一个用于平面衬底的极性结构的加工设备，具有中央基础模块（8），它具有用于衬底（34）的真空转移室，其中所述真空转移室（4）相对于基础模块（8）偏心地通过位于基础模块（8）中央部位的、相对于基础模块（8）同心的旋转支承（14）自由地在空间中可摆动地支承，并且在连接位置相对于与旋转支承（14）径向间隔的、围绕基础模块（8）成组布置的工艺站（6）密封连接地定位。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一个如权利要求1所述的用于平面衬底的极性结构的加工设备，其中所述加工设备具有基础模块和在一个圆上围绕其中央旋转轴线成组布置的工艺站，以及尤其也可以安装在这种加工设备里面的搬运装置、耦联装置和/或机械手，包括从属的工作过程和/或方法。
技术介绍
用于平面衬底、如晶元的加工设备经常通过围绕基础模块极性成组布置的工艺站构成(DE 198 31 032 A1)。至少在这些设备中，它们不是整体安置在与大气环境隔离的、具有与加工工艺协调的品质的洁净室里面，或者由于尺寸和成本的原因不安置在相应的空间里面，基础模块的组成部分是真空转移室、即转移室，它包围一个洁净室，在其中可以实现和/或保证所期望的洁净室质量，尤其与各个加工工艺相协调的洁净室质量。在这个真空转移室里面设有用于尤其在真空转移室与工艺站之间移动晶元的搬运装置，它通过其各自的转移孔与真空转移室中的、大多可以通过相应的阀门装置控制的转移孔在保持与环境隔离的条件下固定连接。这个基本结构对于小晶元直径且在对应于其基面的小工艺站中能够以小圆形基面的基础模块布置适配于所需加工步骤数量的许多工艺站。在工艺站之间不相切，与中央地设置在真空转移室里面的搬运装置微小的径向距离并且在真空转移室与各个工艺站之间转移晶元时对应于短的搬运装置径向驶出行程。由此对于各个要转移的晶元以对于所要求的高定位精度的良好掌控性得到高的工作质量和高的工作速度。对于较大直径的晶元，例如400mm直径的晶元得到大基面的工艺站，并且对于基础模块为了在圆周侧不相切地布置对应于工艺模块数量的真空转移室也产生加大很多的直径。由此对于搬运装置在真空转移室与各个工艺站之间转移晶元时也产生长得多的径向驶出行程。总之，不仅产生大得多的基面要求，而且对于搬运装置所要求的径向驶出行程也导致，对于转移晶元所需的定位精度至少在所需的速度时总是以非常高的费用才能实现。
技术实现思路
通过本专利技术要展示一个加工设备，通过它克服这些困难和局限性，由此对于处于氛围特殊条件下要执行的工作、尤其在加工电子元件时，但是也在生物或医药技术或分析技术中得到广泛的应用领域。这个目的通过权利要求1的特征得以实现，其它权利要求对此提供适宜的扩展结构，它们部分地也是独立的细节解决方案。按照本专利技术，由于真空转移室在各个基面上很大程度上的自由运动性，所述转移室在其直径上不受基础模块直径的约束，基础模块本身在其尺寸和其基面尺寸上取决于要对接的工艺站的数量，并且取决于容纳在真空转移室里面的搬运装置可实现的行驶路程。由于这种不受约束在敷设加工设备时在使用基本相同的零部件的情况下得到对于各种状况的适配可能性。在围绕基础站要对接的工艺模块数量方面，在本专利技术的范围内由此也得到特别大范围的变化可能性，转移室在利用被转移室扫过的表面的空间里面的自由运动性不局限于一个平面，由此例如工艺站也上下叠摞地围绕基础模块的各个基面设置并且可以通过相同的真空转移室操作。但是所述真空转移室的自由运动性首先提供了可能性，使转移室和/或被转移室容纳的搬运设备这样协调于各个要对接的工艺站的尺寸，使这些工艺站以最小的搬运设备驶出长度可以通过搬运设备操作。由此可能相对短的驶出行程不仅有利地影响可能的工作速度，而且主要也能够与足够刚性的、无振动的搬运设备工作方式相结合实现高的定位精度。在本专利技术范围内能够通过简单且试验的措施实现在空间中可自由摆动地布置真空转移室在基础模块的基面上，尤其通过相对于基础模块同心的旋转支承，该旋转支承例如可以通过码垛机械手形成，码垛机械手也能够实现相应的真空转移室升降调整性。