去除器件上的碱性溶液的方法及设备技术

本发明专利技术提供一种在湿制程中利用风刀去除器件上的碱性溶液的方法。所述方法包括在将压缩空气送入风刀之前，处理所述压缩空气使其到达预设温度，其中所述风刀向器件排出空气以有效去除器件上的碱性溶液。本发明专利技术还提供相应的设备。根据本发明专利技术，风刀可以在更长的时间保持畅通不堵塞。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及湿制程，更具体地，涉及湿制程中对残留在器件上的碱性溶液的处理。
技术介绍
湿制程中，扩散前的清洗(下称前清洗)和扩散后的清洗(下称后清洗)都涉及利用碱性溶液清洗器件。以太阳电池为例，对晶体硅的处理就包括前清洗和后清洗。前清洗的制绒，目的在于去除硅片表面机械损伤层；清除表面的油污和金属杂质；减少光的反射、增强硅片对太阳光的吸收，提高光生电流密度，从而提高太阳电池的转换效率。简单地说，制绒就是利用低浓度碱溶液对晶体硅在不同晶体取向上具有不同腐蚀速率的各向异性腐蚀特性，在硅片表面腐蚀，进而形成角锥体密布的表面形貌。经过制绒处理的硅片，如不能在其进入后续酸洗工艺之前，将其表面吹干，则一方面会造成化学品的串槽，另一方面由于碱容易结晶的物理特性，容易在硅片上形成大量色斑或小白条。同样地，后清洗过程中，如不能对硅片上的碱性物质进行较好处理，会出现类似问题。目前，一般是通过风刀来吹干硅片上的碱性残留物。风刀一般包括刀管、进气口、以及出气口。压缩空气由进气口进入风刀管，再由出气口吹到硅片上，从而吹干残留在硅片上的碱性溶液。但是，这种常规的借助压缩空气通过风刀吹干碱性残留物的方法，易出现风刀堵塞现象。在风刀堵塞的情况下，硅片上的碱性残留物便无法被有效地去除，从而会出现如上所述的化学品串槽、及硅片上形成大量色斑或白条等情况。
技术实现思路
为有效解决上述及其它问题，本专利技术提供一种在湿制程中利用风刀去除器件上的碱性溶液的方法，以有效去除太阳电池硅片及其它湿制程处理中器件上的碱性溶液。所述方法包括在将压缩空气送入风刀之前，处理所述压缩空气使其到达预设温度，其中所述风 刀向器件排出空气。优选地，所述方法中，所述压缩空气进入风刀之前，加热所述压缩空气使其到达预设温度。本专利技术还提供一种在湿制程中去除器件上的碱性溶液的设备，所述设备包括具有风刀管和进气接头的风刀，其中，所述设备还包括在压缩空气进入风刀之前处理所述压缩空气使其到达预设温度的空气温度调节器。优选地，所述设备中，所述空气温度调节器为空气加热器，以将压缩空气加热到预设温度。优选地，所述方法和所述设备中，预设温度在40° C到50° C之间；更优选为45。C。优选地，所述方法和所述设备中，所述器件为晶片、电子电路器件；其中，所述晶片优选为娃片。与常规技术相比，使用本专利技术所述的方法和/或利用本专利技术所述的设备，可使风刀的畅通状态保持更多时间。附图说明图I是根据本专利技术所述的用于在湿制程中去除器件上的碱性溶液的设备的示意图。具体实施例方式以下结合具体实施方式来阐述本专利技术，需要说明的是，以下实施方式及任何示例都是示意性而非限制性的。本领域技术人员可以理解到，结合本专利技术的以下描述，可对本专利技术所述的丝网印刷设备进行修改和变形，而不脱离本专利技术的精神与范围。图I是根据本专利技术所述的设备的示意图，该设备用于在湿制程中去除器件上的碱性溶液。如图所示，该设备包括空气温度调节器20，风刀10，以及连接空气温度调节器20与风刀10的管路201。空气温度调节器20接收传送来的压缩空气，并对其进行处理，以使·其温度为预设温度。之后，空气温度调节器20通过管路201将预设温度的压缩空气送入风刀10，其中，管路201通过风刀10的进气口(未图示)与风刀管(未图示)接通。风刀10将随后将空气吹向器件，以将器件上的碱性溶液吹干。在此，所述器件可以是晶片，例如硅片；也可以是电子器件，例如印刷电路板等。该预设温度优选在40° C到50° C之间，更优选为45° C。本例中，该第一温度可为常规技术中压缩空气的温度，例如17° C，也可以是其它温度。在压缩空气的温度低于预设温度的情况下，将空气从第一温度加热到预设温度，如此，空气温度调节器20可以是空气加热器。