在半导体上镀铜制造技术

技术编号:7994179 阅读:155 留言:0更新日期:2012-11-22 02:54
使用单价镀铜浴对半导体晶片正面(front?side)的导电轨或发射面(emitter?side)进行金属化。通过电镀或LIP,铜选择性地沉积在导电轨上。导电轨可以通过使用常规的金属镀浴再次金属化。金属化的半导体可用于光伏器件的制造中。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种方法,该方法包括:a)提供一种包括正面,背面和PN结的半导体,所述正面包括具有底层的导电轨图案,所述背面包括金属接触件;b)使半导体与单价镀铜组合物接触;以及c)在导电轨的底层上镀覆铜层。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:G·哈姆J·A·里斯魏凌云
申请(专利权)人:罗门哈斯电子材料有限公司
类型:发明
国别省市:

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