一种用于电容式触摸屏双层导电薄膜制造技术

本实用新型专利技术涉及一种透明导电薄膜，尤其涉及一种双层透明导电薄膜。在柔性透明基材上镀有纳米级薄膜的粘接层，粘接层上表面镀有纳米级薄膜的透明导电层。本膜系结构粘接层厚度较薄，在触摸屏生产过程中有效减少了由于厚度较厚导致的折伤，龟裂等不良现象。有效的提高了触摸屏生产良率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种透明导电薄膜，尤其涉及一种双层透明导电薄膜。
技术介绍
氧化铟锡(Indium-TinOxide，ΙΤ0)溅射到柔性基材表面形成低电阻高可见光透过率薄膜。经酸性液蚀刻后得到不可见(对人眼而言)导电薄膜，是现代平板显示，触摸屏，加热玻璃窗不可或缺的材料。此外薄膜还可反射红外线、屏蔽紫外线和电磁波，可广泛用于屏式触控技术，太阳能、防止起雾除去霜玻璃、冰玻璃、防静电涂层等。ITO透明导电薄膜应用于电容式触摸屏时，要求成膜的ITO膜蚀刻并形成特别电极图案，蚀刻前后颜色差或反射差(▽ R)较小，即相对于人眼无法辨别差异。目前，电容式触摸屏导电薄膜结构基材上表面粘接层，高折射率层，绝缘层及导电层，基材上下表面加硬层。基材一般为PET，厚度20-20(^111，粘接层为5丨02或5丨02与SiO混合物，厚度5-20nm，高折射率层为Nb205或Ti02，厚度5_15nm，绝缘层为Si02，厚度40-65nm，导电层为ΙΤ0，厚度15_25nm。加硬层厚度20 μ m，加硬层不影响整体曲线，起到保护PET的作用。目前该结构的缺点在于(I)镀层厚，层数多，产能低下，成本高。(2)膜系结构复杂，影响因素较多，导致生产工艺较难控制。(3)对于四层结构而言，绝缘层厚度一般为40_65nm，膜层相对较脆，在触摸屏后段生产加工易发生折伤，龟裂等现象，导致产品良率低下。
技术实现思路
为了克服上述缺陷，本技术的目的在于提供一种双层透明导电薄膜结构，本膜系相对于现有技术而言，可使产能提高，工艺过程较易掌握，触摸屏生产产品良率上升。为了达到上述目的，本技术采用如下技术方案一种用于电容式触摸屏双层导电薄膜，在柔性透明基材上镀有纳米级薄膜的粘接层，粘接层上表面镀有纳米级薄膜的透明导电层。在柔性透明基材的上下表面设有加硬层。粘接层的厚度为5-30nm。透明导电层的厚度为15-25nm。本技术的有益效果相对于目前触摸屏导电结构而言，本膜系结构粘接层厚度较薄，在触摸屏生产过程中有效减少了由于厚度较厚导致的折伤，龟裂等不良现象。有效的提高了触摸屏生产良率。附图说明图I为本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图I对本技术进行详细描述一种用于电容式触摸屏双层导电薄膜，在柔性透明基材3上镀有纳米级薄膜的粘接层2，粘接层2上表面镀有纳米级薄膜的透明导电层I。在柔性透明基材3的上下表面设有加硬层4。粘接层2的厚度为5_30nm。透明导电层I的厚度为15_25nm。以上所述实施例仅表达了本专利的一种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说， 在不脱离本专利构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本技术的保护范围。因此，本专利的保护范围应以所附权利要求为准。权利要求1.一种用于电容式触摸屏双层导电薄膜，其特征在于在柔性透明基材(3)上镀有纳米级薄膜的粘接层(2)，粘接层(2)上表面镀有纳米级薄膜的透明导电层(I)。2.根据权利要求I所述的用于电容式触摸屏双层导电薄膜，其特征在于在柔性透明基材(3)的上下表面设有加硬层(4)。3.根据权利要求I所述的用于电容式触摸屏双层导电薄膜，其特征在于粘接层(2)的厚度为5-30nm。4.根据权利要求I所述的用于电容式触摸屏双层导电薄膜，其特征在于透明导电层(!)的厚度为15-25nm。专利摘要本技术涉及一种透明导电薄膜，尤其涉及一种双层透明导电薄膜。在柔性透明基材上镀有纳米级薄膜的粘接层，粘接层上表面镀有纳米级薄膜的透明导电层。本膜系结构粘接层厚度较薄，在触摸屏生产过程中有效减少了由于厚度较厚导致的折伤，龟裂等不良现象。有效的提高了触摸屏生产良率。文档编号H01B5/14GK202601232SQ20122021340公开日2012年12月12日 申请日期2012年5月14日 优先权日2012年5月14日专利技术者李晨光, 蔡荣军, 于甄, 吕敬波 申请人:南昌欧菲光科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于电容式触摸屏双层导电薄膜，其特征在于：在柔性透明基材（3）上镀有纳米级薄膜的粘接层（2），粘接层（2）上表面镀有纳米级薄膜的透明导电层（1）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李晨光，蔡荣军，于甄，吕敬波，
申请(专利权)人：南昌欧菲光科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：