【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微电子
，特别涉及一种基于交替比较方式的射频阻抗自动匹配装置及方法。
技术介绍
在半导体制备工艺中，需要对等离子体实现稳定控制以保证制备工艺过程的稳定。现有等离子射频阻抗匹配网络主要由两个真空电容构成，真空电容可以人工手动调整以改变电容值。在等离子体启辉之前，由于无法预测负载(等离子体)的阻抗，因此会出现负载阻抗与真空电容阻抗不匹配，使等离子体的稳定性难以控制。现有的解决方案是在等离子体启辉之前，采用人工手动匹配负载的方法，调整真空电容的阻抗与负载阻抗。但是，这种人工手动匹配调整方法实现起来比较困难，真空电容阻抗与负载阻抗匹配的最佳位置很难达到；同时，人工手动匹配还无法满足工艺过程实时快速变化的要求，且手动匹配负载的速度慢、匹配时间长，易造成等离子体不稳定，进而影响工艺过程。
技术实现思路
为了解决现有人工手动匹配射频阻抗精度低、速度慢及匹配时间长等问题，本专利技术提供了一种射频阻抗自动匹配装置，包括第一真空电容检测机构、第二真空电容检测机构、第一信号变送器、第二信号变送器、功率计和单片机，所述第一、第二真空电容检测机构的输出端分别与第一信号变...
【技术保护点】
一种射频阻抗自动匹配装置，其特征在于，包括第一真空电容检测机构、第二真空电容检测机构、第一信号变送器、第二信号变送器、功率计和单片机，所述第一、第二真空电容检测机构的输出端分别与第一信号变送器电连接，所述功率计与第二信号变送器电连接，所述单片机的输入端分别与所述第一信号变送器和第二信号变送器的输出端电连接，所述单片机的控制输出端分别与所述第一、第二真空电容检测机构的输入端电连接。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王佳，刘训春，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，北京泰龙电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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