用于通过使用光分布来提高粒子成像设备中的测量精确度的装置、系统和方法制造方法及图纸

一种用于提高成像细胞分析技术中的测量精确度的装置、系统和方法。系统可包括：光检测器，其被配置成测量粒子响应于第一光源而发出的光；以及耦合至该光检测器的处理器。处理器可被配置成通过获得光的第一测量来产生第一图像，以及通过对该第一图像进行内插来产生第二图像，其中第二图像具有比第一图像更高的分辨率。处理器可被配置成确定第二图像与预期分布之间的像素的差，以及在该差高于预定阈值的情况下丢弃光的第一测量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于图像数据处理的方法和系统。一些实施例涉及用于执行用于处理粒子的图像的一个或一个以上步骤的方法和系统。相关技术的描述利用诸如电荷耦合器件(CXD)检测器之类的检测器的成像被用于生物技术应用。在一些应用中，CCD被配置成测量粒子响应于光源而发出的荧光。取决于存在多少特定荧光物质，粒子可能具有不同的荧光强度。荧光物质的量可指示若干状况。例如，荧光的量可指示物质的存在或不存在，或粒子对特定物质的吸收。
技术实现思路
提出了一种提高粒子成像设备中的测量准确度的方法。在一个实施例中，该方法可包括测量第一粒子发出的光并测量第二粒子发出的光，其中测得的来自第二粒子的光在交迭区域中与测得的来自第一粒子的光至少部分地交迭。在一些实施例中，该方法可包括确定该交迭区域中来自第一粒子的光的贡献，并确定该交迭区域中来自第二粒子的光的贡献。此外，该方法可包括从来自第一粒子的光的贡献中减去来自第二粒子的光的贡献，并确定第一粒子发出的光的强度。在一些实施例中，测量由第一粒子和第二粒子发出的光可利用二维CXD检测器来执行。在一些实施例中，光检测器可以是CMOS检测器或量子点检测器。此外，在一些实施例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.06.30 US 12/827,8371.一种用于提高粒子成像设备中的测量准确度的方法，包括 利用第一光源照射粒子； 通过利用光检测器获得响应于所述第一光源而从所述粒子发出的光的第一测量来产生第一图像； 通过对所述第一图像进行内插来产生第二图像，其中所述第二图像具有比所述第一图像更高的分辨率；以及 确定所述第二图像中的所述粒子的中心。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括通过对所述第二图像求积分来确定所述粒子的强度。3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括产生光的第一测量的分析表示，以及通过对所述分析表示求积分来确定所述粒子的强度。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括 确定所述第二图像的像素与预期分布之间的差；以及 如果所述差高于预定阈值，则丢弃所述光的第一测量。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述预期分布是高斯分布。6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，还包括 利用第二光源来照射所述粒子； 通过利用所述光检测器来获得所述粒子响应于所述第二光源而发出的光的第二测量来产生第三图像； 确定所述第三图像中的所述粒子的中心； 确定所述第二图像中的所述粒子的所述中心与所述第三图像中的所述粒子的所述中心之间的位置差；以及 响应于所述差，计算所述第二图像与所述第三图像之间的偏离。7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，还包括对准所述第一图像和所述第三图像。8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，还包括利用多个粒子来计算所述第二图像与所述第三图像之间的所述偏离。9.一种包括计算机可读代码的有形计算机可读介质，所述计算机可读代码在由计算机执行时导致所述计算机执行包括以下各项的操作 利用第一光源照射粒子； 通过利用光检测器获得响应于所述第一光源从所述粒子发出的光的第一测量来产生第一图像； 通过对所述第一图像进行内插来产生第二图像，其中所述第二图像具有比所述第一图像更高的分辨率；以及 确定所述第二图像中的所述粒子的中心。10.如权利要求9所述的有形计算机可读介质，其特征在于，还包括在由计算机执行时导致所述计算机执行包括以下项目的操作的计算机可读代码通过对所述第二图像求积分来确定所述粒子的强度。11.如权利要求9所述的有形计算机可读介质，其特征在于，还包括在由计算机执行时导致所述计算机执行包括以下项目的操作的计算机可读代码产生所述光的第一测量的分析表示，以及通过对所述分析表示求积分来确定所述粒子的强度。12.如权利要求9所述的有形计算机可读介质，其特征在于，还包括在由计算机执行时导致所述计算机执行包括以下项目的操作的计算机可读代码 确定所述第二图像的像素与预期分布之间的差；以及 如果所述差高于预定阈值，则丢弃所述光的第...

【专利技术属性】
技术研发人员：W·D·罗斯，M·S·费希尔，
申请(专利权)人：卢米尼克斯股份有限公司，
类型：
国别省市：