立体幻彩陶瓷产品及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种立体幻彩陶瓷产品及其制备方法，包括以下步骤：将配制好的砖坯粉料通过粉体多管布料设备布出设计的图案，然后经压机压制成砖坯；对经干燥的所述砖坯利用抛坯机进行抛坯处理；在经抛坯处理的砖坯表面喷淋一层透明底釉；在所述底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层；并在所述花釉层上布上一层全抛透明釉，得生坯制品；将所述生坯制品干燥、经窑炉高温烧成、抛光后得所述立体幻彩陶瓷产品。本发明专利技术的方法采用多道装饰手段，结合了粉体图案粗犷、质感真实以及釉面图案丰富细腻的特点，使产品图案清晰丰富，纹理细腻宛如天然石材，层次分明，立体感强。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种建筑装饰材料制备方法，特别涉及一种粉体布料立体幻彩陶瓷产品的生产方法。
技术介绍
陶瓷产品因其吸水率低，强度硬度高、结构致密、耐磨、产品理化性能优越而广泛应用于家装和建筑领域。抛釉砖是近年来发展非常迅速的一种建筑装饰产品，因其装饰图案丰富，色彩多变，表面光泽度高等特点深受人们的喜爱，逐渐成为市场上的主流产品。目前抛釉砖制备工艺都是在砖坯表面喷淋底釉(化妆土)后进行印花装饰，然后上一层透明 釉，经烧成、抛光磨边后得到最终产品。但是，通过该工艺制备的抛釉砖三维立体感不强，特别是近距离观察会发现产品层次感不够丰富。公开号101747020B公开一种抛釉砖的生产方法，其通过在砖坯上覆盖熔块粉，烧制形成熔块层；在所述已烧成的熔块层上覆盖釉层并再次烧制而成，在第二次烧制过程中熔块层与釉层发生窑变反应以获得自然渐变图案。该现有技术通过控制熔块粉、釉料的布料、组分以及二次烧成以使熔块层与釉层发生窑变反应以获得自然渐变图案。其提供的产品不具有三维幻彩立体感。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术的不足而提供的一种釉下幻彩三维立体陶瓷板的生产方法。在此，本专利技术提供一种立体幻彩陶瓷产品的制备方法，包括以下步骤将配制好的砖坯粉料通过粉体多管布料设备布出设计的图案，然后经压机压制成砖坯；对经干燥的所述砖坯利用抛坯机进行抛坯处理；在经抛坯处理的砖坯表面喷淋一层透明底釉；在所述底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层；并在所述花釉层上布上一层全抛透明釉，得生坯制品；将所述生坯制品干燥、经窑炉高温烧成、抛光后得所述立体幻彩陶瓷产品。需要说明的是，在本专利技术中，无论是权利要求还是说明书中述及的原料百分比，如无特别说明，均指质量百分比。本专利技术的方法采用多道装饰手段，结合了粉体图案粗犷、质感真实以及釉面图案丰富细腻的特点，使产品图案清晰丰富，纹理细腻宛如天然石材，层次分明，立体感强。本专利技术的制备方法中通过粉体多管布料设备将砖坯粉料布出设计的图案。若从经济性以及砖坯性能等方面来考虑，其中的砖坯粉体还可以包括底料和面料，优选使底料和面料分二次布料，其中将具有不同颜色带半透明质感的粉体作为面料通过所述粉体多管布料设备布出设计的图案。更优选地，所述面料粉体包括80 95%的具有半透明质感的低温料和质量百分含量为5 15%的高温不透明料。使用包含高温不透明料的面料形成图案可对比承托出面料层的通透感。面料和底料除了组成可以不同，还可以使其细度也有区别，优选地底料的粒度分布为O. 18mm O. 85mm,以偏上限为主。面料的粒度分布为O. Imm O. 85mm,以偏下限为主。优选地，在抛坯处理之前，使经干燥的所述砖坯强度为I. 2MPa"l. 8MPa。优选地，抛坯处理过程中的抛坯厚度为O. 2 O. 6mm。过薄抛后坯体呈现的图案不清晰，过厚砖还破损大，造成浪费。在经抛坯处理的砖坯表面喷淋一层透明底釉，可以提高花釉发色的稳定性，并使制备的产品呈现立体感。本专利技术的方法优选地选择使用比重为I. 25 I. 45g/cm3的透明底釉，并其施釉量优选控制在180 400g/m2。本专利技术的方法还在所述透明底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层，并在所述花釉层上布上一层全抛透明釉。应理解，形成花釉层可以通过公知的印花方式，例如丝网印刷、辊筒印刷和喷墨印刷中的一种或几种。而优选地通过在所述花釉层上布透明熔块粉的方式形成所述全抛透明釉层。应理解，也可以通过钟罩淋釉方式在所述花釉层上布上一 层全抛透明釉。