波纹放大装置制造方法及图纸

公开了波纹放大装置，包括透明基底，该透明基底承载有：第一表面上的规则的微聚焦元件阵列，所述聚焦元件限定了一个焦平面；以及相应的第一微图像元件阵列，位于与所述聚焦元件的焦平面基本重合的平面内。所述微聚焦元件的节距和所述微图像元件阵列的节距以及它们的相对位置使得：所述微聚焦元件阵列与所述微图像元件阵列协作，以因波纹效应而生成微图像元件的放大版本。沿着所述装置的至少第一区域中的至少一个轴线，所述微图像元件之间的节距和/或所述微聚焦元件之间的节距在对应的阵列中连续变化，凭此，波纹效应造成所述图像元件出现不同的放大程度，以使得观察者感知到所述放大元件位于相对于所述装置的表面倾斜或弯曲的第一图像表面上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】波纹放大装置本专利技术涉及波纹放大装置，诸如安全装置，例如用在安全票证及其他有价物品(诸如钞票、支票、护照、身份证、真品证书、印花税票及其他用于保值或证明个人身份的票证) 上。本专利技术还涉及用于用在包装或类似物上的光学装置。波纹放大(moir6magnification)多年以来一直被用作安全装置的基础。在 W0-A-94/27254和EP-A-1695121中描述了多个实施例。在这样的装置中，一个规则的微聚焦元件(micro-focusing elements)阵列(其限定了一个焦平面)被设置在一个相应的图像元件阵列(其位于一个与所述聚焦元件的焦平面基本对准的平面内)的上方。所述图像元件阵列的节距(pitch)或周期(periodicity)被选择成与所述聚焦元件的节距或周期相差一个小因子，且这个失配(mismatch)意味着生成了所述图像元件的放大版本。放大因子取决于周期或节距之间的差。微透镜阵列与微图像阵列之间的节距失配也可以通过如下方式方便地产生相对于所述微透镜阵列转动所述微图像阵列或反之， 以使得所述微透镜阵列与所述微图像阵列之间具有转动失准。所述转动失准或小的节距失配导致本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·W·霍姆斯，
申请(专利权)人：德拉鲁国际有限公司，
类型：
国别省市：