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光掩模和使用它的激光退火装置以及曝光装置制造方法及图纸
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文档序号:8369098
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本发明具备:多个掩模图案(2),其在与基板的搬运方向交叉的方向上以一定的排列间距形成,使光通过;以及多个对准标记(4),其形成为各具备一对细线(4a、4b)的结构,相对于多个掩模图案2配置在与基板搬运方向相反一侧的位置,在基板搬运方向上相互...
该专利属于株式会社V技术所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社V技术授权不得商用。
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