【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及传感器制造领域，尤其涉及。
技术介绍
环形合成膜电位计在制作过程中，需要对环形电阻膜片进行修刻，以使所述环形合成膜电位计的刻度精准。目前，对所述环形电阻膜片的修刻普遍采用的是边测量边修刻的方式，按照供电方式的不同可以分为两种，一种是恒压源供电，另一种是恒流源供电。但是，在恒压源供电的修刻过程中，电刷的接触电阻会被弓I入整体电路中，从而影响测量精度。在恒流源供电的修刻过程中，电刷始终与碳膜接触，产生的震动会使得电刷与碳膜的接触不牢靠，因而影响测量的准确性。可见，目前国内的电位计修刻的技术都会影响到测量的准确性。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术提供，以解决现有技术中修刻技术影响测量的准确性的问题，其具体方案如下，所述环形电阻膜片处于恒流源供电系统中，所述方法包括确定所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界；将所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界之间的区域作为修刻区域；在所述修刻区域上选取修刻点；修刻头沿所述修刻点切入所述环形电阻膜片表面的碳粉层，并检测环形电阻膜片的总电压；比较所述环形电阻膜片的总电压和预设的总电压；当所述环形电阻膜片的总电压与预设...
【技术保护点】
一种环形电阻膜片修正方法，其特征在于，所述环形电阻膜片处于恒流源供电系统中，所述方法包括：确定所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界；将所述环形电阻膜片的中心零点位置和碳膜边界之间的区域作为修刻区域；在所述修刻区域上选取修刻点；修刻头沿所述修刻点切入所述环形电阻膜片表面的碳粉层，并检测环形电阻膜片的总电压；比较所述环形电阻膜片的总电压和预设的总电压；当所述环形电阻膜片的总电压与预设的总电压相等时，停止修刻点的切入。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：左湘汉，王惠峰，濛淑红，王广林，曾好，
申请(专利权)人：中国航天科技集团公司烽火机械厂，
类型：发明
国别省市：
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