【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及使氧化锌等金属氧化物的薄膜、氮化镓、氮化铝等金属氮化物的薄膜、和硅氮化物的薄膜等堆积于基板的堆积装置。
技术介绍
作为在各种基板上堆积氧化锌等金属氧化物、和氮化镓、氮化铝等的金属氮化物等的金属化合物薄膜的方法，提案有多个方法，包括脉冲激光堆积法(PLD)、激光烧蚀法、以及溅射法等物理气相蒸镀法(PVD)、以及有机金属化学气相堆积法(M0CVD)、等离子体增 强气相堆积法(等离子体CVD)等化学气相蒸镀法(CVD)。(例如，参照专利文献广5)专利文献I:特开2004 - 244716号公报专利文献2:特开2000 - 281495号公报专利文献3:特开平6 - 128743号公报专利文献4:特开2004 - 327905号公报专利文献5:特开2004 - 103745号公报
技术实现思路
在上述PVD中，使激光、高速微粒子等在预先准备的目标物上冲撞，使由目标物表面生成的目标物微粒子堆积于基板。另外，在MOCVD中，使有机金属化合物等与氢化合物气体一起与加热到高温的基板接触，利用在其表面发生的热分解反应，在基板上堆积膜。而在等离子体CVD中，通过高频电力激...
【技术保护点】
一种堆积装置，其特征在于，具备：催化反应装置，含有：导入第1原料气体的导入部，和收容从所述导入部所导入的所述第1原料气体生成反应性气体的催化剂的、催化剂容器，和从所述催化剂容器喷出所述反应性气体的反应性气体喷出部，所述反应性气体喷出部含有：内径沿着所述反应性气体的喷出方向变小的缩径部、和内径沿着所述喷出方向变大的扩径部；支持基板的基板支持部；以及供给第2原料气体的供给部，所述第2原料气体与从所述反应性气体喷出部喷出的所述反应性气体反应，使膜堆积于所述基板。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：安井宽治，西山洋，井上泰宣，三浦仁嗣，
申请(专利权)人：国立大学法人长冈技术科学大学，东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：
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