一种介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜技术

技术编号:8106552 阅读:187 留言:0更新日期:2012-12-21 05:56
本发明专利技术提供一种介质导电膜,所述介质导电膜包括透明导电层、若干个第一介质层和若干个第二介质层,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2.1,第二介质层的折射率小于1.6。本发明专利技术还提供一种介质导电膜的制备方法和电致变色后视镜。本发明专利技术中,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,所述介质膜层即为多层结构组成,对光的吸收较少,形成较高的反射率;同时,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,因而制作成电致变色装置时能够防止与电致变色溶液接触时发生腐蚀反应,具有很好的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于防眩后视镜领域,尤其涉及一种防眩后视镜用的介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜
技术介绍
目前应用最为有效的电致变色防眩后视镜,是在后视镜中装设一种电致变色组件,通过通电使电致变色溶液变色,导致后视镜的反射率降低,进而达到防眩光的目的。现有电致变色后视镜的一般结构包括相对配置的第一基片和第二基片,所述第一基片相对于第二基片的表面设有导电反射膜,所述第二基片相对于第一基片的表面设有透明导电膜,所述导电反射膜和透明导电膜的周边缘设有边框胶,所述导电反射膜、透明导电膜和边框胶形成的空腔中容纳有电致变色溶液。其中,所述导电反射膜大多采用铝、银、铬和镍等其它金属膜,但是铬和镍反射膜的反射率比较低,很难达到后视镜反射率的要求;金属铝和银 的反射率比较高,但与电致变色溶液接触时会发生腐蚀反应。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种介质导电膜,该介质导电膜对光的吸收较少,能够达到较高的反射率;同时能够防止与电致变色溶液接触时发生腐蚀反应,具有很好的稳定性。本专利技术的目的是通过以下技术方案实现的 一种介质导电膜,所述介质导电膜包括透明导电层、若干个第一介质层和若干个第二介质层,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2. I,第二介质层的折射率小于I. 6。本专利技术还提供一种介质导电膜的制备方法,所述方法包括以下步骤 511、提供承载介质导电膜的基板,在所述基板上形成第一介质层; 512、在第一介质层上形成第二介质层,然后再在第二介质层上形成第一介质层,如此交替往复,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层; 513、在所述介质膜层上形成透明导电层; 其中,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2. I,第二介质层的折射率小于I. 6。本专利技术又提供一种电致变色后视镜,包括相对配置的第一基片和第二基片,所述第一基片相对于第二基片的表面设有介质导电膜,所述第二基片相对于第一基片的表面设有透明导电膜,所述介质导电膜和透明导电膜的周边缘设有边框胶,所述介质导电膜、透明导电膜和边框胶形成的空腔中容纳有电致变色溶液,其中,所述介质导电膜包括透明导电层、若干个第一介质层和若干个第二介质层,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2. 1,第二介质层的折射率小于I. 6。本专利技术提供的介质导电膜、制备方法及电致变色后视镜中,第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,所述介质膜层即为多层结构组成,对光的吸收较少;所述第一介质层的折射率大于2. I,第二介质层的折射率小于1.6时,该介质导电膜能形成较高的反射率,当第一介质层和第二介质层的折射率差距越大时,更能够形成较高反射率的膜系结构;同时,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,因而制作成电致变色装置时能够防止与电致变色溶液接触时发生腐蚀反应,具有很好的稳定性。附图说明图I是本专利技术实施例提供的介质导电膜的结构示意图。图2是本专利技术实施例提供的一种介质导电膜的制备方法流程示意图。具体实施例方式为了使本专利技术所解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合 实施例,对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术,并不用于限定本专利技术。请参考图I所示,一种介质导电膜,所述介质导电膜包括透明导电层3、若干个第一介质层I和若干个第二介质层2,所述第一介质层I和第二介质层2交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2. I,第二介质层的折射率小于I. 6。其中,所述第一介质层I和第二介质层2交替层叠排列的形式包括以第一介质层为基底,在所述第一介质层上形成第二介质层,然后在第二介质层上形成第一介质层,如此交替往复,以形成第一介质层和第二介质层交替层叠排列的介质膜层(如图I所示的结构);或者,以第二介质层为基底,在所述第二介质层上形成第一介质层,然后在第一介质层上形成第二介质层,如此交替往复,以形成第一介质层和第二介质层交替层叠排列的介质膜层。本专利技术提供的介质导电膜中,第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,所述介质膜层即为多层结构组成,对光的吸收较少;所述第一介质层的折射率大于2. 1,第二介质层的折射率小于1.6时,该介质导电膜能形成较高的反射率,当第一介质层和第二介质层的折射率差距越大时,更能够形成较高反射率的膜系结构;同时,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,因而制作成电致变色装置时能够防止与电致变色溶液接触时发生腐蚀反应,具有很好的稳定性。所述第一介质层I的材料选自硫化锌(ZnS)、氧化锌(ZnO)、二氧化钛(Ti02)、氧化锆(Zr02)、五氧化二钽(Ta205)和五氧化二铌(Nb205)中的一种或多种;当然,本领域的技术人员应当明白,所述第一介质层的材料并不局限于此,还可以选用其它折射率大于2. I的无机物。优选地,所述第一介质层的材料为折射率大于2. 3的无机物。所述第二介质层2的材料选自氟化镁(MgF2)、三氧化二铝(Al203)、氧化镁(MgO)、二氧化硅(Si02 )、三氟铝酸钠(Na3AlF3 )、氟化钡(BaF2 )、氟化钙(CaF2 )和氟化铝(A1F3中)的一种或多种;当然,本领域的技术人员应当明白,所述第二介质层的材料并不局限于此,还可以选用其它折射率小于1.6的无机物。优选地,所述第二介质层的材料为折射率小于I.4的无机物。为了满足电致变色后视镜中不同膜系对反射率的要求,可以调整介质导电膜中膜层的厚度或/和层数来达到相应的需求。优选地,每一个所述第一介质层的厚度为50-70纳米。优选地,每一个所述第二介质层的厚度为90-110纳米。优选地,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列的层数大于等于5层。进一步,当所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列的层数为5-10层,每一个所述第一介质层I的厚度为50-70纳米,每一个所述第二介质层的厚度为90-110纳米时,本专利技术提供的介质导电膜的反射率为60-70%,透过率大于20%,达到半透半反射膜的光学性能要求。进一步,当所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列的层数大于10层,每一个 所述第一介质层I的厚度为50-70纳米,每一个所述第二介质层的厚度为90-110纳米时, 本专利技术提供的介质导电膜的反射率大于90%,达到高反射膜的光学性能要求。所述透明导电层3为各种具有导电性的材料制成,例如可以为金属、金属合金或金属氧化物,优选为金属氧化物制成。作为一种具体的实施方式,所述金属氧化物可以为氧化铟锡(ITO)、氧化锡(Sn02)、氧化锡掺锑、氧化锌(ZnO)和氧化锌掺铝(AZO)中的一种或几种;优选地,所述透明导电层为ITO材料制成。所述透明导电层、第一介质层和第二介质层的形成方式可以为真空蒸镀、磁控溅射、离子镀或化学气相沉积中的一种,具体的制作工艺为本领域技术人员熟知。请参考图2所示,本专利技术还提供一种介质导电膜的制备方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种介质导电膜,其特征在于,所述介质导电膜包括透明导电层、若干个第一介质层和若干个第二介质层,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2.1,第二介质层的折射率小于1.6。

