波纹放大装置制造方法及图纸

一种波纹放大装置包括透明基底（20），该透明基底承载：ⅰ）第一表面上的规则阵列（22）的微聚焦元件，所述聚焦元件限定一个焦面；ⅱ）第一颜色的、位于与聚焦元件的焦面基本叠合的平面中的对应的第一阵列（10）的微图像元件；ⅲ）与第一颜色不同的第二颜色的、位于与聚焦元件的焦面基本叠合的平面中的对应的第二阵列（11）的微图像元件。微聚焦元件（22）的间距、第一和第二阵列（10、11）的微图像元件的间距以及它们的相对位置使得所述阵列的微聚焦元件与第一和第二阵列的微图像元件中的每一个协作，从而由于波纹效应而生成每个阵列的微图像元件的相应的放大型式，并且使得对照由第二阵列的微图像元件的放大型式所限定的背景来观察第一阵列的微图像元件的放大型式；当装置倾斜时，第一阵列的微图像元件的放大型式呈现相对于背景的移动；以及其中阵列之间的间距失配被选择为使得第一阵列的元件的放大型式出现在第二阵列的元件的放大型式的上方或下方。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及波纹放大(moir6magnification)装置,如安全装置,例如用在安全文件和其他有价物品上，诸如纸币、支票、护照、身份证、真品证书、印花税票以及其他用于保价或证明个人身份的文件。本专利技术还涉及用在封装等上的光学装置。
技术介绍
数年以来，波纹放大已经用作安全装置的基础。在W0-A-94/27254和EP-A-1695121中描述了若干实施例。在这样的装置中，限定一个焦面(focal plane)的规则的微聚焦元件阵列设置在对应的图像元件阵列上方，所述图像元件位于与所述聚焦元件的焦面基本对准的平面中。图像元件阵列的间距(pitch)或周期(periodicity)被选择为与聚焦元件的间距或周期相差一个小因子，且该失配(mismatch)意味着会生成图像元件的放大型式。 放大因子取决于周期或间距之间的差。还可通过相对于微透镜阵列转动微图像阵列，或者通过相对于微图像阵列转动微透镜阵列，以使得微透镜阵列和微图像阵列之间具有转动错位(m i s a I i gnmen t),从而方便地生成微透镜阵列和微图像阵列之间的间距失配。该转动错位或者小的间距失配导致眼睛在每个相本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：B·W·霍姆斯，
申请(专利权)人：德拉鲁国际有限公司，
类型：
国别省市：