【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体设备制造领域，尤其涉及。
技术介绍
目前，等离子去胶设备中的等离子发生装置，通常采用电感耦合方式产生等离子体，其结构如图I所示，包括石英管I和电感线圈2，所述石英管I的两端分别设有进气ロ3和出气ロ 4，所述电感线圈2缠绕于所述石英管I外侧靠近所述进气ロ 3的部分，其工作原理是，所述石英管I内为真空反应系统，从所述进气ロ 3向所述石英管I内通入气体，在高频电场的作用下，使石英管I内形成强电磁场，使所述真空反应系统中的气体激化产生等离子体。上述的等离子发生装置，当气体进入所述石英管I后，由于所述出气ロ 4相对于所 述进气ロ 3迅速放大，气体不能完全均匀分布在所述石英管I内，且同一截面上不同位置的电场强度有差别，这样生成等离子体的效率和均匀性较差。随着工艺的发展，对刻蚀速率的要求不断提高，等离子去胶设备的射频功率不断増大，这时刻蚀均匀性较差的问题也愈专利技术显。因此，如何提供ー种改善等离子体生产效率和均匀性的等离子发生装置及方法是本领域的技术人员亟待解决的ー个技术问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供，以改善现有的等离子发生装置及方法生成等离子...
【技术保护点】
一种等离子发生装置，包括石英管和电感线圈，所述石英管的两端分别设有进气口和出气口，所述电感线圈缠绕于所述石英管外侧靠近所述进气口的位置，其特征在于，还包括设于所述石英管内部的使气体靠近所述电感线圈流动的导流罩。
【技术特征摘要】
1.一种等离子发生装置，包括石英管和电感线圈，所述石英管的两端分别设有进气ロ和出气ロ，所述电感线圈缠绕于所述石英管外侧靠近所述进气ロ的位置，其特征在于，还包括设于所述石英管内部的使气体靠近所述电感线圈流动的导流罩。2.如权利要求I所述的等离子发生装置，其特征在于，所述导流罩外部轮廓与所述石英管上绕置电感线圈的部分的内壁的形状相对应，使得所述导流罩的外壁与所述石英管上绕置电感线圈的部分的对应内壁之间的距离相等。3.如权利要求I所述的等离子发生装置，其特征在于，所述石英管上绕置电感线圈的部分的纵截面是三角形或梯形，所述导流罩包括第一导流体，所述第一导流体是锥形体。4.如权利要求3所述的等离子发生装置，其特征在干，所述锥形体的底部与所述三角...
【专利技术属性】
技术研发人员：潘无忌，张东海，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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