【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造领域，具体涉及一种化学药液分配装置。
技术介绍
在半导体硅片湿法清洗工艺中会用到各种化学药液，这些化学药液或呈酸性、碱性或者具有强烈的腐蚀性，又或者粘度较高、易挥发，某些化学药液可能因为造价高等问题还要求在使用寿命内循环使用。若某化学药液粘度较高并易挥发而且还可循环使用，则该化学药液会因为粘度高在管路中流动困难，难以达到工艺所需的压力和流量；因为易挥发会影响其组分的配比且会增加其粘度，而且因为可以循环使用，所以在工艺过后需流回化学药液存储装置，这更加剧了该化学药液的挥发，从而进一步增加其粘度，严重影响了工艺效果。目前，相关的半导体工艺设备解决上述问题是采用如图I中所示的装置。由于该化学药液可循环利用，在进入工艺腔室完成工艺后还需进行回收，因此需要一个专门的储存容器1，储存容器I可以存储一定量的化学药液，既可以完成工艺开始前的准备工作，工艺完成后还可以继续存储回收的化学药液。工艺开始时，首先打开第四气动阀6向储存容器中注入一定量的化学药液，关闭第四气动阀6 ;第一气动阀3打开,化学药液在循环泵2 的作用进入工艺管路，由于该化学药液粘度较高，...
【技术保护点】
一种化学药液分配装置，其特征在于，包括：储存容器（1），其内部储存化学药液，其顶部设置有注液入口和回液入口，其底部设置有与循环泵（2）的输入端连接的出液口；采样阀（12），其为三通阀，其输入端连接循环泵（2）的输出端，采样端连接热水注入通道（11），输出端连接气动三通阀（8）的输入端；气动三通阀（8），其第一输出端连接储存容器（1）的回液入口，第二输出端连接工艺单元（9）的输入端，所述工艺单元（9）的输出端连接所述储存容器（1）的回液入口。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王营营，何金群，初国超，裴立坤，贾星杰，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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