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一种磷硅玻璃和多晶硅厚度的在线同步测试装置制造方法及图纸

技术编号:8116735 阅读:236 留言:0更新日期:2012-12-22 07:51
本实用新型专利技术公开了一种磷硅玻璃和多晶硅厚度的在线同步测试装置,包括绝缘衬底和三个测试单元,每个测试单元包括磷硅玻璃层和四探针多晶硅电阻测试桥,磷硅玻璃层固定于绝缘衬底顶面;磷硅玻璃层被刻蚀成相互平行的凹槽,在凹槽间形成台阶;多晶硅电阻条爬越磷硅玻璃层上的台阶;第一测试单元中,多晶硅电阻条与笛卡尔坐标系的X轴方向平行;第二测试单元和第三测试单元中,四探针多晶硅电阻测试桥的数量均为两个,多晶硅电阻条与笛卡尔坐标系的X轴之间分别形成β1夹角和β2夹角。该在线同步测试装置利用多晶硅爬越由磷硅玻璃制造的多个台阶,通过对三组五个多晶硅电阻的测试,进而实现磷硅玻璃和多晶硅厚度的测试。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术提供了一种微机电器件几何学參数的测试装置,具体来说,涉及ー种磷硅玻璃和多晶硅厚度的在线同步测试装置
技术介绍
微机电器件的几何学參数是器件最基础的參数,通过在线測量几何学參数,可以获得器件的形貌尺寸,并实时监测制作エ艺的エ艺误差。多晶硅是制造微机电器件结构重要的和基本的材料,通常通过化学气相淀积(CVD)方法制造得到,并由光刻エ艺形成需要的图形。磷硅玻璃(PSG)是重要的牺牲层材料,在制作可动结构吋,PSG层的厚度用于定义可动结构的纵向移动范围。因此,在制造过程中结构材料和牺牲层材料往往是直接相叠,这些材料的厚度參数对于微机电器件结构非常重要。微机电产品的制造厂商希望能够在エ艺线内通过通用的測量仪器进行在线测试,及时地反映エ艺对几何參数的影响,因此,不离开加 エ环境并采用通用设备进行的在线测试成为エ艺监控的必要手段。
技术实现思路
技术问题本技术提供了一种磷硅玻璃和多晶硅厚度的在线同步测试装置,该在线同步测试装置利用多晶硅爬越由磷硅玻璃制造的多个台阶,通过对三组五个多晶硅电阻的测试,进而实现磷硅玻璃和多晶硅厚度的测试。技术方案为解决上述技术问题,本技术采用的技术方案是一种磷硅玻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磷硅玻璃和多晶硅厚度的在线同步测试装置,其特征在于,该测试装置包括绝缘衬底(6)、以及固定于绝缘衬底(6)顶面的第一测试单元(1)、第二测试单元(2)和第三测试单元(3)三个测试单元,其中,每个测试单元包括磷硅玻璃层(4)和四探针多晶硅电阻测试桥(5),四探针多晶硅电阻测试桥(5)包括一根多晶硅电阻条(501)和连接在多晶硅电阻条(501)上的四个测试电极(502);每个测试电极(502)中固定一金属块(503),磷硅玻璃层(4)固定于绝缘衬底顶面;磷硅玻璃层(4)被刻蚀成相互平行的凹槽(401),在凹槽(401)间形成台阶(402);多晶硅电阻条(501)覆盖在磷硅玻璃层(4)上,且多晶...

【技术特征摘要】
1.一种磷硅玻璃和多晶硅厚度的在线同步测试装置,其特征在于,该测试装置包括绝缘衬底(6)、以及固定于绝缘衬底(6)顶面的第一测试单元(I)、第二测试单元(2)和第三测试单元(3)三个测试单元,其中, 每个测试单元包括磷硅玻璃层(4)和四探针多晶硅电阻测试桥(5),四探针多晶硅电阻测试桥(5)包括一根多晶硅电阻条(501)和连接在多晶硅电阻条(501)上的四个测试电极(502);每个测试电极(502)中固定一金属块(503),磷娃玻璃层(4)固定于绝缘衬底顶面;磷硅玻璃层(4)被刻蚀成相互平行的凹槽(401),在凹槽(401)间形成台阶(402);多晶硅电阻条(501)覆盖在磷硅玻璃层(4)上,且多晶硅电阻条(501)爬越磷硅玻璃层(4)上的台阶(402); 所述的第一测试单元(I)中,四探针多晶硅电阻测试桥(5)的数量为一个,多晶硅电阻条(501)与笛卡尔坐标系的X轴方向平行,且四探针多晶硅...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘海韵黄庆安周再发
申请(专利权)人:东南大学
类型:实用新型
国别省市:

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