一种钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构制造技术

技术编号:8280816 阅读:166 留言:0更新日期:2013-01-31 21:32
本实用新型专利技术公开了一种钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,包括钕铁硼磁体本体,在所述钕铁硼磁体本体的表面上设有电镀与化学镀的复合镀层,所述复合镀层包括依次排列的底层镍层、碱性铜层、过渡镍层、镍磷合金层和表层镍层,所述底层镍层附着在所述钕铁硼磁体本体的表面上。本实用新型专利技术能够提高钕铁硼磁体的耐蚀性、耐磨性以及硬度,适用于制造在耐蚀性、耐磨性以及硬度方面要求较高的产品。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种复合镀层结构,特别涉及一种钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构
技术介绍
钕铁硼磁性材料是钕、氧化铁等的合金,又称磁钢,作为稀土永磁材料发展的最新结果,由于其优异的磁性能而被称为“磁王”。钕铁硼具有独特的高磁能积、高矫顽力、高剩磁特性,以及良好的机械加工性能和相对低廉的价格,这些优点使钕铁硼永磁材料在现代工业和电子技术中获得了广泛应用,从而使仪器仪表、电声电机、磁选磁化等设备实现了小 型化、轻量化、薄型化。钕铁硼磁性材料已经进入国民经济各产业,尤其是在电子和汽车工业,已成为一种不可替代的基础材料。其种类繁多,广泛用于电子、汽车、计算机、电力、机械、能源、环保、国防、医疗器械等众多领域,又是节能、节材、节汇及出口创汇的产品,带动着各行业的发展,属国家鼓励发展的新材料。其不足之处在于居里温度点低,温度特性差,且化学稳定性差,在日常使用条件下容易发生氧化,严重时会发生电化学腐蚀,另外,钕铁硼磁体多采用粉末冶金工艺生产,内部存在微小孔隙与空洞,在大气中易吸附氧气,使稀土元素氧化,破坏合金组分,而材料腐蚀或组分破坏后,日久造成磁性能衰减直至丧失,从而降低由钕铁硼磁体制造的元件或装置的使用性能和寿命,必须通过调整其化学成分和采取表面处理方法使之得以改进,才能达到实际应用的要求。目前,钕铁硼磁铁的表面常见的处理方法为镀锌(包括彩锌、蓝白锌等)、镀镍、镀铜以及烤漆等,这些表面处理方法多为钕铁硼磁铁表面电镀或涂覆一层或双层保护层,但这种单层或双层的镀层等保护结构,尚不能彻底防止钕铁硼磁体被氧化及化学腐蚀,其耐磨性和硬度性能仍较低,不能满足一些产品的高耐蚀性、高耐磨性以及高硬度的要求。
技术实现思路
本技术为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种提高耐蚀性、耐磨性以及硬度的钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构。本技术为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是一种钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,包括钕铁硼磁体本体,在所述钕铁硼磁体本体的表面上设有电镀与化学镀的复合镀层,所述复合镀层包括依次排列的底层镍层、碱性铜层、过渡镍层、镍磷合金层和表层镍层,所述底层镍层附着在所述钕铁硼磁体本体的表面上。本技术还可以采用如下技术方案所述过渡镍层为暗镍层或半光亮镍层。所述镍磷合金层为化学镀镍磷合金层或电镀镍磷合金层。所述镍磷合金层中的磷的重量百分比含量为8_12%。所述表层镍层为半光亮镍层或光亮镍层。所述表层镍层可含有微量硫和磷,其中磷的重量百分比含量为<6%,硫的重量百分比含量为O. 01-0. 08%。本技术具有的优点和积极效果是将非晶态镍磷(Ni-P)合金作为五层组合镀层中的一层,铜层作为封闭层,表层镍层可含有微量硫和磷,其作用为提供一个合适的电位差和外观,通过采用依次排列的底层镍层、碱性铜层、过渡镍层、镍磷合金层和表层镍层的复合镀层结构,使组合镀层协同作用,提高耐蚀性、耐磨性以及硬度,从而提高了稀土永磁器件的可靠性和耐用年限,复合镀层的盐雾试验可达120小时以上。附图说明图I是本技术的结构示意图。图中1、钕铁硼磁体本体,2、底层镍层,3、碱性铜层,4、过渡镍层,5、镍磷合金层,6、表层镍层。具体实施方式为能进一步了解本技术的
技术实现思路
、特点及功效,兹例举以下实施例,并配合附图详细说明如下请参见图I,一种钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,包括钕铁硼磁体本体1,在所述钕铁硼磁体本体I的表面上设有电镀与化学镀的复合镀层,所述复合镀层包括依次排列的底层镍层2、碱性铜层3、过渡镍层4、镍磷合金层5和表层镍层6,所述底层镍层2附着在所述钕铁硼磁体本体I的表面上。其中所述过渡镍层4可为暗镍层或半光亮镍层,其典型厚度可为3-10μπι。所述镍磷合金层5可为化学镀镍磷合金层或电镀镍磷合金层,其厚度可为2-6 μ m0所述镍磷合金层5中的磷的重量百分比含量可为8-12%。所述表层镍层6可为半光亮镍层或光亮镍层,其厚度可为1_5μπι。所述表层镍层6可含有微量硫和磷,其中磷的重量百分比含量可为< 6%,硫的重量百分比含量可为O. 01-0. 08%。权利要求1.一种钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,包括钕铁硼磁体本体,其特征在于,在所述钕铁硼磁体本体的表面上设有电镀与化学镀的复合镀层,所述复合镀层包括依次排列的底层镍层、碱性铜层、过渡镍层、镍磷合金层和表层镍层,所述底层镍层附着在所述钕铁硼磁体本体的表面上。2.根据权利要求I所述的钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,其特征在于,所述过渡镍层为暗镍层或半光亮镍层。3.根据权利要求I所述的钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,其特征在于,所述镍磷合金层为化学镀镍磷合金层或电镀镍磷合金层。4.根据权利要求I所述的钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,其特征在于,所述表层镍层为半光亮镍层或光亮镍层。专利摘要本技术公开了一种钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,包括钕铁硼磁体本体,在所述钕铁硼磁体本体的表面上设有电镀与化学镀的复合镀层,所述复合镀层包括依次排列的底层镍层、碱性铜层、过渡镍层、镍磷合金层和表层镍层,所述底层镍层附着在所述钕铁硼磁体本体的表面上。本技术能够提高钕铁硼磁体的耐蚀性、耐磨性以及硬度,适用于制造在耐蚀性、耐磨性以及硬度方面要求较高的产品。文档编号C23C28/02GK202702728SQ20122015210公开日2013年1月30日 申请日期2012年4月12日 优先权日2012年4月12日专利技术者陈治 申请人:天津市日达成稀土科技有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种钕铁硼磁体表面电镀与化学镀复合镀层结构,包括钕铁硼磁体本体,其特征在于,在所述钕铁硼磁体本体的表面上设有电镀与化学镀的复合镀层,所述复合镀层包括依次排列的底层镍层、碱性铜层、过渡镍层、镍磷合金层和表层镍层,所述底层镍层附着在所述钕铁硼磁体本体的表面上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈治
申请(专利权)人:天津市日达成稀土科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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