本发明专利技术公开了一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Al2O32～10份、SiO250～70份、CaO15～30份、K2O1～4份、Na2O?1～4份、MgO1～4份，ZnO1～4份；乙熔块的组成为：Al2O315～30份、SiO230～50份、CaO15～30份、K2O1～5份、Na2O?1～5份、MgO1～4份，ZnO1～4份。全抛釉用熔块的制备方法，包括根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；将混合好的原料于1500～1580℃熔制好，分别得到甲乙两种熔块；将熔制好的熔块破碎。本发明专利技术的熔块，具有较高的始熔温度，透明度高。使用本发明专利技术熔块制备得到的全抛釉透明度高，表面无气泡，抛光后釉面光滑无微孔，不吸污纳垢，釉面呈哑光，质感好。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种熔块及其制备方法，特别涉及。
技术介绍
熔块是使用原料预先熔融得到的玻璃体，通过预先熔融之后，可以排除釉料中的大部分气体，有助于减少釉面上的气泡、针孔等瑕疵，提升陶瓷制品的质量，是陶瓷配釉中的常用原料。全抛釉砖是在坯体表面施一层全抛釉，经烧成、抛光而成的。具有彩釉砖装饰丰富和瓷质吸水率低、材质性能好的特点，又克服了彩釉砖釉上装施不耐磨、抗化学腐蚀的性能差和瓷质砖装饰方法简单的弊端，采用釉下装饰、高温烧成、釉面细腻、高贵华丽，属高档产PΡΠ O目前的全抛釉分为生料釉，熔块釉，半生料半熔块釉。全生料釉稳定性差，使用范围窄；全熔块釉，性能稳定，但成本太高，临时调节差；半生料半熔块釉，适应性强。施于全抛釉的全抛釉砖集抛光砖与仿古砖优点于一体的，釉面如抛光砖般光滑亮洁，同时其釉面花色如仿古砖般图案丰富，色彩厚重或绚丽。其釉料特点是透明不遮盖底下的面釉和各道花釉，抛釉时只抛掉透明釉的薄薄一层。目前一个重要的问题是，抛光后，釉面上存在大量的气泡，会吸污，对于某些色料的发色具有严重的影响。此外，现有的全抛釉耐磨性较差，其耐磨性级别一般仅能达到3级。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供。本专利技术所采取的技术方案是一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为=Al2O3 2 10 份、SiO2 50 70 份、Ca015 30 份、K2O 1 4 份、Na2O 1 4 份、MgO 1 4 份，ZnO 1 4份；乙熔块的组成为=Al2O3 15 30份、SiO2 30 50份、CaO 15 30份、K2O 1 5份、 Na2O 1 5份、MgO 1 4份，ZnO 1 4份，所述份数为质量份。甲、乙两种熔块质量混合比为30 150 :100。上述全抛釉用熔块的制备方法，包括以下步骤1)根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；2)将混合好的原料于1500 1580°C熔制好，分别得到甲乙两种熔块；3)将熔制好的熔块破碎。优选的，将将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。本专利技术的熔块，具有较高的始熔温度，透明度高。甲、乙两种熔块的始熔温度存在一定的区别，甲熔块的始熔温度相对较低，乙熔块的始熔温度相对较高，在烧制过程中，乙熔块作为骨架作用，可以保证高温下顺利排气，另外，由于两种熔块的组成在一定范围内接近低共融点，可以保证甲、乙两种熔块可以很好的熔融在一起。使用本专利技术熔块制备得到的全抛釉透明度高，表面无气泡，抛光后釉面光滑无微孔，不吸污纳垢，釉面呈 光，质感好。由本专利技术的熔块制得的釉层，耐磨性级别达5级，耐磨性好。将熔块破碎至细度低于250目，使得熔块可以适用于多种制釉工艺。具体实施例方式一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为=Al2O3 2 10 份、SiO2 50 70 份、Ca015 30 份、K2O 1 4 份、Na2O 1 4 份、MgO 1 4 份， ZnO 1 4份；乙熔块的组成为=Al2O3 15 30份、SiO2 30 50份、CaO 15 30份、K2O 1 5份、Na2O 1 5份、MgO 1 4份，ZnO 1 4份，所述份数为质量份。甲、乙两种熔块质量混合比为30 150 :100。上述全抛釉用熔块的制备方法，包括以下步骤1)根据甲、乙两种熔块的组成，分别称取原料，并将原料混合；2)将混合好的原料于1500 1580°C熔制好，分别得到甲乙两种熔块；3)将熔制好的熔块破碎。优选的，将将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。下面结合实施例，进一步说明本专利技术。实施例1甲熔块的组成为=Al2O3 2份、SiO2 50份、CaO 18份、K2O 2份、Na2O 1份、MgO 3份， ZnO 4 份；乙熔块的组成为=Al2O3 20 份、SiO2 40 份、CaO 30 份、K2O 3. 