一种具有立体层次感的抛釉陶瓷砖制造技术

本实用新型专利技术公开了一种具有立体层次感的抛釉陶瓷砖，它是在传统抛釉陶瓷砖制备工艺基础上，增加了颗粒晶体布料的工艺环节，从而令制品较传统抛釉陶瓷砖的表面装饰效果更具层次感和立体感。本实用新型专利技术图案立体感、层次感强，装饰效果好，应用范围广，具有良好的推广价值。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及陶瓷砖制备
，尤其是涉及一种具有立体层次感的的抛釉陶瓷砖

技术介绍
抛釉陶瓷砖因其表面的晶莹剔透、具有一定的立体感而受到市场的响应，其制备一般是在砖坯上施底釉、面釉、印花釉烧成后，在砖坯表面再布熔块经烧制成透明的表面，最后再经抛光形成成品。也有经过一次烧制成形的，如为一种一次烧成抛晶砖的生产方法、专利申请号为CN201110292509. 4的技术专利申请，它是采用现行的抛光砖布料技术将各种不同颜色、质感的粉料按照设计要求布料并压制成型干燥后进行表面抛坯处理，再喷淋或印刷一层透明釉，然后再进行印花装饰，完成后再铺一层透明微晶熔块粉并喷一层甲基水或固定剂进行固定最后入窑烧成抛光。这种方式能有效节约能源，也具有一 定的立体效果，但立体层次不够分明，砖体强度低，抗裂性差。
技术实现思路
本专利技术目的在于提供一种立体层次感更强的抛釉陶瓷砖。本专利技术还提供了一种上述抛釉陶瓷砖的制备方法。本专利技术是采用如下技术方案来实现上述目的本专利技术的一种具有立体层次感的抛釉陶瓷砖，包括坯体层、位于坯体层上表面的釉面层、或釉面层上表面的图案层、图案层上表面的透明熔块层，其特征在于，所述图案或釉面层与透明熔块层之间还以点缀形式布入由无机非金属材料制成的颗粒晶体，所述颗粒晶体的熔点高于透明熔块层的熔点。作为上述方案的进一步说明，颗粒晶体为透明、半透明、乳浊的陶瓷晶状体其色泽、大小、形状按装饰需要而定，各种颗粒可以单独或混合使用。作为上述方案的进一步说明，颗粒晶体或为透明熔块；或为透明熔块加乳浊剂；或为透明、半透明、乳浊熔块加陶瓷色料烧制而成，其基础透明熔块的主要组分为(以下均为质量百分比)SiO2 60 70% MgO O. 2 O. 3% Al2O3 10 11% K2O 2 4%Fe2O3 0.3 1% Na2O I 2% CaO 2 3% ZnO 2. 5 4%BaO 2. 5 4% ZrO2 O. 5 I. 5% B2O3 10^15%表面透明熔块层的熔块组分以质量百分比计为；SiO2 55 65% MgO O. 2 O. 3% Al2O3 8 9% K2O 2 4%Fe2O3 O. Γθ. 2% Na2O Γ2% CaO 2 3% ZnO 2. 5 4%BaO 2. 5 4% ZrO2 O. Γθ. 5% B2O3 15 20%该颗粒熔块的始融温度高于透明熔块的始融温度50 100°C之间。作为上述方案的进一步说明，颗粒晶体通过人工布料、丝网布料或电脑自动布料的方式布入。作为上述方案的进一步说明，所述釉面层的上表面还有装饰图案层，布入的颗粒晶体位于图案层与透明熔块层之间。本专利技术的具有立体层次感的抛釉陶瓷砖制备方法，它是在传统抛釉陶瓷砖制备工艺基础上，增加布入颗粒晶体工序，具体步骤是a、制坯；b、施釉C、一次烧成；d、然后在装饰图案或釉面的表面布入颗粒晶体；e、在布有颗粒晶体的砖坯上再铺撒一层透明熔块；f、二次烧成；g、抛光。其中以点缀形式布入由无机非金属材料制成的颗粒晶体，所述颗粒晶体的熔点高于透明熔块层的熔点。作为上述方案的进一步说明，颗粒晶体为透明、半透明、乳浊的陶瓷晶状体，其色泽、大小、形状按装饰需要而定，各种颗粒可以单独或混合使用。作为上述方案的进一步说明，颗粒晶体或为透明熔块；或为透明熔块加乳浊剂；或为透明、半透明、乳浊熔块加陶瓷色料烧制而成，其基础透明熔块的主要组分为(以下均为质量百分比)SiO2 60 70% MgO O. 2 O. 3% Al2O3 10 11% K2O 2 4%Fe2O3 0.3 1% Na2O I 2% CaO 2 3% ZnO 2. 