新的氟化化合物、包含该氟化化合物的组合物以及使用该组合物制备膜的方法技术

技术编号:8164971 阅读:131 留言:0更新日期:2013-01-08 11:59
本发明专利技术涉及一种新的氟化化合物、包含该氟化化合物的组合物以及使用该组合物制备膜的方法,更具体而言,涉及一种具有在硅烷核心中取代有一个或多个氟和基于丙烯酸酯的官能团的结构的新化合物、一种包含该化合物和光引发剂的组合物以及一种使用该组合物制备膜的方法。如果使用包含根据本发明专利技术的化合物的组合物,则可以制得折射率低、反射率降低和透射率增加的膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种新的氟化化合物、一种包含该氟化化合物的组合物以及使用该组合物制备膜的方法。本申请要求于2010年2月4日在KIPO申请的韩国专利申请号10-2010-0010653的优先权,该专利申请的公开内容以引用的方式全部纳入本说明书中。
技术介绍
根据显示器和信息通信技术(例如目前普及的因特网和电子商务)的发展,需要具有大容量的光学通信、光学信息处理和高分辨率的显示器。具体而言,在显示器二极管中,防止由于外部光源的反射而发生的反射现象的AR(防反射)层的制备是重要技术之一, 该AR层利用两层的折射率差来消散和干扰从界面反射的光线,且该AR层通常由低折射材料和高折射材料的多层结构或折射率分布不对称的梯度单层结构形成。由于当低折射层的折射率降低时防反射更有效,所以控制低折射层的折射率的技术非常重要。作为低折射光学材料,因为基于氟的单体和由其制得的基于氟的聚合物在可见光和IR区域的波长下具有低折射率和低吸收损失,所以它们作为用于控制折射率的材料已经引起了极大关注。例如,美国专利号4,985,473,6, 306, 563和6,323,361公开了包含具有环氧基或不饱和基团的全氟化本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑顺和金银庆朴真荣张影來
申请(专利权)人:LG化学株式会社延世大学校产学协力团
类型:
国别省市:

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