【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于通过旋转照射来投射激光束以形成参考平面的旋转激光照射系统，并且更特别地涉及一种旋转激光照射系统与旋转激光系统，所述旋转激光照射系统与旋转激光系统可以对准用于通过旋转照射来投射激光束的主单元的方向，以与目标反射器的方向相一致。
技术介绍
旋转激光照射系统通过旋转照射来投射激光束，以形成水平参考平面或相对于水平平面倾斜的倾斜参考平面。此外，倾斜平面的倾斜角相对于水平参考线被设置，并且因此参考线的方向(该参考线的方向在下文中将被称为倾斜方向)必须首先被设置。 参考图15，设置倾斜平面的倾斜方向的常规方法现在将在下文中被描述。在图15中，参考数字I表示旋转激光照射系统，而参考数字2表示光电探测设备。旋转激光照射系统I具有用于使激光束偏转到水平方向并且用于通过旋转照射来投射被偏转的激光束的旋转器3，具有发射激光束、使旋转器3倾斜以及使照射方向倾斜的功能的主单元4以及用于使主单元4在水平方向上旋转的主单元旋转器5。当激光束通过旋转照射从旋转器3被投射时，参考平面6被形成。此外，光电探测设备2具有光电探测单元7，并且探测通过该光电探测单元7的激光束。为了...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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