5 4%BaO 2. 5 4% ZrO2 O. 5 I. 5% B2O3 10 15%烧制透明熔块层的熔块组分以质量百分比计为；SiO2 55 65% MgO O. 2 O. 3% Al2O3 8 9% K2O 2 4%Fe2O3 O. Γθ. 2% Na2O I 2% CaO 2 3% ZnO 2. 5 4%BaO 2. 5 4% ZrO2 O. Γθ. 5% B2O3 15 20%该颗粒熔块的始融温度高于透明熔块的始融温度50 100°C之间。作为上述方案的进一步说明，颗粒晶体通过人工布料、丝网布料或电脑自动布料的方式布入。作为上述方案的进一步说明，在所述砖坯表面施釉后还需要进行图案装饰工序，作为上述方案的进一步说明，在一次烧成工序完成后在装饰的图案表面相应的位置涂覆一层粘接剂，然后在粘接剂上布入颗粒晶体。作为上述方案的进一步说明，在一次烧成工序完成后，还要经过二次图案装饰过程，然后再布入颗粒晶体。所述二次烧成时间为90 120分钟；烧成温度为1050_1100°C。采用上述技术方案后，本专利技术能达到如下有益效果I、本专利技术采用在装饰的图案表面以点缀形式布入颗粒晶体，再在图案和颗粒晶体之上形成一透明熔块层，由于颗粒晶体的透光性与透明熔块层的透光性存在差异，使釉面层能形成散射、折射和投射效果，从而增强了抛釉陶瓷砖整体的立体层次感。2、本专利技术中的颗粒晶体由熔块烧制而成，通过选择熔块的组份，使得颗粒晶体的熔点高于透明熔块的熔点，在适宜的烧成条件下，烧制前后颗粒晶体的形状、大小均不发生改变，保持其良好的立体层次，同时使得颗粒晶体的膨胀系数与透明熔块相匹配，有效防止烧制后的砖体表面出现裂纹和变形。此外颗粒晶体与透明熔块层均为烧制而成，其质感较为接近，使得颗粒晶体与透明熔块之间的过渡不明显，能更好的在视觉上增强抛釉陶瓷砖的整体感和立体感。附图说明图I为本专利技术的抛釉陶瓷砖结构示意图。附图标记说明1、透明熔块层2、颗粒晶体2、釉面(图案装饰)层4、砖坯层。具体实施方式以下结合附图对本专利技术的优选实施方式进行说明如图I所示，依据本专利技术制备的抛釉陶瓷砖从上至下由透明熔块层I、釉面(图案装饰)层3和砖坯层4组成，其中透明熔块层I中点缀分布有颗粒晶体2。所述颗粒晶体的熔点高于透明熔块层的熔点，颗粒晶体为透明、半透明、乳浊的陶瓷晶状体。所述釉面层的上表面还有图案层，布入的颗粒晶体位于印花层与透明熔块层之间。其基础透明熔块的主要组分为(以下均为质量百分比)SiO2 60 70% MgO O. 2 O. 3% Al2O3 10 11% K2O 2 4%Fe2O3 0.3 1% Na2O I 2% CaO 2 3% ZnO 2. 5 4%BaO 2. 5 4% ZrO2 O. 5 I. 5% B2O3 10 15%表面透明熔块层的熔块组分以质量百分比计为；SiO2 55 65% MgO O. 2 O. 3% Al2O3 8 9% K2O 2 4%Fe2O3 O. Γθ. 2% Na2O I 2% CaO 2 3% ZnO 2. 5 4%BaO 2. 5 4% ZrO2 O. Γθ. 5% B2O3 15 20%上述抛釉陶瓷砖可通过如下步骤制得a、制坯；b、在砖还表面施釉后再进行印花装饰；C、一次烧成；d、二次图案装饰；e、根据设计要求先在装饰的图案表面相应的位置涂覆一层粘接剂，f、然后在粘接剂上布入颗粒晶体；g、在布有颗粒晶体的砖坯上再铺撒一层透明熔块；h、二次烧成所述烧成时间为90 120分钟，烧成温度为1050 1100°C ；i、抛光。其中颗粒本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有立体层次感的抛釉陶瓷砖，包括坯体层、位于坯体层上表面的釉面层、釉面层上表面的装饰图案层和图案层上的透明熔块层，其特征在于，所述图案层与透明熔块层之间还以点缀形式布入的颗粒晶体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈满坚，
申请(专利权)人：陈满坚，
类型：实用新型
国别省市：