激光器阵列、激光器装置及光学传输装置和信息处理装置制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
激光器阵列、激光器装置及光学传输装置和信息处理装置
本专利技术涉及垂直腔面发射激光器阵列、垂直腔面发射激光器装置、光学传输装置及信息处理装置。
技术介绍
具有元件阵列的垂直腔面发射激光器阵列能够利用多条激光束对图像进行光学渲染，因而应用于例如激光打印机等光学写入装置中。这样的光学写入装置使用依赖于偏振方向的例如透镜、反射镜、分光器和玻璃盖等光学元件。因此，需要对激光束执行偏振控制。与将光偏振成TE模式并且使光振荡的常见边发射半导体激光器对比，垂直腔面发射激光器因其腔体结构对称而在稳定偏振方面有难度。另外，在垂直腔面发射激光器阵列具有多元件阵列的情况下，对于所有的元件都使光沿着同一方向偏振更加困难。作为现有技术的在垂直腔面发射激光器中控制偏振的方法，将变形施加部分设置在腔体的相反两侧以便向该腔体的活性层施加各向异性变形(例如，参见未经审查的日本专利申请No.2003-332685和No.2011-3748)。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种垂直腔面发射激光器阵列，该激光器阵列的各元件受到偏振控制。根据本专利技术的第一方面，提供一种垂直腔面发射激光器阵列，所述...
【技术保护点】
一种垂直腔面发射激光器阵列，包括：基板，其上具有元件形成区域；多个柱状结构，其形成在所述基板上的所述元件形成区域中；以及至少一根金属配线，其形成为与所述多个柱状结构相邻，其中，所述多个柱状结构中的每一个包括第一导电类型的下部半导体反射器、第二导电类型的上部半导体反射器、以及形成在所述下部半导体反射器和所述上部半导体反射器之间的活性区域，并且所述柱状结构沿着与所述基板垂直的方向发射光，并且所述至少一根金属配线具有变形施加部分，所述变形施加部分相对于所述多个柱状结构沿着同一方向延伸。
【技术特征摘要】
2011.07.22 JP 2011-1606271.一种垂直腔面发射激光器阵列，包括：基板，其上具有元件形成区域；多个柱状结构，其形成在所述基板上的所述元件形成区域中；至少一根金属配线，其形成为与所述多个柱状结构相邻；以及与所述多个柱状结构对应的多个电极片，其中，所述多个柱状结构中的每一个包括第一导电类型的下部半导体反射器、第二导电类型的上部半导体反射器、以及形成在所述下部半导体反射器和所述上部半导体反射器之间的活性区域，并且所述柱状结构沿着与所述基板垂直的方向发射光，所述至少一根金属配线具有变形施加部分，所述变形施加部分相对于所述多个柱状结构沿着同一方向延伸，所述至少一根金属配线包括将所述多个柱状结构和所述多个电极片彼此连接的多根金属配线，所述多根金属配线中的每一根具有所述变形施加部分，所述多个电极片设置在所述垂直腔面发射激光器阵列的第一端和与所述第一端相反的第二端，所述多个柱状结构包括位于所述多个柱状结构的中部的第一柱状结构和第二柱状结构，所述第一柱状结构设置为靠近所述第一端，而所述第二柱状结构设置为靠近所述第二端，并且所述多根金属配线包括与所述第一柱状结构连接并朝向所述第二端延伸的第一金属配线以及与所述第二柱状结构连接并朝向所述第一端延伸的第二金属配线，所述第一金属配线和所述第二金属配线各自具有所述变形施加部分。2.根据权利要求1所述的垂直腔面发射激光器阵列，其中，所述多个柱状结构线性地排列，并且所述变形施加部分与所述多个柱状结构的排列方向平行地延伸。3.根据权利要求1或2所述的垂直腔面发射激光器阵列，其中，所述至少一根金属配线的构成材料与所述多个柱状结构的与所述上部半导体反射器电连接的电极配线的构成材料相同，并且所述至少一根金属配线和所述电极配线在同一工序中形成。4.根据权利要求1或2所述的垂直腔面发射激光器阵列，其中，所述至少一根金属配线还用作所述多个柱状结构的电极配线。5.根据权利要求1所述的垂直腔面发射激光器阵列，其中，所述多个柱状结构还包括位于所述多个柱状结构的中部的第三柱状结构和第四柱状结构，所述第三柱状结构设置为靠近所述第一端，而所述第四柱状结构设置为靠近所述第二端，所述多根金属配线还包括与所述第三柱状结构连接并朝向所述第一端延伸的第三金属配线以及与所述第四柱状结构连接并朝...
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