平面结构EBG制造技术

本发明专利技术提供一种利用不足一个平面EBG元件分的剩余空间，能够确保高效率的抑制电波传播效果的平面EBG结构。将作为平面EBG结构的任意一个端部列设置的EBG元件形成为在小于EBG元件的宽度的位置被切断的结构，从而能够提高较少排列数量中的平面EBG结构的抑制电波传播效果。尤其是，将端部列EBG元件形成为3/4以上小于1，能够以简单的结构获得较高的抑制电波传播效果。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种采用平面结构的EBG抑制传播的技术，尤其涉及在难以确保充裕的空间的情况下，在较小空间内能够得到高效的抑制电波传播效果的平面结构EBG。
技术介绍
最近，正在进行利用EBG (Electromagnetic Band Gap :电磁带隙)结构抑制对象电波传播的研究开发，其中该EBG结构中，周期性配置了小于对象波长的指定结构。例如，可以利用EBG结构抑制天线中的无用放射，或抑制电波的传播(参照专利文献I)。 EBG是将半导体工学的能带理论适用于微波或毫米波等电磁波领域的，例如以金属材料形成小于作为对象的电磁波波长的周期结构。由于以金属材料形成小于作为对象的电磁波波长的周期结构的EBG结构，微波或毫米波根据其频率有时无法存在于该结构中，有时存在于该结构中。因此，可以利用EBG结构可以抑制电波传播，或者使电波通过，从而将EBG结构用于天线等中抑制无用反射或抑制传播。作为导体图案配置在基板上的EBG有专利文献I中公开的采用通孔的结构(下面称为3D结构)和平面结构等两种，本申请涉及平面结构的EBG。先行技术文献专利文献专利文献I :日本特开2008-283381号公报平面结构本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.04.28 JP 2010-1045001.一种排列多个平面EBG元件的平面EBG结构，其特征在于 至少任意一个端部列的平面EBG元件列在指定位置被切断。2.根据权利要求I所述的平面EBG结构，其特征在于， 所述平面EBG结构将所述切断的形状的平面EBG元件列的EBG导体连接于地面。3.根据权利要求I所述的平面EBG结构，其特征在于， 在至少任意一个端部列，所述平面EBG元件具有留下该平面EBG元件的宽度的3/4倍以上而被切断的形...

【专利技术属性】
技术研发人员：井上大辅，
申请(专利权)人：古河电气工业株式会社，古河AS株式会社，
类型：
国别省市：