本发明专利技术涉及触摸屏、用于触摸屏的透明电路板和制造触摸屏的方法。提供了一种用于制造用于触摸屏的透明电路板的方法。该透明电路板包含透明基板,该透明基板具有在其上沉积的导电桥接层。将液体绝缘层沉积在透明基板和桥接层上,并且将具有第一和第二导电图案的传感器层沉积在透明基板和绝缘层上。
【技术实现步骤摘要】
以下的描述总体上涉及触摸屏,更具体地说,涉及用于触摸屏的透明电路板,该透明电路板形成触摸屏的前部并具有传感器层。
技术介绍
通常,通过将输入/输出装置集成到显示器中来制作触摸屏。典型的触摸屏包含诸如液晶显示器(LCD)的显示单元和布置于显示单元上的触摸面板。当用户对触摸屏进行触摸时,在没有使用机械小键盘的情况下,触摸屏通过识别用户的指尖或其它物体触摸在屏上显示的相关联的字符或区域的具体位置,可以接收或检测用户输入。触摸屏不需要机械小键盘并且容易操作。因此,触摸屏被广泛地用作在大量的人易于聚集的区域,即公共场所,诸如地铁站、百货商店、以及银行中的信息显示设备。目前, 触摸屏不仅应用于商店中的销售终端,还广泛用于便携式终端,诸如移动电话、数字多媒体广播(DMB)接收器、车辆导航终端等中。例如,触摸屏(或触摸面板)可以分为电阻式叠加触摸屏、电容式触摸面板、表面声波触摸屏、红外束触摸屏等。传统地,当制造电容式触摸面板时,通过光刻工艺形成构成传感器层的一部分的绝缘层。在该光刻工艺中,通过沉积光致抗蚀剂形成具有预先确定的图案的绝缘层。接着, 通过使用以预先确定的间隙与光致抗蚀剂间隔开的掩模对光致抗蚀剂部分地(或选择性地)照射紫外线,对光致抗蚀剂执行固化(即,对光致抗蚀剂执行光刻步骤)。最后,使用显影剂除去光致抗蚀剂的未固化的部分。当形成传感器层时,引入光刻工艺。因此,需要许多工艺步骤来形成传感器层并且工艺时间过长,引起材料浪费方面的增加和产量上的减少。而且,由于在绝缘层的边缘处的台阶覆盖,导电图案可能是局部开口的。为了解决由在绝缘层的边缘处的台阶覆盖引起的问题,考虑了一种通过调整光致抗蚀剂与掩模之间的间隙和在光刻步骤中的紫外光的强度来减小绝缘层的边缘的倾斜的方法。可是,由于调整倾斜的难度,传感器层的稳定性可能降低并且光刻工艺时间可能延迟,引起产量上的进一步减少和材料浪费方面的进一步增加。
技术实现思路
在一个方面中,提供了一种用于制造用于触摸屏的透明电路板的方法,所述方法包括形成透明基板,在所述透明基板上沉积导电桥接层;将液体绝缘层沉积在透明基板上和桥接层上;以及将传感器层沉积在透明基板和绝缘层上,所述传感器层包括彼此交叉的第一和第二导电图案。可以通过喷墨印刷工艺来沉积所述液体绝缘层。所述透明基板的形成可以包括将导电层沉积在透明基板的表面上,以及对在其上沉积导电层以形成导电桥接层的透明基板的表面进行等离子体蚀刻。所述方法可以还包括使用碱性溶液来冲洗透明基板的被等离子体蚀刻的表面。所述碱性溶液可以包括四甲基氢氧化铵(TMAH)和NaHCO3中的至少一个。所述方法可以还包括通过对液体绝缘层进行加热来固化液体绝缘层。所述方法可以还包括将光阻挡层沉积在透明基板的边缘上,以及将电极层沉积在光阻挡层上,其中将电极层电连接到传感器层。所述方法可以还包括将绝缘保护层沉积在传感器层上,使得绝缘保护层插入在第一和第二导电图案之间。在一个方面中,提供了一种用于触摸屏的透明电路板,所述透明电路板包含透明基板,其包括导电桥接层,所述透明基板经历了等离子体蚀刻;绝缘层,其被沉积在透明基板上和导电桥接层上;以及传感器层,其包括彼此交叉的第一和第二导电图案,所述传感器层沉积在透明基板和绝缘层上。可以通过喷墨印刷工艺来沉积所述绝缘层。所述绝缘层的边缘的倾斜角度可以从30°到60°变动。所述透明电路板可以还包括光阻挡层,其被沉积在透明基板的边缘上,以及电极层,其被沉积在绝缘的光阻挡层上并且电连接到传感器层。在一个方面中,提供了一种触摸屏,包含透明电路板,其被配置成对触摸进行感测,所述透明电路板包括包含导电桥接层的透明基板;沉积在透明基板上和导电桥接层上的绝缘层;以及包括彼此交叉的第一和第二导电图案的、沉积在透明基板和绝缘层上的传感器层;以及显示单元,其被配置成显示图像。