具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件及其制造方法技术

本申请公开了一种具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件及其制造方法,其适合于通过当在薄膜晶体管区中形成蚀刻停止层时在焊盘接触区中的数据线下方形成辅助蚀刻停止层，来防止在形成接触孔时在数据线区中产生针孔故障。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及到。
技术介绍
用于在屏幕上显示各种信息的图像显示器件是信息和通信时代的核心技术中的一种。这种图像显示器件已经发展得更薄、更轻和更便携，且具有高性能。实际上，平板显示器件由于其减少的重量和体积而于显示器领域中引人瞩目，而重量和体积是阴极射线管 (CRT)非常公知的缺陷。平板显示器件包括OLED (有机发光显示)器件，其通过控制有机发光层的发光量显示图像。OLED器件是在电极之间采用薄发光层的自发光显示器件。这样，OLED器件可更薄，像纸一样。这种OLED器件通过使光发出穿过封装基板来显示图像。封装基板包括多个像素，多个像素设置成矩阵形状且每一个都配置有3个颜色(即红、绿和蓝)的子像素、单元驱动阵列和有机发光阵列。为了实现各种颜色，OLED器件采用被配置成分别发出红、绿和蓝光的有机发光层。有机发光层插入到两个电极之间且用于形成有机发光二极管。OLED器件需要能更快速驱动的薄膜晶体管。为此，OLED器件使用诸如IGZO(氧化铟镓锌)膜的氧化物膜代替非晶硅膜a-Si。图I是示意性示出根据现有技术的平板显示器件的截面图。如图I中所示，平板显示器件包括配置有多个限定的像素部分并用于显示图像的像素区15和设置在像素区15的外围区域中的数据驱动器12。栅极驱动器包括在数据驱动器12中或者形成在像素区15的另一外围区域中。在像素区15内的像素部分由彼此交叉的栅极线和数据线限定。而且，每个像素部分都包括以连接到栅极线和数据线的方式形成的薄膜晶体管。多个焊盘形成在其中设置了数据驱动器12的驱动器区域。多个焊盘用于将信号提供给栅极线和数据线。焊盘连接到多条链接线(link lines)。这样,多条链接线连接到自像素区15延伸的栅极线和数据线。特别是，当形成与低阻布线对应的栅极线时，在基板上同时形成多条链接线。由于数据线被设置在栅极线上方，在数据线和栅极线之间具有绝缘层，因此数据线和链接线借助于连接电极在焊盘接触区彼此连接。图2是包括照片的数据表，该照片示出在根据现有技术的平板显示器件的焊盘接触区中产生的针孔(pin hole)故障。图3是示出沿着图2中的线X-X’取得的像素区内的TFT区和焊盘接触区的截面图。参考图2和3，形成在像素区中的薄膜晶体管配置有栅极101、有源层和源/漏极107a和107b。栅极101形成在基板100上。有源层包括形成在栅极101上方的沟道层104和欧姆接触层105，有源层和栅极101间具有栅极绝缘膜102。而且，形成在像素区内的薄膜晶体管的漏极107b经由形成在钝化层109中的接触孔连接到像素电极1 10。同时，在焊盘接触区内的数据线160通过连接电极170连接到形成在像素区15外部的链接线150。如果第四掩模工序使用衍射掩模和半色调掩模中的一个，则欧姆接触层图案105a和沟道层图案104a保留在数据线160下方。但是，如从图2和3中可见，栅极绝缘膜102和钝化层109叠置在形成于基板100上的链接线150上，而在数据线160上仅形成钝化层109。这样，用于形成接触孔的蚀刻深度彼此不同。因此，由于过蚀刻，在仅覆盖有钝化层109的数据线160中会产生针孔故障。更特别地，必须蚀刻栅极绝缘膜102和钝化层109以在形成在基板100上的链接线150中形成接触孔。另一方面，当在仅覆盖有钝化层109的数据线160中形成另一接触孔时，由于也蚀刻了在数据线160下方的栅极绝缘膜102，，会以所述另一接触孔穿过数据线160的方式产生针孔故障。这种针孔故障破坏了数据线160和栅极绝缘膜102。由于此，会产生各种故障，包括形成在接触孔区中的金属膜的断开。
技术实现思路
