【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及含有TiO2的石英玻璃基材及其制造方法。
技术介绍
作为在各种衬底(例如Si、蓝宝石等单晶衬底，玻璃等非晶衬底)表面形成半导体器件、光波导路、微小光学元件(衍射光栅等)、生物芯片、微反应器等中尺寸为InnTlO μ m 的细微凹凸图案的方法，光印法一直受到关注，所述光印法中，在形成于衬底表面的光固化性树脂层上，按压表面具有凹凸图案的反转图案(转印图案)的压印模具，并使光固化性树脂固化，由此在衬底表面形成凹凸图案。对于光印法所使用的压印模具，要求光透射性、耐化学品性、对光照射引起的温度上升的尺寸稳定性。作为压印模具用基材，从光透射性、耐化学品性的观点考虑，经常使用石英玻璃。但是，石英玻璃在室温附近的热膨胀系数高至约500ppb/°C，缺乏尺寸稳定性。 因此，提出了含有TiO2的石英玻璃作为热膨胀系数低的石英系玻璃(专利文献1、2)。现有技术文献专利文献专利文献I:日本特开2006-306674号公报专利文献2:日本特开2008-303100号公报
技术实现思路
但是，含有TiO2的石英玻璃衬底的热膨胀系数随TiO2浓度、假想温度及OH等其它成分的浓度而变...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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