涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品制造技术

本发明专利技术公开了一种涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品。涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有：R1基团，由作为式1的[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；R2基团，由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数。

【技术实现步骤摘要】
涂覆组合物、抗指印薄膜及电子产品本申请要求于2011年7月27日提交到韩国知识产权局的第10-2011-0074459号韩国专利申请的权益，该韩国专利申请的公开通过引用包含于此。
本专利技术实施例涉及一种耐久性优异的抗指印涂覆组合物及一种使用该抗指印涂覆组合物形成的薄膜。
技术介绍
电子产品显示器的表面(例如，TV的屏幕、PC或笔记本显示器的屏幕、诸如蜂窝电话或PDA的移动设备的屏幕或电子产品的触摸面板)容易被指印或脸部组分(诸如油脂或蛋白质)弄脏。因此，这些脏点对肉眼显著可见，并且在呼叫过程中与用户的手或脸接触时，显示器变脏。因此，结合了通过在显示器的表面上形成防水防油的含氟薄膜或用防水硅树脂架涂覆显示器的表面来形成抗指印涂覆层的方法。然而，这些方法不能防止油脂(指印的主成分)的粘附，并且不得不清洁指印。出于此原因，存在于产品表面上的指印使其外观变脏，并且当反复清洁时，与耐久性相关的问题(其中，薄涂覆膜的寿命仅为几个月)会发生。
技术实现思路
在下面的描述中将部分地阐述附加方面和/或优点，部分通过描述将是明显的，或者可以通过本专利技术的实践获知。因此，本公开的一方面提供了一种涂覆组合物及使用该涂覆组合物的涂覆薄膜，该涂覆组合物能够防止粘附到显示器或触摸面板的指印显著可见并因优异的耐久性而长时间地维持抗指印性能。根据本公开的一方面，一种涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有：R1基团，由作为式1的[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；以及R2基团，由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基；q是1至3的整数。R1基团可以是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组选择的至少一种。R2基团可以是从由3-环戊二烯基丙基、二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。硅烷低聚物可以具有100至10000的分子量。使用硅烷低聚物形成的薄膜对水可以具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷可以具有0度至45度的接触角。根据另一方面，一种涂覆组合物包括：按重量计45％至49.5％的具有由式1[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示的R1基团的硅烷化合物，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；按重量计45％至49.5％的具有由作为式2的(Rc)q表示的R2基团的硅烷化合物，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数；以及按重量计1％至10％的H2O或酸。R1基团可以是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组选择的至少一种。R2基团可以是从由3-环戊二烯基丙基、二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。硅烷低聚物可以具有下式3的结构。式3其中，m和n均独立地为1至10的整数。涂覆组合物可以具有100至10000的分子量。使用涂覆组合物形成的薄膜对水可以具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷可以具有0度至45度的接触角。附图说明通过结合附图进行的实施例的以下描述，本专利技术的这些和/或其他方面将变得明显且更容易理解，其中：图1是示出当将根据本专利技术一个实施例的硅烷化合物涂覆在基底表面上时发生的现象的视图；图2中的(a)是示出存在于涂覆有根据现有技术的含氟(F)的硅烷化合物的基底表面上的水(H2O)和二碘甲烷的接触角以及光的反射状态的视图；图2中的(b)是示出存在于涂覆有根据本专利技术一个实施例的化合物的基底表面上的水(H2O)和二碘甲烷的接触角以及光的反射状态的视图；图3中的(a)和(b)是示出将根据本专利技术一个实施例的涂覆组合物涂覆在基底表面上的工艺的视图；图4是示出将制备示例1的涂覆组合物沉积在基底表面上的速率的曲线图以及示出将对比示例1的涂覆组合物沉积在基底表面上的速率的曲线图；图5是将涂覆有制备示例1的涂覆组合物的智能电话与涂覆有对比示例2的涂覆组合物的智能电话进行比较的图像；图6中的(a)、(b)和(c)是示出分别使用气相层析(GC)质谱仪和Maldi质谱仪分析制备示例1的涂覆组合物和对比示例1的涂覆组合物所获得的结果的视图；以及图7是将沾染在由制备示例1的涂覆组合物制成的薄膜的表面上的指印组分的可见性与沾染在由对比示例2的涂覆组合物制成的薄膜的表面上的指印组分的可见性进行比较的视图。具体实施方式现在将详细地参照本专利技术的实施例，附图中示出了本专利技术的实施例的示例，其中，相同的标号始终表示相同的元件。根据本专利技术一个实施例的涂覆组合物包括具有由作为式1的[RaO-(CH2CH2O)p-Rb-]表示的R1基团和由作为式2的(Rc)q表示的R2基团的硅烷低聚物。在式1中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，其中，烷基取代或未取代。在式1中，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组。反应基可以取代或未取代。在式1中，p是1至12的整数。R1基团可以是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。在式2中，Rc是可以取代或未取代的具有3至20个碳原子的环烷基。在式2中，q是1至3的整数。R2基团可以是从由3-环戊二烯基丙基、二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。另外，当两种硅烷化合物和蒸馏水的重量比为1∶1∶0.01至1∶1∶0.1时，抗指印性质和滑动感觉均是优异的。然而，本专利技术不限于该重量比。另外，当硅烷低聚物的分子量超过30,000时，硅烷低聚物变成凝胶并且不易形成薄膜。因此，为了维持液相，可以选择烷基(R1和R2)，使得硅烷低聚物的分子量不超过30,000，并且当硅烷低聚物的分子量为100至30,000时，能够得到适合于在基底表面上形成薄膜的化合物。优选地，硅烷低聚物的分子量为大约100至大约10000。硅烷为氢化硅类型，其式由SinH2n+2表示。硅烷化合物表示SinH2n+2的一个或多个氢由其他基团取代的化合物。基于取代基的类型，可以得到具有各种性质的化合物。具有R1基团的硅烷化合物和具有R2基团的硅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种涂覆组合物，所述涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有：R1基团，由作为式1的[RaO？(CH2CH2O)p？Rb？]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；以及R2基团，由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数。

