本发明专利技术提供了一种物理气相沉积用遮蔽涂料，由以下质量百分比的原料制成：遮蔽剂10%～30%，粘接剂1%～5%，分散剂0.1%～0.5%，余量为有机溶剂。本发明专利技术还提供了一种制备该遮蔽涂料的方法，该方法为：一、分别称取各原料；二、将粘接剂加入有机溶剂中得到粘接溶液；三、将遮蔽剂加入粘接溶液中得到混合溶液；四、将分散剂加入混合溶液中得到物理气相沉积用遮蔽涂料。该遮蔽涂料能够有效保护基材相关区域的表面不被沉积层污染，实现了物理气相沉积制备涂层时基材不同部位涂层的沉积与遮蔽，使用方便，效果明显。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于遮蔽材料
，具体涉及。
技术介绍
采用物理气相沉积的方法制备涂层是一种在真空条件下利用蒸发、辉光放电或弧光放电等工艺过程产生粒子并沉积在基材表面形成膜层的技术。随着科学技术的发展，现代的物理气相沉积过程中大多对基材施加了负偏压，用来吸引带正电的沉积物粒子，优点 是提高了沉积膜层的质量，缺点是基材整个外表面都会沉积膜层。对于不需要沉积涂层的部位，需要额外的退膜工序。对于一些难于退膜的涂层材料，则需要对基材进行物理遮盖的方法进行保护，增加了工艺难度，不利于工业化生产。因此，亟需开发一种适用于物理气相沉积处理工艺，且在高温和真空条件下性能稳定的遮蔽涂料对基材不需要物理气相沉积涂层的部位进行保护。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于针对上述现有技术的不足，提供一种物理气相沉积用遮蔽涂料。该遮蔽涂料能够涂覆在基材不需要物理气相沉积涂层的部位形成不挥发、不脱落、不变质的遮蔽涂层，经过物理气相沉积处理后遮蔽涂层易于清理，同时能够一并去除掉基材保护部位的物理气相沉积涂层，使用方便，效果明显；该遮蔽涂料能够有效保护基材相关区域的表面不被沉积层污染，实现了物理气相沉积制备涂层时基材不同部位涂层的沉积与遮蔽。为解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案是一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成遮蔽剂10% 30%，粘接剂1% 5%，分散剂O. 1% O. 5%，余量为有机溶剂；所述遮蔽剂为碳酸钙、碳酸钡、二氧化钛、硫酸钡、氯化银、碳酸银、氢氧化银、氧化招、碳酸锌、氢氧化锌或氢氧化铁，所述分散剂为有机膨润土或/和气相二氧化硅，所述粘接剂为醇酸树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或多元醇松香酯，所述有机溶剂为酮类有机溶剂、酯类有机溶剂或芳香烃类有机溶剂。上述的一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成遮蔽剂15% 25%，粘接剂1% 5%，分散剂O. 1% O. 4%，余量为有机溶剂。上述的一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成遮蔽剂20%，粘接剂3%，分散剂O. 2%，余量为有机溶剂。上述的一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，所述酮类有机溶剂为丙酮，所述酯类有机溶剂为乙酸乙酯，所述芳香烃类有机溶剂为二甲苯或苯。另外，本专利技术还提供了一种制备上述物理气相沉积用遮蔽涂料的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤步骤一、按质量百分比分别称取遮蔽剂、粘接剂、分散剂和有机溶剂；步骤二、将步骤一中称取后的粘接剂加入称取后的有机溶剂中，混合均匀后得到粘接溶液；步骤三、将步骤一中称取后的遮蔽剂进行粉碎处理，然后加入步骤二中所述粘接溶液中，混合均匀后置于研磨机中研磨30min 40min，得到混合溶液；步骤四、将步骤一中称取后的分散剂加入步骤三中所述混合溶液中，混合均匀后得到物理气相沉积用遮蔽涂料。上述的方法，其特征在于，步骤三中经粉碎处理后的遮蔽剂的平均粒度不大于10 μ m0上述的方法，其特征在于，步骤三中所述研磨机为滚筒研磨机。 本专利技术物理气相沉积用遮蔽涂料的使用方法为将本专利技术物理气相沉积用遮蔽涂料采用浸涂、离心涂布或刷涂等方式涂覆在待沉积基材表面需遮蔽保护的部位，然后将涂覆有遮蔽涂料的基材进行物理气相沉积处理，之后将基材表面的遮蔽涂层进行清理，同时一并去除掉沉积于遮蔽涂层表面的沉积层。