石英玻璃的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种石英玻璃的制备方法，以含硅化合物为原料，含硅化合物经汽化后通入燃烧器，含硅化合物发生化学反应，并沉积形成石英玻璃或二氧化硅疏松体，含硅化合物的分子选自下述硅烷、有机硅烷、有机硅氧烷和聚硅氧烷中的一种。本发明专利技术获得无氯、高光谱透过率、高光学均匀性、结构稳定性的高品质的石英玻璃。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及石英玻璃
，尤其涉及一种高品质的石英玻璃的制备方法。
技术介绍
高品质合成石英玻璃是航天、核技术、激光、精密仪器等高科技领域的不可替代的关键基础材料，高均匀、高透过、高稳定、规模化可持续环保生产、低成本是其未来发展的主要趋势。目前，石英玻璃均是由四氯化硅等含硅的卤素原料通过化学气相沉积(CVD)、等离子化学气相沉积(PCVD)等直接法和间接法合成。四氯化硅等原料是多晶硅生产的副产品，改良西门子法生产1吨多晶硅副产10吨的SiCl4，故SiCl4原料不仅低廉易得，而且常温下为液态、沸点较低，易于得到SiCl4蒸气及利于石英玻璃的沉积。但随着四氯化硅氢化制备三氯氢硅的技术不断完善，实现了多晶硅生产的内部循环，导致四氯化硅已经不是多晶硅生产的副产品，对外应用也逐步减少。近年来四氯化硅价格不断攀升，其低廉易得的优势已不复存在。同时，由于SiCl4原料的问题，合成石英玻璃中无法避免氯离子的引入，只是氯含量存在一定差异而已，其中CVD工艺制备的合成石英玻璃氯离子含量为100～200ppm，PCVD工艺氯离子含量为300ppm以上，间接合成法工艺氯离子含量为50ppm以上(如本文档来自技高网...

【技术保护点】
石英玻璃的制备方法，以含硅化合物为原料，所述含硅化合物经汽化后通入燃烧器，所述含硅化合物发生化学反应，并沉积形成石英玻璃或二氧化硅疏松体，其特征在于，所述含硅化合物的分子选自下述硅烷、有机硅烷、有机硅氧烷和聚硅氧烷中的一种。

【技术特征摘要】
1.石英玻璃的制备方法，以含硅化合物为原料，所述含硅化合物经汽化后通入燃烧器，所述含硅化合物发生化学反应，并沉积形成石英玻璃或二氧化硅疏松体，其特征在于，所述含硅化合物的分子选自下述硅烷、有机硅烷、有机硅氧烷和聚硅氧烷中的一种。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述硅烷为甲硅烷或乙硅烷；所述有机硅烷为乙烯基三甲基硅烷、甲基丙烯酰氧基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙酰氧基硅烷、甲基三丁酮肟基硅烷、四丁酮肟基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-巯丙基三乙氧基硅烷、四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、烷氧基硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、四乙氧基硅烷、三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或环氧基硅烷；所述有机硅氧烷为二甲基硅氧烷、六甲基二硅氧烷、二乙烯基四甲基二硅氧烷、二甲基乙烯基乙氧基硅烷、八甲基三硅氧烷、十甲基四硅氧烷、十二甲基五硅氧烷或聚二甲基硅氧烷；所述聚硅氧烷为六甲基环三硅氧烷、八甲基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷、十二甲基环六硅氧烷、十四甲基环七硅氧烷、十六甲基环八硅氧烷、十八甲基环九硅氧烷或二十甲基环十硅氧烷。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述石英玻璃是通过直接合成法或者间接合成法制备。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述直接合成法...

【专利技术属性】
技术研发人员：聂兰舰，王玉芬，向在奎，饶传东，刘飞翔，王蕾，王慧，邵竹锋，贾亚男，王宏杰，符博，张辰阳，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院，
类型：发明
国别省市：北京;11