,其特征在于包括烤盘和铆压在烤盘上的加热管,在烤盘的底部直接向内凹陷形成凹槽,加热管嵌置在凹槽中。2.如权利要求1所述的一种煎烤器,其特征在于用于放置加热管的凹槽环绕在烤盘的底部四周。3.如权利要求1所述的一种煎烤器,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:李文辉
申请(专利权)人:厦门信得通工贸有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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