依本专利技术的方法制备的陶瓷产品，从底到面依次具备带图案层的砖坯层，透明釉层，花釉层和最上层的全抛透明釉层。因而结合了粉体图案粗犷、质感真实以及印花图案丰富细腻的特点，使产品图案清晰丰富，纹理细腻宛如天然石材，层次分明，立体感强。优选地，本专利技术的制备方法在所述花釉层上印刷第二透明釉层和第二花釉层，之后在所述第二花釉层上布上一层全抛透明釉。所制得的陶瓷产品从底到面依次具备带图案层的砖坯层，透明釉层，花釉层，第二透明釉层，第二花釉层和最上层的全抛透明釉层。这样形成的产品立体感和层次感将更加强烈。附图说明图I为现有技术的全抛釉陶瓷产品的制备方法示意流程图 图2为本专利技术一个示例实施例的立体幻彩陶瓷产品的制备方法示意流程 图3为本专利技术另一个示例实施例的立体幻彩陶瓷产品的制备方法示意流程图。具体实施例方式参照说明书附图，并结合下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，说明书附图及下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。。陶瓷制品包括釉面砖和无釉砖,本专利技术主要涉及釉面砖。釉面砖表面可以做各种图案和花纹，相比无釉抛光砖，釉面砖可以实现色彩和图案丰富。根据原材料的不同，釉面砖可以分为陶制釉面砖和瓷制釉面砖两大类。陶制釉面砖，由陶土烧制而成，吸水率较高，强度相对较低。瓷制釉面砖，由瓷土烧制而成，吸水率较低，强度相对较高。要注意的是，上面所说的吸水率和强度的比较都是相对的，也有一些陶制釉面砖的吸水率和强度比瓷制釉面砖高。坯料和釉料的原材料选择通常依需要的制品而定。釉面陶瓷砖生产过程，公知的通常包括原料制备工序、素坯成型工序、上面釉(化妆土)工序、印花工序以及烧成工序。成型制得的素坯在施釉之前通常还需要进行干燥使之含水率小于1.5%。一般通过淋、撒、喷等方式布上面釉。上面釉(化妆土)后进行印花工序，印花可以是多道印花，可以是丝网或滚筒印花，以此在砖坯上形成花釉层。印花后通常还需要经过二道干燥工序再入窑烧成。烧成温度和烧成时间根据坯、釉料的原料及其配比确定。烧成制度对釉面发生的缺陷也有较大的影响。冷却带冷、热配比要适当，正确掌握不同阶段的温度与气氛要求。防止因氧化不足，还原气氛过强，还原时间过长等而使制品烟熏。温度也要控制在釉料所允许的温度范围内或提高溶剂的熔融温度。在此，本专利技术提供一种立体幻彩陶瓷产品的制备方法。参看图1，其包括常规的粉料制备工序，压制工序，上釉工序，烧成工序和抛光工序。参看图2和图3，本 专利技术还包括布料工序。其可以是一次布料也可以是二次布料。二次布料是使底料和面料分二次，其中将具有不同颜色不同质感的粉体作为砖坯表层的面料通过所述粉体多管布料设备布出设计的图案。砖坯表层所用的面料至少含有两种以上不同颜色的粉料。无论是一次布料还是二次布料均可采用多管布料，将不同颜色的面层粉料通过不同料管落到料车格栅内作为面料层，依据格栅图案的不同形成具有不同纹路的图案效果。采用多管布料的方式所用的粉料通常是喷雾干燥过程形成的不同颗粒级配的粉料粒子。在本专利技术的一个示例中粉料的粒度分布为O. 18mm O. 85mm。此外，若分二次布料时面料可以根据需要利用磨粉机磨细再使用，面料层厚度可占砖坯厚度的四分之一到二分之一。砖坯底层粉料(底料)是较粗的粉料，在本专利技术的一个示例中其粒度分布为O. 18mm 0.85_。布料完成后可以采用常规的干法压制成型法将粉料压制成砖坯。在一个示例中，本专利技术使底料和面料分二次布料，其中将具有不同颜色带半透明质感的粉体作为面料通过所述粉体多管布料设备布出设计的图案；所述面料粉料由质量百分含量为80 95%的具有半透明质感的低温料和质量百分含量为5 15%的高温不透明料构成，高温不透明料可用来对比承托出面料层的通透感。面料和底料除了组成可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种立体幻彩陶瓷产品的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将配制好的砖坯粉料通过粉体多管布料设备布出设计的图案，然后经压机压制成砖坯；对经干燥的所述砖坯利用抛坯机进行抛坯处理；在经抛坯处理的砖坯表面喷淋一层透明底釉；在所述底釉上按照设计的图案进行印花形成花釉层；并在所述花釉层上布上一层全抛透明釉，得生坯制品；将所述生坯制品干燥、经窑炉高温烧成、抛光后得所述立体幻彩陶瓷产品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘一军，潘利敏，汪庆刚，饶培文，赵勇，
申请(专利权)人：广东蒙娜丽莎新型材料集团有限公司，
类型：发明
国别省市：