【技术特征摘要】
2011.07.27 KR 10-2011-00744591.一种涂覆组合物，所述涂覆组合物包括硅烷低聚物，硅烷低聚物具有下式3的结构：式3其中，m和n均独立地为1至10的整数，R1基团由作为式1的[Ra-O-(CH2CH2O)p-Rb-]表示，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组成的组，p是1至12的整数；以及R2基团由作为式2的(Rc)q表示，其中，Rc是具有3至20个碳原子的环烷基，q是1至3的整数，其中，硅烷低聚物具有100至30000的分子量。2.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，R1基团是从由甲氧基乙氧基十一烷基、甲氧基三甘醇氧基-十一烷基、3-甲氧基乙氧基-4-乙酰氧基环己基乙基、16-(2-甲氧基-乙氧基)十六烷基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。3.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，R2基团是从由二环戊基、环戊基、环己基、环辛基和它们的衍生物组成的组中选择的至少一种。4.根据权利要求1所述的涂覆组合物，其中，硅烷低聚物具有100至10000的分子量。5.一种抗指印薄膜，所述抗指印薄膜通过在基底的表面上涂覆根据权利要求1所述的涂覆组合物形成。6.根据权利要求5所述的抗指印薄膜，其中，使用硅烷低聚物形成的薄膜对水具有60度至80度的接触角，对二碘甲烷具有0度至45度的接触角。7.一种涂覆组合物，所述涂覆组合物包含：按重量计45％至49.5％的具有由作为式1的[Ra-O-(CH2CH2O)p-Rb-]表示的R1基团的硅烷化合物，其中，Ra选自于由氢和具有1至3个碳原子的烷基组成的组，Rb选自于由具有5至20个碳原子的烷基、具有5至20个碳原子的烯基、具有5至20个碳原子的炔基、具有5至20个碳原子的芳基、具有6至20个碳原子的芳烷基、具有5至20个碳原子的环烷基和具有5至20个碳原子的杂烷基组...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴炳夏，黄仁吾，咸喆，宋基镕，朴秀袗，朴成俊，黄宇泽，金明坤，吴昇泽，山姆·扎厄，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：