光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术具备：多个掩模图案(2)，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记(4)，其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构，相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在一对细线(4a、4b)间的基准位置在与基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，一对细线(4a、4b)具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成。由此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及跟随在一定方向上搬运的基板而使光选择性地照射到基板上的多个位置的光掩模，详细地说，涉及在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好的光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置。
技术介绍
现有的这种光掩模具备多个掩模图案，其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及一个对准标记，其形成为各具备一对细线的结构，形成在相对于多个掩模图案在与基板搬运方向相反的方向上分开一定距离的位置，上述一对细线具有与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与基板搬运方向平行地形成(例如，参照专利文献I)。·现有技术文献_4] 专利文献专利文献I :特开2008-216593号公报
技术实现思路
_6] 专利技术要解决的问题但是，在这样的现有的光掩模中，对准标记的平行于基板搬运方向的一对细线的间隔与设置在基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍的大小相等，因此，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，有时对准标记的上述一对细线与基板上的图案的平行于基板搬运方向的缘部干扰而难以检测，不能够准确地检测出对准标记的基准位置。因此，有如下可能对光掩模的基板的跟随性能下降，不能够使光精度良好地照射到基板上的目标位置。因此，本专利技术的目的在于，针对这样的问题，提供在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，也会使对移动中的基板的跟随性变得良好的光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置。_9] 用于解决问题的方案为了达成上述目的，根据第I专利技术的光掩模使光选择性地照射到在一定方向上搬运的基板上的多个位置，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述光掩模具备多个掩模图案，其在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及多个对准标记，其形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在上述一对细线间的基准位置在与上述基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，上述一对细线具有与设置在上述基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与上述基板搬运方向平行地形成。 根据这样的构成，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射光的情况下，从在基板搬运方向上相互分开一定距离而配置的多个对准标记中选择适当的一个对准标记，减小对准标记的平行于基板搬运方向的一对细线与设置于基板的图案的平行于基板搬运方向的两个缘部的干扰。另外，在上述多个对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于上述基板的基准位置已对位的状态下，上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于上述基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置。由此，在各对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于基板的基准位置已对位的状态下，将上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置，进一步减小该一对细线与设置于基板的图案的平行于基板搬运方向的两个缘部的干扰。而且，与上述各掩模图案对应地在上述基板侧形成有多个微透镜。由此，由与各掩 模图案对应地在基板侧形成的多个微透镜将光聚敛到基板上。并且，上述多个掩模图案在基板搬运方向及其交叉方向上以一定的排列间距形成为矩阵状。由此，穿过在基板搬运方向及其交叉方向上以一定的排列间距形成为矩阵状的多个掩模图案而将光照射到基板上的多个位置。