在这种解决方案中所述真空转移室优选悬挂地安置在作为旋转支承使用的码垛机械手的绞刑架式的承载臂上，其中所述真空转移室适宜地可以围绕平行于旋转支承旋转轴线的旋转轴线旋转，由此能够使真空转移室在其旋转位置分别调整到要覆层的工艺站。为了尽管各种运动可能性对于真空转移室也可以尽可能精细控制地实现与各个工艺站的对接位置，优选真空转移室不仅可以在空间中位移，并且围绕与旋转支承平行的旋转轴线可旋转地固定，而且附加地也相对于可旋转的悬挂万向地可摆动地支承，这也得到可能性，在对接真空转移室的范围内真空转移室相对于各自的工艺站在达到至少非常紧密地相对于工艺站的连接位置以后通过负压抽吸地相对于工艺站固定。为了不仅基于真空转移室而且基于工艺站对于给定的对接位置、也在对接位置以外可以分别调整和/或保持所期望的、部分也是工艺条件的洁净室条件，对转移和通过孔在工艺站方面也在真空转移室方面附设可截止的耦联阀，它们优选分别具有两个位于前后的、先后要打开的锁闭盖，与压力源连接的过渡室位于锁闭盖之间。这种过渡室提供了可能性，尽管耦联阀外侧的部分与可能也较大程度以颗粒加载的环境接触，也减小与耦联过程有关的脏污危险。为此首先规定，各个外部的、面对环境的锁闭盖在时间上错开地相对于内部锁闭盖且在内部锁闭盖之前打开，并且这个打开过程与开始一起移动到对接位置同时进行，即，过渡室相对于环境尽可能晚地露出。与此相关，优选使过渡室处于压力下，由此随着打开这个锁闭盖与此相关的压力降在继续连接过渡室到压力源上时导致过渡室中的介质在环境方向上排出，直到通过耦联阀继续关闭达到至少几乎密封地接触。对应于上述的压力加载，例如通过输入吹洗气体，对于建立对应于工艺条件的洁净室水平在现在形成相互打开的、一起移动的和关闭的通过行程的过渡室里面按照本专利技术在许多方面是有利和适宜的，使通过行程通过连接到负压源、尤其是真空栗上抽真空。由此一方面保证，在打开内部锁闭盖时不会由于在通过行程中和在向着这个打开的容纳室对于内部锁闭盖在其打开位置中脏污工艺氛围。此外由此还抽吸在通过行程中可能存在污物，并由此在通过行程中建立相应的负压，耦联阀通过这个负压加载一起拉到密封的且使耦联阀犹如刚性连接的接触位置。在对接时得到的在驶向对方的耦联阀之间的缝隙空间，在本专利技术的范围内适宜地通过相对于耦联阀边缘侧的、局部框住地由此变成吹洗空间，使对面敞开的围框在一起移动时越来越多地交替叠加，并且吹洗气体、必要时过滤的空气吹入到由此产生的吹洗空间里面，在锁闭盖驶过其打开位置之前，通过空气也吹扫外部的锁闭盖并且清洁外侧。缝隙/吹洗空间优选对置地向着吹入侧部位、尤其在透吹方向上向下敞开，但是在吹出侧例如也可以格栅形地构成，由此在吹洗室里面建立相对于环境略微的过压。通过接着打开外部的锁闭盖并且在打开外部锁闭盖之前产生的在过渡室中的过压极大地避免在耦联阀一起移动到其对接位置之前污物从过渡室上的缝隙/吹洗室挤入的隐患，随着达到对接位置内部锁闭盖打开，并且可以以对于执行工艺所要求的洁净室条件最小的损害露出在转移室与各对接的工艺站之间的过渡，如果如上所述不满足进一步当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一个用于平面衬底的极性结构的加工设备，具有中央基础模块（8），它具有用于衬底（34）的真空转移室（4），具有相对于基础模块（8）极性设置的、在圆周侧要连接在与环境分开的真空转移室（4）上的工艺站（6）并且具有被真空转移室（4）容纳的用于衬底（34）的搬运设备（35），其中所述真空转移室（4）相对于基础模块（8）偏心地通过位于基础模块（8）中央部位的、尤其相对于基础模块（8）同心的旋转支承（14）自由地在空间中可摆动地支承并且在连接位置相对于与旋转支承（14）径向间隔的、围绕基础模块（8）成组布置的工艺站（6）密封连接地定位。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：K霍伊格勒，
申请(专利权)人：阿西斯自动系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE
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