一种凹凸面陶瓷产品及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种凹凸面陶瓷产品及其制备方法，包含将具有疏水性的有机物与陶瓷釉料按重量比1∶0.3～3制备成憎水花釉，并将其按所需图案通过印刷工序印刷到预先制备的坯体表面形成花釉层，再以淋浆布料方式施加面浆制得半成品，半成品经干燥后进窑高温烧成制得具有凹凸表面的陶瓷制品。本发明专利技术的方法可制得具有凹凸的手感，更能完美体现天然石材的质感，形成具有一定深度、图案纹理可控、拐角圆润的凹凸效果产品。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种建筑装饰材料及其制备方法，特别涉及。
技术介绍
陶瓷产品因其吸水率低，强度硬度高、结构致密、耐磨、产品理化性能优越而广泛应用于家装和建筑领域。凹凸面陶瓷产品具有仿天然凹凸纹理的特点更深得消费者的喜爱。现有技术制作的凹凸面陶瓷产品以通过凹凸模具压制出来的凹凸面，纹理过于生硬，缺乏自然的质感；而现有淋浆工艺技术制作的陶瓷产品缺乏变化，只能做到平面式的淋浆效果。·CN1274633C公开一种镀金属抛釉陶瓷制品及其制作工艺，通过先在硅坯上面制作图案层，而后在图案上铺撒熔块粉、并便熔块粉之间留空形成凹槽、在凹槽内镀上金属层，以此制备立体感强的陶瓷制品。但其仍然是通过机械方式形成凹槽，纹理生硬、缺乏自然质感。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服现有技术的不足，提供一种既有凹凸面效果的，又有淋浆细腻质感的仿天然纹理陶瓷产品及其制备方法。本专利技术提供的凹凸面陶瓷的制备方法，包含将具有疏水性的有机物与陶瓷釉料按重量比I : 0. 3 3制备成憎水花釉，并将其按所需图案通过印刷工序印刷到预先制备的坯体表面形成花釉层，再以淋浆布料方式施加面浆制得半成品，半成品经干燥后进窑高温烧成制得具有凹凸表面的陶瓷制品。需要说明的是，在本专利技术中，无论是权利要求还是说明书中述及的原料百分比，如无特别说明，均指质量百分比。本专利技术的方法通过利用疏水剂的憎水功能及淋浆布料方式在砖坯表面形成具有凹凸面的特殊装饰效果。包括疏水性有机物的憎水花釉形成的花釉层起到阻隔面浆浆料的作用。而淋浆方式形成的面浆层具有质感细腻，图案流动自然、防污好的特点，从而制得具有凹凸的手感，更能完美体现天然石材的质感，形成具有一定深度、图案纹理可控、拐角圆润的凹凸效果产品，是一种全新的建筑陶瓷装饰工艺方法。本专利技术优选地选用接触角大于90度的疏水性有机物作为制备憎水花釉的原料。优选地以有机硅醇、石蜡、环氧树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、过氯乙烯树月旨、含氟树脂等具有防水功能的有机物作为本专利技术的疏水性有机物。在将憎水花釉按所需图案通过印刷工序印刷到预先制备的坯体表面形成花釉层，较佳地，所述花釉层的厚度为0. 2 I. 0mm。该厚度依疏水剂、印刷的图案等会有不同的选择。并选择合适的厚度有助于实现好的凹凸效果。此外，憎水花釉的釉浆比重优选为I. I I. 5g/cm3。选择合适的釉浆比重有助于控制砖坯上釉面的厚度。且依疏水剂、印刷的图案等也会有所不同。此外，优选地，本专利技术中憎水花釉的釉浆中还可包括用于调节釉浆流动性的稀释剂，例如乙二醇，丙三醇，丁二醇，丙醇等。优选地稀释剂用量质量百分比为5 15%。 本专利技术选择以淋浆布料方式在带有花釉层的砖坯表面施加面浆层。该面浆层的厚度优选为I. 0 4. 0_。应理解，本专利技术述及的面浆层的厚度是始于坯体层，即不包括在坯体上印刷的釉面层的厚度。并应理解，这里的高度是指烧制前的高度。此外面浆比重优选为I. 75 I. 85g/cm3。选择该浓度可容易地制得表面具有明显凹凸效果的陶瓷产品。优选地，在印刷工序中，通过丝网或辊筒印刷将拒水花釉印刷到砖坯表面，再以淋浆方式施加面浆层。当浆料淋到砖坯上后，由于砖坯表面防水层的存在以及浆面自流平的共同作用下，浆料将会避开具有憎水功能的花釉层。经二次干燥后再高温烧成，憎水花釉层中包括的有机物将会烧失，不会对砖面造成影响。将经过所述印刷工序、淋浆工序以及干燥工序后制得的具有花釉层、面浆层的半·成品，优选在1150 1250°C进窑高温煅烧60 90min，从而制得具有凹凸表面的陶瓷成品。憎水花釉可以根据需要选择使用哑光釉、光亮釉、闪光釉、珠光釉、金属釉等釉料。