一种全抛釉用熔块及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Al2O32～10份、SiO250～70份、CaO15～30份、K2O1～4份、Na2O?1～4份、MgO1～4份，ZnO1～4份；乙熔块的组成为：Al2O315～30份、SiO230～50份、CaO15～30份、K2O1～5份、Na2O?1～5份、MgO1～4份，ZnO1～4份。全抛釉用熔块的制备方法，包括根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；将混合好的原料于1500～1580℃熔制好，分别得到甲乙两种熔块；将熔制好的熔块破碎。本发明专利技术的熔块，具有较高的始熔温度，透明度高。使用本发明专利技术熔块制备得到的全抛釉透明度高，表面无气泡，抛光后釉面光滑无微孔，不吸污纳垢，釉面呈哑光，质感好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种熔块及其制备方法，特别涉及。
技术介绍
熔块是使用原料预先熔融得到的玻璃体，通过预先熔融之后，可以排除釉料中的大部分气体，有助于减少釉面上的气泡、针孔等瑕疵，提升陶瓷制品的质量，是陶瓷配釉中的常用原料。全抛釉砖是在坯体表面施一层全抛釉，经烧成、抛光而成的。具有彩釉砖装饰丰富和瓷质吸水率低、材质性能好的特点，又克服了彩釉砖釉上装施不耐磨、抗化学腐蚀的性能差和瓷质砖装饰方法简单的弊端，采用釉下装饰、高温烧成、釉面细腻、高贵华丽，属高档产PΡΠ O目前的全抛釉分为生料釉，熔块釉，半生料半熔块釉。全生料釉稳定性差，使用范围窄；全熔块釉，性能稳定，但成本太高，临时调节差；半生料半熔块釉，适应性强。施于全抛釉的全抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽。其釉料特点是透明不遮盖底下的面釉和各道花釉，抛釉时只抛掉透明釉的薄薄一层。目前一个重要的问题是，抛光后，釉面上存在大量的气泡，会吸污，对于某些色料的发色具有严重的影响。此外，现有的全抛釉耐磨性较差，其耐磨性级别一般仅能达到3级。专利技术内容本专利技术的目的在本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Ａｌ２Ｏ３　２～１０份、ＳｉＯ２　５０～７０份、ＣａＯ１５～３０份、Ｋ２Ｏ　１～４份、Ｎａ２Ｏ　　１～４份、ＭｇＯ　１～４　份，ＺｎＯ　１～４份；乙熔块的组成为：Ａｌ２Ｏ３　１５～３０份、ＳｉＯ２　３０～５０份、ＣａＯ　１５～３０份、Ｋ２Ｏ　１～５份、Ｎａ２Ｏ　　１～５份、ＭｇＯ　１～４份，ＺｎＯ　１～４份，所述份数为质量份。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：韦斐，张翼，陈奕，
申请(专利权)人：广东道氏技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：44