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本发明公开了环形电阻膜片的修正方法，通过修刻头切入环形电阻膜片表面的碳粉层，使碳粉层的厚度发生变化，从而使环形电阻膜片的总电压发生变化，当环形电阻膜片的总电压与预设的总电压相等时，停止切入，完成该点的修刻过程。利用本方法，引入总电压反馈算法...
该专利属于中国航天科技集团公司烽火机械厂所有，仅供学习研究参考，未经过中国航天科技集团公司烽火机械厂授权不得商用。

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