且应理解，面浆层使用的浆料可选择使用釉料，可选择与花釉层同一类型的釉料，也可选择不同类型的釉料，这些根据要求的图案、纹理等不同来确定。本专利技术制得凹凸面陶瓷产品具有仿天然凹凸纹理的特点。产品表面的凹凸变化可依据印刷图案、釉层厚度、浓度等不同而不同。较佳地，经高温烧制后的本专利技术陶瓷产品其凹面与凸面的最大高度差可达3. 3mm，且所述凹面与凸面无缝平滑过渡。本专利技术的有益效果是通过该生产方法制备的产品除了拥有淋浆面质感细腻，图案流动自然、防污好的特点，还拥有凹凸的手感，更能完美体现天然石材的质感，极大地提闻了广品档次。附图说明图I为本专利技术凹凸面陶瓷产品的效果示意 其中 I为憎水花釉层； 2为面衆层； 3为砖还层。具体实施例方式参照说明书附图，并结合下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，说明书附图及下述实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。陶瓷制品包括釉面砖和无釉砖,本专利技术主要涉及釉面砖。釉面砖表面可以做各种图案和花纹，相比无釉抛光砖，釉面砖色彩和图案更加丰富。根据原材料的不同，釉面砖可以分为陶制釉面砖和瓷制釉面砖两大类。陶制釉面砖，由陶土烧制而成，吸水率较高，强度相对较低。瓷制釉面砖，由瓷土烧制而成，吸水率较低，强度相对较高。要注意的是，上面所说的吸水率和强度的比较都是相对的，也有一些陶制釉面砖的吸水率和强度比瓷制釉面砖高。坯料和釉料的原材料选择通常依需要的制品而定。釉面陶瓷砖生产过程，公知的通常包括料制备工序、素坯成型工序、上面釉工序、印花工序以及烧成工序。成型制得的素坯在施釉之前通常还需要进行干燥使之含水率小于1.5%。一般通过淋、撒、喷等方式布上面釉。上面釉后进行印花工序，印花可以是多道印花，可以是丝网或滚筒印花，以此在砖坯上形成花釉层。印花后通常还需要经过二道干燥工序再入窑烧成。烧成温度和烧成时间根据坯、釉料的原料及其配比确定。烧成制度对釉面发生的缺陷也有较大的影响。冷却带冷、热配比要适当，正确掌握不同阶段的温度与气氛要求。防止因氧化不足，还原气氛过强，还原时间过长等而使制品烟熏。温度也要控制在釉料所允许的温度范围内或提高溶剂的熔融温度。在上釉时要适当选择釉浆的浓度。釉浆的浓度过小，则在坯体上容易形成釉层的过薄，造成烧成制品釉面上的痕迹粗糙，而且烧后的釉面光泽不良。但如釉浆的浓度太大，不但施釉操作不易掌握，且坯体内部有棱角的地方往往上不到釉。施釉后釉面较易开裂，烧后在制品表面上可能产生堆釉等现象。釉料的细度也应适当控制，釉料的粉碎过细，则釉浆粘力过大，含水量过多，在干燥的坯体施釉后，釉面容易发生龟裂，釉层翘起与坯体脱离等现象。如果施釉较厚，这种缺陷更明显。但如釉料的粉碎不足，则釉浆粘附力过小，釉中的组分容易沉降。而且釉层与坯体的附着不牢固。本专利技术涉及。现有技术制作的凹凸面陶瓷产品以通过凹凸模具压制出来的凹凸面，纹理过于生硬，缺乏自然的质感。而现有淋浆工艺技术制作的陶瓷产品缺乏变化，只能做到平面式的淋浆效果。本专利技术提供的凹凸面陶瓷的制备方法，利用疏水剂疏水功能及淋浆布料方式在砖坯表面形成凹凸面特殊装饰效果。其具体步骤为将疏水剂与具有特殊效果的釉料一起制成憎水花釉，按所需的图案通过丝网或辊筒印刷到砖坯表面，固化形成防水层后再淋面浆，经干燥后进窑烧成。示例地，本专利技术的制备方法可以包括以下步骤1、按所需配比制备釉料、面浆料，2、在釉料中添加疏水剂制备憎水花釉，3、按所需图案通过印刷工序将憎水花釉印刷到预先制备的坯体表面形成带花釉的砖坯，4、使所述砖坯干燥后以淋浆布料方式在施加面浆层制得半成品，5、半成品经干燥后进窑高温烧成制得具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种凹凸面陶瓷的制备方法，其特征在于，包含将具有疏水性的有机物与陶瓷釉料按重量比1∶0.3～3制备成憎水花釉，并将其按所需图案通过印刷工序印刷到预先制备的坯体表面形成花釉层，再以淋浆布料方式施加面浆制得半成品，半成品经干燥后进窑高温烧成制得具有凹凸表面的陶瓷制品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘一军，潘利敏，汪庆刚，潘炳宇，赵勇，
申请(专利权)人：广东蒙娜丽莎新型材料集团有限公司，
类型：发明
国别省市：