7 份、Na2O 1 份、MgO 2 份，ZnO 3. 4 份；其制备方法如下1)根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均勻；2)将混合好的原料于1500°C熔制好；3)将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。实施例2甲熔块的组成为=Al2O3 6份、SiO2 57份、CaO 23份、K2O 3. 4份、Na2O 3份、MgO 2份， ZnO 2 份；乙熔块的组成为=Al2O3 25份、SiO2 43份、CaO 20份、K2O 4份、Na2O 4份、MgO 3份， ZnO 3 份；其制备方法如下1)根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均勻；2)将混合好的原料于1530°C熔制好；3)将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。实施例3甲熔块的组成为=Al2O3 4份、SiO2 54份、CaO 15份、K2O 2. 5份、Na2O 2份、MgO 4份， ZnO 1 份；乙熔块的组成为=Al2O3 15份、SiO2 30份、CaO 15份、K2O 2份、Na2O 3份、MgO 4份，ZnO 1 份；其制备方法如下1)根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均勻；2)将混合好的原料于1550°C熔制好；3)将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。 实施例4甲熔块的组成为=Al2O3 5 份、SiO2 63 份、CaO 25 份、K2O 3 份、Na2O 3. 5 份、MgO 3. 5 份，ZnO 3. 5 份；乙熔块的组成为=Al2O3 27份、SiO2 50份、CaO 18份、K2O 3份、Na2O 5份、MgO 1份， ZnO 3 份；其制备方法如下1)根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均勻；2)将混合好的原料于1580°C熔制好；3)将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。实施例5甲熔块的组成为=Al2O3 7份、SiO2 67份、CaO 26份、K2O 4份、Na2O 4份、MgO 1份， ZnO 3 份；乙熔块的组成为=Al2O3 30 份、SiO2 33 份、CaO 27 份、K2O 5 份、Na2O 2 份、MgO 1. 8 份，ZnO 4份；其制备方法如下1)根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均勻；2)将混合好的原料于1530°C熔制好；3)将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。实施例6甲熔块的组成为A1203 10 份、SiO2 70 份、CaO 30 份、K2O 1 份、Na2O 3 份、MgO 2. 6 份，ZnO 3份；乙熔块的组成为=Al2O3 18 份、SiO2 38 份、CaO 23 份、K2O 1 份、Na2O 2. 8 份、MgO 3.3 份，ZnO 2份；其制备方法如下1)根据甲、乙两种熔块的组成，称取原料，将原料混合均勻；2)将混合好的原料于1500°C熔制好；3)将熔制好的熔块破碎至细度低于250目。以上各实施例中的甲熔块始融温度在1150 1160°C之间，乙熔块始融温度在 1260 1280°C之间，两者配合使用，在瓷砖的烧制过程中，甲熔块先于乙熔块熔化，乙熔块作为骨架作用，可以保证高温下顺利排气，有效减少釉面中的气泡，进而提高了产品的质量。此外，通过调节甲、乙两种熔块的配比，使其适用于不同的烧成温度，可在1150 1220°C的温度范围内使用，方便灵活本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种全抛釉用熔块，由甲、乙两种熔块混合而成，其中，甲熔块的组成为：Ａｌ２Ｏ３ ２～１０份、ＳｉＯ２ ５０～７０份、ＣａＯ１５～３０份、Ｋ２Ｏ １～４份、Ｎａ２Ｏ １～４份、ＭｇＯ １～４ 份，ＺｎＯ １～４份；乙熔块的组成为：Ａｌ２Ｏ３ １５～３０份、ＳｉＯ２ ３０～５０份、ＣａＯ １５～３０份、Ｋ２Ｏ １～５份、Ｎａ２Ｏ １～５份、ＭｇＯ １～４份，ＺｎＯ １～４份，所述份数为质量份。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：韦斐，张翼，陈奕，
申请(专利权)人：广东道氏技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：44
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