另外，根据第2专利技术的激光退火装置进行在一定方向上搬运的基板和与该基板相对配置的光掩模的对位来对上述基板上的多个位置选择性地照射激光，对形成于上述基板的薄膜进行退火处理，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述激光退火装置具备掩模载置台，其保持光掩模，并且能使上述光掩模在基板搬运方向上移动来从多个对准标记中选择一个对准标记，上述光掩模设置有多个掩模图案和上述多个对准标记，上述多个掩模图案在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使激光通过，上述多个对准标记形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在上述一对细线间的基准位置在与上述基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，上述一对细线具有与设置在上述基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与上述基板搬运方向平行地形成；线阵相机，其使细线状的受光部的长边方向中心轴与从上述光掩模的多个对准标记中选择的对准标记的在与上述基板搬运方向交叉的方向上的中心线一致而配置；以及对准单元，其以上述被选择的对准标记的基准位置与预先设定于上述基板的基准位置的位置关系成为预先决定的关系的方式，将上述基板与上述光掩模在与上述基板搬运方向交叉的方向上相对地移动。根据这样的构成，在对同种基板的在与基板搬运方向交叉的方向上偏移的位置照射激光来进行退火处理的情况下，将掩模载置台在基板搬运方向上移动来从在基板搬运方向上相互分开一定距离而配置的多个对准标记中选择适当的一个对准标记，由线阵相机对对准标记的平行于基板搬运方向的一对细线与基板上的基准位置进行拍摄，基于该拍摄图像，以上述对准标记的基准位置与基板的基准位置的位置关系成为预先决定的关系的方式，利用对准单元将基板与光掩模在与基板搬运方向交叉的方向上相对地移动。而且，在设置于上述光掩模的上述多个对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于上述基板的基准位置已对位的状态下，上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于上述基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置。由此，在各对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于基板的基准位置已对位的状态下，将上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置，进一步减小该一对细线与设置于基板的图案的平行于基板搬运方向的两个缘部的干扰。并且，上述光掩模，与上述各掩模图案对应地在上述基板侧形成有多个微透镜。由此，由与各掩模图案对应地在基板侧形成的多个微透镜将激光聚敛到基板上。另外，根据第3专利技术的曝光装置进行在一定方向上搬运的基板和与该基板相对配置的光掩模的对位来对上述基板上的多个位置选择性地照射紫外线，对涂敷在上述基板上的感光材料进行曝光，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述曝光装置具备掩模载置台，其保持光掩模，并且能使上述光掩模在基板搬运方向上移动来从多个对准标记中选择一个对准标记，上述光掩模设置有多个掩模 图案和上述多个对准标记，上述多个掩模图案在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使紫外线通过，上述多个对准标记形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.06.17 JP 2010-1379761.一种光掩模， 使光选择性地照射到在一定方向上搬运的基板上的多个位置，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述光掩模的特征在于设置有 多个掩模图案，其在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使光通过；以及 多个对准标记，其形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在上述一对细线间的基准位置在与上述基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，上述一对细线具有与设置在上述基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与上述基板搬运方向平行地形成。2.根据权利要求I所述的光掩模，其特征在于， 在上述多个对准标记中的被选择的一个对准标记的基准位置与设定于上述基板的基准位置已对位的状态下，上述被选择的对准标记的一对细线以与设置于上述基板的像素的平行于基板搬运方向的中心线大致一致的方式配置。3.根据权利要求I所述的光掩模，其特征在于， 与上述各掩模图案对应地在上述基板侧形成有多个微透镜。4.根据权利要求I至3中的任一项所述的光掩模，其特征在于， 上述多个掩模图案在基板搬运方向及其交叉方向上以一定的排列间距形成为矩阵状。5.一种激光退火装置， 进行在一定方向上搬运的基板和与该基板相对配置的光掩模的对位来对上述基板上的多个位置选择性地照射激光，对形成于上述基板的薄膜进行退火处理，在上述基板的表面上设置有多个图案，该多个图案以一定的排列间距设置为矩阵状，上述激光退火装置的特征在于具备 掩模载置台，其保持光掩模，并且能使上述光掩模在基板搬运方向上移动来从多个对准标记中选择一个对准标记，上述光掩模设置有多个掩模图案和上述多个对准标记，上述多个掩模图案在与上述基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成，使激光通过，上述多个对准标记形成为各具备一对细线的结构，相对于上述多个掩模图案配置在与上述基板搬运方向相反一侧的位置，在基板搬运方向上相互分开一定距离，并且形成为预先设定在上述一对细线间的基准位置在与上述基板搬运方向交叉的方向上相互偏离预先决定的距离的状态，上述一对细线具有与设置在上述基板上的多个图案的在与基板搬运方向交叉的方向上的排列间距的整数倍相等的间隔，与上述基板搬运方向平行地形成； 线阵相机，其使细线状的受光部的长边方向中心轴与从上述光掩模的多个对准标记中选择的对准标记的在与上述...

【专利技术属性】
技术研发人员：畑中诚，岩本正实，桥本和重，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：
国别省市：