处理系统及处理方法技术方案

本发明专利技术提供一种处理系统及处理方法，该处理系统具备：收纳部，收纳被处理物；处理部，对所述被处理物实施处理；承载部，在层叠方向上隔着第1间隔具有多个承载所述被处理物的保持部；第1搬送部，在所述收纳部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的第1位置进入所述承载部；及第2搬送部，在所述处理部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的与所述第1位置不同的第2位置进入所述承载部。而且，所述第1位置夹着所述第2位置在所述层叠方向上设置有2处，所述第1搬送部与所述第2搬送部可以同一时侯进入所述承载部。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术的实施方式涉及一种。
技术介绍
在半导体装置、平板显示器等的制造中，公知有具备将被处理物(例如晶片、玻璃基板等)一个一个地处理的多个单晶片式处理部的处理系统。而且，公知有如下处理系统，其具备承载部(缓冲部)，设置在收纳被处理物的收纳部与多个处理部之间;第I搬送部，在收纳部与承载部之间进行被处理物的搬送；及第2搬送部，在多个处理部与承载部之间进行被处理物的搬送(例如参照专利文献I)。 而且，为了缩短第I搬送部及第2搬送部的等待时间，公开有第I搬送部与第2搬送部可以各自独立地对承载部进行接收动作或者交接动作的处理系统(例如参照专利文献2)。在专利文献2所记载的处理系统中，预先设定的收纳处理前的基板的区域与收纳处理后的基板的区域各设置有一个。而且，在每个区域中，从位于下方的保持部开始按顺序使用于被处理物的接收或者交接。因此，第I搬送部及第2搬送部中的某一个则产生等待时间。专利文献I :日本国特开平5-326666号公报专利文献2 :日本国特开平9-74126号公报
技术实现思路
本实施方式涉及的处理系统具备收纳部，收纳被处理物；处理部，对所述被处理物实施处理；承载部，在层叠方向上隔本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种处理系统，其特征为，具备：收纳部，收纳被处理物；处理部，对所述被处理物实施处理；承载部，在层叠方向上隔着第1间隔具有多个承载所述被处理物的保持部；第1搬送部，在所述收纳部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的第1位置进入所述承载部；及第2搬送部，在所述处理部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的与所述第1位置不同的第2位置进入所述承载部，所述第1位置夹着所述第2位置在所述层叠方向上设置有2处，所述第1搬送部与所述第2搬送部可以同一时侯进入所述承载部。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：古矢正明，田内丰泰，
申请(专利权)人：芝浦机械电子株式会社，
类型：发明
国别省市：