因此，本实施例涉及到平板显示器件及其制造方法，其基本上避免了由于现有技术的限制和缺陷导致的一个或者多个问题。本实施例的目的是提供一种，其适合于通过当在薄膜晶体管区中形成蚀刻停止层时在焊盘接触区中的数据线下方形成辅助蚀刻停止层，来防止在形成接触孔时在数据线区中产生针孔故障。本实施例的另一目的是提供一种，其适合于在不需使用其他掩模工序的情况下，防止在接触孔形成区中产生针孔故障。在以下的说明中列出了本实施例的其他特征和优势，且根据该说明其一部分是显而易见的，或者可通过实践实施例获知。通过在所撰写的说明书和权利要求以及附图中特别指出的结构，可认识并实现本实施例的优势。为了解决上述问题，根据本实施例一个总体方面的一种制造具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件的方法包括制备限定为像素区和焊盘接触区的基板；在基板的像素区和焊盘接触区中形成栅极和链接线；在提供有栅极的基板上顺序形成栅极绝缘膜和第一透明导电材料膜，和对第一透明导电材料膜执行第一掩模工序，以在像素区内形成像素电极；在提供有像素电极的基板上形成氧化物层，和对氧化物层执行第二掩模工序，以在与栅极相对的栅极绝缘膜上形成沟道层；在提供有沟道层的基板上形成绝缘层，和对绝缘层执行第三掩模工序，以形成设置在沟道层上的蚀刻停止层和设置在将被数据线占据的焊盘接触区上的辅助蚀刻停止层；在于基板上形成蚀刻停止层之后，在基板的整个表面上形成金属膜，和对金属膜执行第四掩模工序，以形成源极和漏极以及数据线，数据线的一端与焊盘接触区内的辅助蚀刻停止层交叠；在提供有源极和漏极的基板上形成钝化层，并执行接触孔的形成工艺，以暴露链接线和与辅助蚀刻停止层相对的数据线；和在具有接触孔的基板上形成第二透明导电材料膜，并执行第五掩模工序，以形成设置在像素区内的公共电极和设置在焊盘接触区内并连接数据线和链接线的连接电极。根据本实施例的一个总体方面的一种制造具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件的方法包括制备限定为像素区和焊盘接触区的基板；在基板的像素区和焊盘接触区中形成栅极和链接线；在提供有栅极的基板上顺序形成栅极绝缘膜和氧化物层，和对氧化物层执行第一掩模工序，以在与栅极相对的栅极绝缘膜上形成沟道层；在提供有沟道层的基板上形成绝缘层，和对绝缘层执行第二掩模工序，以形成设置在沟道层上的蚀刻停止层和设置在将被数据线占据的焊盘接触区上的辅助蚀刻停止层；在于基板上形成蚀刻停止层之后，在基板的整个表面上形成金属膜，和对金属膜执行第三掩模工序，以形成源极和漏极以及数据线，数据线的一端与焊盘接触区内的辅助蚀刻停止层交叠；在提供有源极和漏极的 基板上顺序形成第一钝化层和第一透明导电材料膜，和对该第一透明导电材料膜执行第四掩模工序，以在像素区内的第一钝化层上形成公共电极；在提供有公共电极的基板上形成第二钝化层，和执行接触孔的形成工艺，以在漏极、链接线和与辅助蚀刻停止层相对的数据线上方形成接触孔；和在具有接触孔的基板上形成第二透明导电材料膜，和执行第五掩模工序，以形成设置在与像素区内的公共电极相对的第二钝化层上的像素电极和设置在焊盘接触区内并连接数据线和链接线的连接电极。根据本实施例一个总体方面的具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件包括限定为像素区和焊盘接触区的基板；设置在像素区上并配置成包括栅极、栅极绝缘膜、由氧化物形成的沟道以及源极和漏极的薄膜晶体管；设置在基板的像素区内并电连接到薄膜晶体管的漏极的像素电极；设置在与像素电极相对的钝化层上的公共电极；设置在基板的焊盘接触区内的链接线；延伸到焊盘接触区与链接线相邻并设置在栅极绝缘膜上的数据线；配置成电连接链本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造具有氧化物薄膜晶体管的平板显示器件的方法，该方法包括：制备限定为像素区和焊盘接触区的基板；在基板的像素区和焊盘接触区中形成栅极和链接线；在提供有栅极的基板上顺序形成栅极绝缘膜和第一透明导电材料膜，和对第一透明导电材料膜执行第一掩模工序，以在像素区内形成像素电极；在提供有像素电极的基板上形成氧化物层，和对氧化物层执行第二掩模工序，以在与栅极相对的栅极绝缘膜上形成沟道层；在提供有沟道层的基板上形成绝缘层，和对绝缘层执行第三掩模工序，以形成设置在沟道层上的蚀刻停止层和设置在将被数据线占据的焊盘接触区上的辅助蚀刻停止层；在于基板上形成蚀刻停止层之后，在基板的整个表面上形成金属膜，和对金属膜执行第四掩模工序，以形成源极和漏极以及数据线，数据线的一端与焊盘接触区内的辅助蚀刻停止层交叠；在提供有源极和漏极的基板上形成钝化层，和执行接触孔的形成工艺，以暴露出链接线和与辅助蚀刻停止层相对的数据线；和在具有接触孔的基板上形成第二透明导电材料膜，和执行第五掩模工序，以形成设置在像素区内的公共电极和设置在焊盘接触区内并连接数据线和链接线的公共电极。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：蔡志恩，安贞恩，李泰根，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：