常压等离子体喷射装置制造方法及图纸

本发明专利技术揭露了一种常压等离子体喷射(APPJ)装置，用于利用常压等离子体技术将二氧化碳转化为有机产物，其包括：内电极，由高导电性金属制成，且内电极具有绝缘层，绝缘层包覆内电极的一部分；第一导电金属壁，以预定距离环绕内电极，使内电极与第一导电金属壁之间形成腔体，且第一导电金属壁的一侧具有孔隙，以使反应物流入腔体；以及扩散单元，包括绝缘构件和导电金属构件，其中，绝缘构件设置于绝缘层的一侧，包覆内电极的另一部分并与孔隙相对，且导电金属构件还进一步包覆绝缘构件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术揭露了一种常压等离子体喷射装置，特别是揭露了一种利用常压等离子体技术将二氧化碳转化为有机产物的装置。
技术介绍
目前已知的等离子体技术已广泛应用于各产业，如：石化工业、光电与半导体产业、3C与汽车零组件产业、民生与食品业、生医材料产业等。但现今发展最为成熟的等离子体技术多在真空制程下进行，而有诸多缺点，如抽真空耗费时间、真空设备与维护费昂贵、物品尺寸受限于腔体大小、无法进行在线连续制程等。虽然在一个大气压下产生等离子体是最经济、最有效率的一种方式，但一般等离子体制程为使等离子体稳定的产生，系统必须操作在低压下。因此需要真空腔体和真空泵来维持低压的环境，不但成本提高、单位时间处理量大减，而且设备维护费用也高。比如说，真空泵一般怕强酸、强碱、微粒等，极易受损。因此若能在常压下产生稳定的等离子体就不再需要上述的真空设备，装置简化，操作及维修费用大大降低，此外其装置可不受真空腔体大小的限制，而且制程容易以连续式操作，可处理量也大幅提升。由于“常压等离子体技术”无本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种常压等离子体喷射装置，用于利用常压等离子体技术将二氧化碳转化成有机产物，其特征在于，它包括：内电极，由高导电性金属制成，且所述内电极具有绝缘层，所述绝缘层包覆所述内电极的一部分；第一导电金属壁，以预定距离环绕所述内电极，使所述内电极与所述第一导电金属壁之间形成腔体，且所述第一导电金属壁的一侧具有孔隙，以使反应物流入所述腔体；以及扩散单元，包括绝缘构件和导电金属构件，所述绝缘构件设置在所述绝缘层的一侧，包覆所述内电极的另一部分且与所述孔隙相对，且所述导电金属构件还进一步包覆所述绝缘构件。

【技术特征摘要】
2011.08.24 TW 1001303991.一种常压等离子体喷射装置，用于利用常压等离子体技术将二氧化碳
转化成有机产物，其特征在于，它包括：
内电极，由高导电性金属制成，且所述内电极具有绝缘层，所述绝缘层
包覆所述内电极的一部分；
第一导电金属壁，以预定距离环绕所述内电极，使所述内电极与所述第
一导电金属壁之间形成腔体，且所述第一导电金属壁的一侧具有孔隙，以使
反应物流入所述腔体；以及
扩散单元，包括绝缘构件和导电金属构件，所述绝缘构件设置在所述绝
缘层的一侧，包覆所述内电极的另一部分且与所述孔隙相对，且所述导电金
属构件还进一步包覆所述绝缘构件。
2.如权利要求1所述的常压等离子体喷射装置，其特征在于，还包括等
离子体供应装置，其与所述内电极连接。
3.如权利要求1所述的常压等离子体喷射装置，其特征在于，所述内电
极包含钨。
4.如权利要求1所述的常压等离子体喷射装置，其特征在于，还包括接
地电极，设置在所述第一导电金属壁的一部分处。
5.如权利要求1所述的常压等离子体喷射装置，其特征在于，还包括外
壳，其包覆所述绝缘层，且用以固定及调整所述内电极的水平位移。
6.如权利要求1所述的常压等离子体喷射装置，其特征在于，所述反应
物为二氧化碳、水及烷类化合物。
7.如权利要求6所述的常压等离子体喷射装置，其特征在于，所述烷类
化合物包括甲烷。
8.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨长谋，张濬智，谈骏嵩，
申请(专利权)人：杨长谋，
类型：发明
国别省市：