支化硅氧烷及其合成方法技术

本发明专利技术描述了支化和官能化的硅氧烷和制备这样的化合物的方法。所述化合物具有多种用途。一个优选的应用是作为用于光刻法的新型平坦化材料，在该情形中官能化支化硅氧烷，例如环氧改性的支化硅氧烷特别有用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及支化硅氧烷 及支化硅氧烷的合成方法，所述支化硅氧烷包括但不限于官能化支化硅氧烷。这类化合物具有许多用途，包括在半导体工业中包括平坦化层、可图案化绝缘体等的多个应用。
技术介绍
具有低粘度、低蒸气压和高硅含量的液体支化硅氧烷用于半导体工业例如微处理器、闪存、视觉显示装置和光学器件(发光二极管)等的制造。例如，Michael Lin等报导了用于纳米压印光刻法的命名为Si-14的可UV固化液体支化硅氧烷。他们得出的结论是，用甲基丙烯酸酯作为可UV交联基团进行官能化的Si-14显示出作为拓扑结构上的平坦化层、可图案化的材料和蚀刻阻挡层的有希望的性能。这是因为其性能(15cP的低粘度，在25°C下O. 8托的低蒸气压，5. 0%的低UV收缩率，和具有33%的高硅含量)。然而如图2中所示Si-14的合成路线需要许多步骤。该反应收率低(〈20%)而且合成花费数天(>12天)，因此该路线不可修改为按比例缩放而成为商业产品。需要的是在短时间内提供高收率且产生有用化合物的较简单的合成法。专利技术概述本专利技术预期到支化硅氧烷(官能化和非官能化)以及制备这类化合物的方法。在一个实施方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·G·威尔森，T·欧嘉瓦，B·M·雅各布森，
申请(专利权)人：得克萨斯大学体系董事会，
类型：
国别省市：