【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体工艺设备
，特别涉及一种射频阻抗匹配器。
技术介绍
阻抗匹配是指激励源内部阻抗、传输线的特性阻抗及负载阻抗互相适配，达到最大功率输出的一种工作状态，具体而言就是将负载阻抗转换成一个合适的阻抗或阻抗范围，此阻抗或阻抗范围能使射频电源处于正常的运行状态，从负载方面看是能够使负载尽可能获得大功率的同时又保证负载能正常工作。在半导体工艺设备中，RF (射频)发生装置(恒定输出阻抗等于传输线的特性阻抗50 Ω )向等离子体腔室提供固定频率(通常为13. 56MHz)的RF波，用于激发半导体工艺的等离子体。通常情况下，等离子体腔室的阻抗与传输线的特性阻抗(半导体工艺设备中一般为50 Ω)不一致，其原因是在传输线上除了入射波外，还会出现反射波，反射波的存在意味着 RF发生器产生的功率不能全部输送给等离子体腔室，使传输效率降低，造成匹配失配。为了使等离子体腔室的阻抗与传输线的特性阻抗一致，需在射频传输线与等离子体腔室之间插入射频阻抗匹配器，其用途是实现阻抗变换，即将给定的负载阻抗值变换成传输线的特性阻抗值，实现无反射传输。在半导体工艺设备中，尤其是在感...
【技术保护点】
一种射频阻抗匹配器，包括第一可变空气电容、第二可变空气电容、电感，其特征在于，还包括第三可变空气电容，所述第二可变空气电容和第三可变空气电容并联后与所述电感串联，再与所述第一可变空气电容并联。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：孙小孟，李勇滔，李英杰，刘训春，夏洋，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，北京泰龙电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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