可以通过喷墨印刷工艺来沉积所述绝缘层。所述绝缘层的边缘的倾斜角度可以从30°到60°变动。其它特征和方面可以从以下的详细描述、附图和权利要求而变得明显。附图说明图I是说明用于制造用于触摸屏的透明电路板的方法的例子的图。图2至16是说明制造用于触摸屏的透明电路板的各种例子的图。图17是说明触摸屏的例子的图。应当理解的是贯穿附图和详细描述,相同的附图参考数字指代相同的元件、特征和结构,除非另有描述。为了清楚、说明和方便起见,可以将这些元件的相对尺寸和描绘夸大。具体实施方式提供以下详细的描述以帮助阅读者获得在此描述的方法、装置和/或系统的全面的理解。因此,本领域技术人员将想到在此描述的方法、装置和/或系统的各种变化、修改和等效。另外,为了增强的清楚和简明,公知的功能和构造的描述可以被省略。图I说明了用于制造用于触摸屏的透明电路板的方法的例子,并且图2至16说明了用于制造用于触摸屏的透明电路板的各种操作的例子。该触摸屏可以被包含在终端中, 例如,移动电话、书写板、计算机、照相机、显示器、电视机、器具等。参考图1,用于制造用于触摸屏的透明电路板的方法包含沉积光阻挡层(S10)、 沉积第一导电层(S20)、形成桥接层(S30)、执行等离子体蚀刻(S40)、形成绝缘层(S50)、沉积第二导电层(S60)、形成传感器层(S70)、沉积第一绝缘保护层(S80)、沉积第三导电层 (S90 )、形成电极层(SlOO )、以及沉积第二绝缘保护层(S110 )。参考图1和2,在沉积光阻挡层的步骤SlO中,将光阻挡层120沉积在透明基板110 的表面外围(或边缘)上。例如,可以将光阻挡层120沉积在透明基板110的上表面外围上以 具有矩形条的形式。透明基板110的下表面形成触摸屏的前部的至少一部分,其被暴露于外部。透明基板110可以由对可见光透明的绝缘材料形成。绝缘材料的例子包含玻璃、 聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)等。透明基板110的下表面暴露于外部。因此,将阻挡可见光的光阻挡层120沉积在透明基板110的上表面外围上以防止透明基板110 的围绕中央部分(即,显示区域)的外部外围(即,非显示区域)在外部可见。光阻挡层120可以通过诸如黑色墨水印刷的工艺来形成。例如,用于光阻挡层120的材料可以包含含有诸如聚乙烯(PE)、丙烯、聚氨基甲酸酯(PU)等的树脂的丝网印刷墨水。参考图1和3,在沉积第一导电层的步骤S20中,将第一导电层140沉积在透明基板110的暴露的上表面上。该第一导电层140由对可见光透明的导电材料形成。该第一导电层的导电材料的例子包含铟锡氧化物(ΙΤ0)、聚(3,4_乙撑二氧噻吩(PEDOT)等。可以通过诸如电子束、溅射等的真空沉积工艺来形成该第一导电层140。参考图1和4,在形成桥接层的步骤S30中,通过部分地(或选择性地)蚀刻第一导电层140来形成具有预先确定的图案的桥接层140a。例如,桥接层140a可以包含导电条, 所述导电条位于构成传感器层的第一和第二导电图案的交叉点处。桥接层140a可以通过光刻工艺被构图。在光刻工艺中,例如,具有多个狭缝的光致抗蚀剂掩模可以通过下述来形成在第一导电层140的整个上表面上方沉积光致抗蚀剂、通过部分地(或选择性地)对光致抗蚀剂照射紫外线来使光致抗蚀剂固化、以及使用显影剂来除去光致抗蚀剂的未固化的部分。该光致抗蚀剂可以具有均匀本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于制造用于触摸屏的透明电路板的方法,所述方法包括:形成透明基板,在所述透明基板上沉积导电桥接层;将液体绝缘层沉积在透明基板上和桥接层上;以及将传感器层沉积在透明基板和绝缘层上,所述传感器层包括彼此交叉的第一和第二导电图案。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:赵龙九,梁海净,
申请(专利权)人:三星光通信株式会社,
类型:发明
国别省市:
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