【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及从砂如型砂的表面清除附着物的装置。 在某些
中,一般要使用从砂上清除附着物的装置。例如,在使用型砂生产铸模的领域,在日本专利申请公开文本JP(Y)61-35,325中公开了一种从砂表面清除异物以重复使用型砂的装置。为在砂使用后再次使用,该装置将用过的砂送至一叶轮,从而将用过的砂摔打在壁上,以便从砂的表面清除异物。但是,由于在该方法中对砂的冲击太强,砂容易变得更为细小,这样所造成的缺点是重复使用型砂时需要加入型砂的粘合材料量增加。本专利技术的目的是提供一种能够保持砂的原有粒度的清除附着在砂表面的异物的装置。本专利技术的装置设有一个旋转箱,用于清除附着在砂上的异物。这种旋转箱由驱动装置转动,以便使在箱中待处理的砂产生离心力。旋转箱包括一圆形底板,从底板圆形外周向上向外延伸的倾斜周壁,以及从倾斜周壁的顶部向内延伸的环形部分。该装置包括设置在旋转箱中的活动装置如滚轮。活动装置具有基本平行于旋转箱倾斜周壁且与其间隔开来的活动表面。当旋转箱的砂受到离心力作用,周向地沉积在旋转箱的倾斜周壁上时,在该壁上形成砂层。当旋转箱继续转动时,沉积在倾斜周壁上的砂层逐渐变 ...
【技术保护点】
一种从砂表面清除附着物的装置,具有: 一个水平地旋转,用于从砂表面清除附着物的旋转箱(5),所述旋转箱包括一圆形底板(5A),一从所述底板端部向上向外延伸的倾斜周壁(5B),以及从所述倾斜周壁的顶部向内延伸的环形部分(5C); 用于转动所述旋转箱的驱动装置(20);以及 具有活动表面(15)的活动装置(8),所述活动表面基本平行于所述旋转箱的倾斜周壁且与其间隔开来。
【技术特征摘要】
JP 1993-9-24 261512/93;JP 1994-2-10 37743/94;JP 191.一种从砂表面清除附着物的装置,具有一个水平地旋转,用于从砂表面清除附着物的旋转箱(5),所述旋转箱包括一圆形底板(5A),一从所述底板端部向上向外延伸的倾斜周壁(5B),以及从所述倾斜周壁的顶部向内延伸的环形部分(5C);用于转动所述旋转箱的驱动装置(20);以及具有活动表面(15)的活动装置(8),所述活动表面基本平行于所述旋转箱的倾斜周壁且与其间隔开来。2.如权利要求1所述的装置,其特征在于该装置具有一壳体(1),所述旋转箱(5)和活动装置(8)安装在壳体(1)上,在旋转箱(5)上方有一溜槽(3)安装在壳体(5)上,用于将待处理的砂送入所述旋转箱。3.如权利要求2所述的装置,其特征在于在所述壳体下部设有一个孔(7),用于排出由旋转箱处理过的砂。4.如权利要求1所述的装置...
【专利技术属性】
技术研发人员:修增野,严富田,和春松井,昭夫矶野,武彦松本,毅村田,之典青木,
申请(专利权)人:新东工业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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