多腔体溢流式沉淀池制造技术

本实用新型专利技术公开了一种多腔体溢流式沉淀池，该沉淀池包括池体和多个阻流体，多个阻流体将所述池体分割成多个溢流沉淀腔体，多个阻流体上均开有导通孔或导通槽，导通孔或导通槽位于池体水位的上部，多个溢流沉淀腔体通过导通孔或导通槽相导通。本实用新型专利技术提供的废水处理系统的沉淀池，通过多个阻流体将池体分割成多个溢流沉淀腔体，并使得多个溢流沉淀腔体相互导通，在降低废水流速的情况下实现了比斜管更好的沉淀效果，重要的是，溢流沉淀腔体的污泥储存能力强于斜管式沉淀池的污泥储存能力，能够显著延长污泥清除的间隔时间，减少工作量。进一步地，本实用新型专利技术能够增加水处理量，并且提高出水水质。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及环保
，尤其涉及一种多腔体溢流式沉淀池。
技术介绍
在废水的处理过程中，采用各种沉淀池对有害物质进行沉淀去除，可以实现金属资源的回收。现有的沉淀池包括竖流式沉淀池、辐流式沉淀池和斜管式沉淀池。然而，上述的这些沉淀池都具有容易冒泥、排泥频率高和出水水质不好的缺点。因此，市场上急需一种排泥频率低、出水水质好且沉淀效果好的新型沉淀池。
技术实现思路
针对上述技术中存在的不足之处，本技术提供一种多腔体溢流式沉淀池，不需要设置斜管即有很好的沉淀效果，且能够显著延长污泥清除的间隔时间。为实现上述目的，本技术提供一种多腔体溢流式沉淀池，包括池体和多个阻流体，所述多个阻流体将所述池体分割成多个溢流沉淀腔体，所述多个阻流体上均开有导通孔或导通槽，所述导通孔或导通槽位于池体水位的上部，所述多个溢流沉淀腔体通过导通孔或导通槽相导通。其中，所述多个阻流体上导通孔或导通槽的开设位置不同或者不完全相同。其中，所述池体底部一一对应于多个溢流沉淀腔体的位置均设置有V形污泥斗。其中，所述多腔体溢流式沉淀池还包括污泥收集池，每个V形污泥斗均通过污泥管并经开关与污泥收集池导通。本技术的有益效果是与现有技术相比，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多腔体溢流式沉淀池，其特征在于，包括池体和多个阻流体，所述多个阻流体将所述池体分割成多个溢流沉淀腔体，所述多个阻流体上均开有导通孔或导通槽，所述导通孔或导通槽位于池体水位的上部，所述多个溢流沉淀腔体通过导通孔或导通槽相导通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何学文，
申请(专利权)人：何学文，
类型：实用新型
国别省市：