【技术特征摘要】
1.一种介质导电膜,其特征在于,所述介质导电膜包括透明导电层、若干个第一介质层和若干个第二介质层,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层,该介质膜层上形成有透明导电层,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2. 1,第二介质层的折射率小于I. 6。2.根据权利要求I所述的介质导电膜,其特征在于,所述第一介质层的材料选自ZnS、ZnO、Ti02、Zr02、Ta205 和 Nb205 中的一种或多种。3.根据权利要求I所述的介质导电膜,其特征在于,每一个所述第一介质层的厚度为50-70纳米。4.根据权利要求I所述的介质导电膜,其特征在于,所述第二介质层的材料选自MgF2、A1203、Mg0、Si02、Na3AlF3、BaF2、CaF2 和 A1F3 中的一种或多种。5.根据权利要求I所述的介质导电膜,其特征在于,每一个所述第二介质层的厚度为90-110 纳米。6.根据权利要求I所述的介质导电膜,其特征在于,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列的层数大于等于5层。7.一种介质导电膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤 511、提供承载介质导电膜的基板,在所述基板上形成第一介质层; 512、在第一介质层上形成第二介质层,然后再在第二介质层上形成第一介质层,如此交替往复,所述第一介质层和第二介质层交替层叠排列形成介质膜层; 513、在所述介质膜层上形成透明导电层; 其中,所述第一介质层和第二介质层的材料为无机物,且第一介质层的折射率大于2.I,第二介质层的折射率小于I. 6。8.根据权利要求7所述的介质导电膜的制备方法,其特征在于,所述第一介质层的材料选自ZnS、Zn0、Ti02、Zr02、Ta205和Nb205中的一种或...

【专利技术属性】
技术研发人员:康振华
申请(专利权)人:比亚迪股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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