一种单分散二氧化硅粉体的合成装置制造方法及图纸

技术编号:8397968 阅读:199 留言:0更新日期:2013-03-08 11:49
一种单分散二氧化硅粉体的合成装置,包括反应釜、冷凝管和溶剂回收装置。反应釜上设有搅拌装置、加热装置、进料口、出料口和压力表,反应釜通过管道、冷凝管和管道与溶剂回收装置相连,冷凝管上部设有抽气口,溶剂回收装置下端通过加料管道与反应釜进料口相连。本实用新型专利技术具有如下优点:一是通过合成装置回收的溶剂可以循环使用,消除了有机溶剂对环境的污染;二是合成装置可以快速批量化制备单分散二氧化硅粉体。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于无机材料领域,涉及二氧化硅粉体的批量化、工业化合成装置,SP通过带有冷凝装置的反应釜制备单分散球形二氧化硅粒子的分散液。反应完成后,通过合成装置的冷凝系统将液体冷凝,冷凝后的液体可作为制备粉体的原料循环使用;同时,在反应釜的底部形成产物硅粉。
技术介绍
二氧化硅粉体在催化剂载体、药物释放、橡胶增强剂、建筑隔热保温等领域扮演着越来越重要的应用。随着我国经济的快速发展,二氧化硅粉体的需求日益增长。其中,特种二氧化硅的发展尤其迅猛,作为一种有着特殊应用的二氧化硅,单分散球形二氧化硅的研发、生产得到了长足的进步。单分散二氧化硅,是指粒径偏差小于5%的球形二氧化硅颗 材料、光子晶体等方面有着不可替代的特殊应用。目前,二氧化硅粉体的合成装置有气相反应炉、液相合成装置和固相反应炉等,但能够制备单分散球形二氧化硅粉体的合成装置是只有液相合成装置。液相合成装置包括液相反应釜、过滤装置和喷雾干燥装置等。该液相合成装置具有明显的缺点一是设备数量较多,多步制备,耗时较长;二是得到的单分散二氧化硅分散液浓度偏低,一般在1%_2%之间;三是多釜制备的过程损失了大量的挥发性溶剂,这不仅增大了能耗,而且本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单分散二氧化硅粉体的合成装置,包括反应釜、冷凝管和溶剂回收装置。反应釜上设有搅拌装置(6)、加热装置(3)、进料口(2)、出料口(11)和压力表(1),反应釜通过管道(5)、冷凝管(8)和管道(9)与溶剂回收装置(10)相连,冷凝管上部设有抽气口(7),溶剂回收装置下端通过加料管道(12)与反应釜进料口(2)相连。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王家松李建军潘金杰韩跃余勇雷卫武
申请(专利权)人:浩华科技实业有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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