本专利技术与现有技术相比具有以下优点I、本专利技术物理气相沉积用遮蔽涂料能够涂覆在基材不需要物理气相沉积的部位，在物理气相沉积工艺的真空和高温条件下，该遮蔽涂料形成不挥发、不脱落、不变质的遮蔽涂层，待基材经过物理气相沉积处理后可对遮蔽涂层进行清理，同时一并去除掉基材保护部位的物理气相沉积涂层，使用方便，效果明显。2、本专利技术能够有效保护基材相关区域的表面不被沉积层污染，实现了物理气相沉积制备涂层时基材不同部位涂层的沉积与遮蔽。下面结合实施例对本专利技术作进一步详细说明。具体实施例方式实施例I本实施例遮蔽涂料由以下质量百分比的原料制成遮蔽剂20%，粘接剂3%，分散剂O. 2%，余量为有机溶剂；所述遮蔽剂为碳酸钙、碳酸钡、二氧化钛、硫酸钡、氯化银、碳酸银、氢氧化银、氧化招、碳酸锌、氢氧化锌或氢氧化铁，所述分散剂为有机膨润土，所述粘接剂为醇酸树脂，所述有机溶剂为乙酸乙酯。本实施例的制备方法包括以下步骤步骤一、按质量百分比分别称取遮蔽剂、粘接剂、分散剂和有机溶剂；步骤二、将步骤一中称取后的粘接剂加入称取后的有机溶剂中，混合均匀后得到粘接溶液；步骤三、将步骤一中称取后的遮蔽剂进行粉碎处理至平均粒度为7 μ m，然后将粉碎处理后的遮蔽剂加入步骤二中所述粘接溶液中，混合均匀后置于滚筒研磨机中研磨40min,得到混合溶液；步骤四、将步骤一中称取后的分散剂加入步骤三中所述混合溶液中，混合均匀后得到物理气相沉积用遮蔽涂料。实施例2本实施例遮蔽涂料由以下质量百分比的原料制成遮蔽剂15%，粘接剂5%，分散剂O. 1%，余量为有机溶剂；所述遮蔽剂为碳酸钙、碳酸钡、二氧化钛、硫酸钡、氯化银、碳酸银、氢氧化银、氧化铝、碳酸锌、氢氧化锌或氢氧化铁，所述分散剂为气相二氧化硅，所述粘接剂为聚甲基丙烯酸甲酯，所述有机溶剂为苯。本实施例的制备方法包括以下步骤步骤一、按质量百分比分别称取遮蔽剂、粘接剂、分散剂和有机溶剂；步骤二、将步骤一中称取后的粘接剂加入称取后的有机溶剂中，混合均匀后得到粘接溶液；步骤三、将步骤一中称取后的遮蔽剂进行粉碎处理至平均粒度为6 μ m，然后将粉碎处理后的遮蔽剂加入步骤二中所述粘接溶液中，混合均匀后置于滚筒研磨机中研磨30min,得到混合溶液；步骤四、将步骤一中称取后的分散剂加入步骤三中所述混合溶液中，混合均匀后 得到物理气相沉积用遮蔽涂料。实施例3本实施例遮蔽涂料由以下质量百分比的原料制成遮蔽剂25%，粘接剂1%，分散剂O. 4%，余量为有机溶剂；所述遮蔽剂为碳酸钙、碳酸钡、二氧化钛、硫酸钡、氯化银、碳酸银、氢氧化银、氧化铝、碳酸锌、氢氧化锌或氢氧化铁，所述分散剂由有机膨润土和气相二氧化硅按质量比1:1混合而成，所述粘接剂为多元醇松香酯，所述有机溶剂为乙酸乙酯。本实施例的制备方法包括以下步骤步骤一、按质量百分比分别称取遮蔽剂、粘接剂、分散剂和有机溶剂；步骤二、将步骤一中称取后的粘接剂加入称取后的有机溶剂中，混合均匀后得到粘接溶液；步骤三、将步骤一中称取后的遮蔽剂进行粉碎处理至平均粒度为10 μ m，然后将粉碎处理后的遮蔽剂加入步骤二中所述粘接溶液中，混合均匀后置于滚筒研磨机中研磨30min,得到混合溶液；步骤四、将步骤一中称取后的分散剂加入步骤三中所述混合溶液中，混合均匀后得到物理气相沉积用遮蔽涂料。实施例4本实施例遮蔽涂料由以下质量百分比的原料制成遮蔽剂30%，粘接剂2%，分散剂O. 2%，余量为有机溶剂；所述遮蔽剂为碳酸钙、碳酸钡、二氧化钛、硫酸钡、氯化银、碳酸银、氢氧化银、氧化铝、碳酸锌、氢氧化锌或氢氧化铁，所述分散剂由有机膨润土和气相二氧化硅按质量比1:2混合而成，所述粘接剂为醇酸树脂，所述有机溶剂为苯。本实施例的物理气相沉积用遮蔽涂料的制备方法包括以下步骤步骤一、按质量百分比分别称取遮蔽剂、粘接剂、分散剂和有机溶剂；步骤二、将步骤一中称取后的粘接剂加入称取后的有机溶剂中，混合均本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种物理气相沉积用遮蔽涂料，其特征在于，由以下质量百分比的原料制成：遮蔽剂10%～30%，粘接剂1%～5%，分散剂0.1%～0.5%，余量为有机溶剂；所述遮蔽剂为碳酸钙、碳酸钡、二氧化钛、硫酸钡、氯化银、碳酸银、氢氧化银、氧化铝、碳酸锌、氢氧化锌或氢氧化铁，所述分散剂为有机膨润土或/和气相二氧化硅，所述粘接剂为醇酸树脂、聚甲基丙烯酸甲酯或多元醇松香酯，所述有机溶剂为酮类有机溶剂、酯类有机溶剂或芳香烃类有机溶剂。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王宝云，李争显，王彦峰，高广睿，杜继红，华云峰，姬寿长，罗晓峰，
申请(专利权)人：西北有色金属研究院，
类型：发明
国别省市：
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