在不使用本专利技术所述的设备的情况下，将例如17° C的压缩空气直接输送到风刀，则风刀12小时左右就会发生堵塞现象；相比之下，使用本专利技术所述的设备，压缩空气从17° C被加热到例如45° C，再输送到风刀，便可使输送压缩空气的风刀168小时保持畅通而不堵塞。风刀10例如可以是本申请人所申请的名称为“用于太阳电池湿制程中的风刀、风刀组及设备”、专利授权公告号为CN201832809U中所公开的风刀，在此，以参考引用的方式将该申请并入本申请。风刀10也可以例如为授权公告号为CN2913995Y中所公开的风刀。本专利技术所提供的在湿制程中利用风刀去除器件上的碱性溶液的方法，可应用于如图I所示意的设备，但不以此为限。该方法包括对压缩空气进行处理，使其从第一温度到达预设温度；其中该第一温度可以是常规技术中压缩空气的温度，如17° C，也可以是其它温度。随后，温度被处理到预设温度的压缩空气被送入风刀，由风刀面向器件排出，从而吹干器件上的碱性溶液。根据本专利技术，所述器件可以是晶片，例如硅片；也可以是电子器件，例如印刷电路板等。而优选地，预设温度在40° C到50° C之间，更优选地，预设温度为45° C。在对压缩空气进行处理使其温度达到预设温度的过程中，如果压缩空气的第一温度低于预设温度(例如为如上所述的17° C)，则对加热该压缩空气使其到达预设温度；反之则降低该压缩空气的温度使其到达预设温度。权利要求1.一种在湿制程中利用风刀去除器件上的碱性溶液的方法，所述方法包括将压缩空气送入风刀，由风刀向器件排出空气，其特征在于，在所述压缩空气进入风刀之前，处理所述压缩空气使其到达预设温度。2.根据权利要求I所述的方法，其特征在于，所述预设温度在40°C到50° C之间。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预设温度为45°C。4.根据权利要求I所述的方法，其特征在于，所述器件为晶片、电子电路器件。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述晶片为硅片。6.根据权利要求I所述的方法，其特征在于，在所述压缩空气进入风刀之前，加热所述压缩空气使其到达预设温度。7.—种在湿制程中去除器件上的碱性溶液的设备，所述设备包括具有风刀管和进气接头的风刀，其特征在于，所述设备还包括在压缩空气进入风刀之前处理所述压缩空气使其到达预设温度的空气温度调节器。8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述预设温度在40°C到50° C之间。9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，所述预设温度为45°C。10.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述器件为晶片、电子电路器件。11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于，所述晶片为硅片。12.根据权利要求7所述的设备，其特征在于，所述空气温度调节器为空气加热器。全文摘要本专利技术提供一种在湿制程中利用风刀去除器件上的碱性溶液的方法。所述方法包括在将压缩空气送入风刀之前，处理所述压缩空气使其到达预设温度，其中所述风刀向器件排出空气以有效去除器件上的碱性溶液。本专利技术还提供相应的设备。根据本专利技术，风刀可以在更长的时间保持畅通不堵塞。文档编号F26B21/00GK102954676SQ201110246139公开日2013年3月6日 申请日期2011年8月25日 优先权日2011年8月25日专利技术者高琦, 蔡淘璞, 唐伟荣, 赵玉林 申请人:无锡尚德太阳能电力有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在湿制程中利用风刀去除器件上的碱性溶液的方法，所述方法包括将压缩空气送入风刀，由风刀向器件排出空气，其特征在于，在所述压缩空气进入风刀之前，处理所述压缩空气使其到达预设温度。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：高琦，蔡淘璞，唐伟荣，赵玉林，
申请(专利权)人：无锡尚德太阳能电力有限公司，
类型：发明
国别省市：