【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及低折射率被膜形成用涂布液和使用该被膜形成用涂布液形成的被膜以及具有该被膜的防反射材料,所述低折射率被膜形成用涂布液主要含有将烷氧基硅烷缩聚而得到的聚硅氧烷,还含有多种溶剂,能够通过喷涂形成均匀的膜。
技术介绍
目前,已知如果在基材的表面形成具有比该基材的折射率小的折射率的被膜,则从该被膜的表面反射的光的反射率下降。这样的呈现下降了的光反射率的低折射率被膜被用作光反射防止膜,适用于各种基材表面。 例如,专利文献I中揭示了以下的方法将使作为Mg源的镁盐或烷氧基镁化合物等与作为F源的氟化物盐反应而生成的MgF2微粒的醇分散液或者为了提高膜强度在该分散液中加入四烷氧基硅烷等而得的液体作为涂布液,将该涂布液涂布于玻璃基材上,在100 500°C的温度下进行热处理,在基材上形成呈现低折射率的防反射膜。此外,专利文献2中揭示了以下的方法将平均分子量不同的2种以上的四烷氧基硅烷等水解缩聚物与醇等溶剂混合而制成涂布液,在由该涂布液形成被膜时施以上述混合时的混合比例、相对湿度的控制等手段来制作被膜。被膜通过在250°C以上的温度下加热而得到,呈现I. 21 I. 40 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:根木隆之,元山贤一,
申请(专利权)人:日产化学工业株式会社,
类型:
国别省市:
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