本发明专利技术涉及一种消除组织培养苗污染的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将培养组培苗的培养基中加入次氯酸钠溶液；(2)将污染的组培苗接转到含有次氯酸钠溶液的培养基上；(3)重复步骤(1)和(2)，经过数次接转以后，即可消除污染；(4)对消除污染的组培苗进行培养即可。本发明专利技术的优点是：与其它抗生素比较，添加方便，可随培养基高压灭菌，与氯化汞比较，没有二次污染，可有效的消除组培苗的污染，在组培苗物种保存和生产用苗快繁中，挽救污染组培苗，具有很大的生态效益和经济效益。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种，具体的是一种用次氯酸钠。
技术介绍
在植物组培过程中，污染现象是目前组培过程中三大难题之一，由于各种原因，造成组培苗出现细菌污染，被污染后的组织培养苗一般是弃之另作，造成生产成本的提高和农时的延误，对植株资源的保存往往造成无法挽回的损失。目前组培中，采用抗生素进行杀菌处理，但至今并未发现那种抗生素能够对各种菌都有效，效果不理想，还有的采用氯化汞进行防治，但是氯化汞在使用以后，容易造成环境的二次污染，与其比较这种方法更为优选
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种，以解决现有技术存在的灭菌效果不理想、操作复杂、容易造成二次污染和不具备推广价值的问题。本专利技术的技术方案是一种，其特征在于，包括以下步骤(I)将培养组织培养苗的培养基中加入次氯酸钠溶液；(2)将污染的组织培养苗接转到含有次氯酸钠溶液的培养基上；(3)重复步骤(I)和(2)，经过数次接转以后，即可消除污染；(4)对消除污染的组织培养苗进行培养即可。所述的每次接转周期为5-25天。所述的次氯酸钠溶液的浓度为5_50mg/L。所述的培养基的PH值为5. 5-5. 8，略显酸性。上述的组织培养苗的培养温度22-24°C，光照条件每天10-12小时，光照强度20001x 左右。所述的培养基中次氯酸钠浓度较高，杀菌效果好，所以浓度越大，接转周期要越短，尽量避免对组培苗的伤害，根据培养基中次氯酸钠的含量，安排接转周期，一般次氯酸钠浓度由低到高，接转周期由长到短，根据组织培养苗的实际生长情况，调整接转周期。本专利技术的优点是与其它抗生素比较，添加方便，可随培养基高压灭菌，与氯化汞比较，没有二次污染，可有效的消除组培苗的污染，在组培苗物种保存和生产用苗快繁中，挽救污染组培苗，具有很大的生态效益和经济效益。具体实施例方式实施例I :日本大和芋组培苗污染的消除日本大和芋的组培苗通过生长顶端分化培养获得，接转过程中，由于操作不当或内生菌造成组培苗污染，在根部或培养基表面出现菌斑。将污染的组培苗，通过正常的接转技术，接转到含有浓度为5mg/L次氯酸钠的培养基中，使其培养基的PH值为5. 5，使组织培养苗的培养条件 温度22°C，光照条件每天12小时，光照强度20001X，每10天为一个周期，经过一个周期后，根据菌斑和组培苗生长状况，再将组织培养苗接转到含有新的次氯酸钠溶液的培养基上，如此循环3个周期后，消除污染，获得健壮的组培苗。实施例2 :大花萱草组培苗污染的消除将污染的大花萱草组培苗通过正常的接转技术，接转到含有浓度为20mg/L次氯酸钠的培养基中，使其培养基的PH值为5. 7，使组织培养苗的培养条件温度24°C，光照条件每天12小时，光照强度20001X，每20天为一个周期，经过一个周期后，根据菌斑和组培苗生长状况，再将组织培养苗接转到含有新的次氯酸钠溶液的培养基上，如此循环3个周期后，消除污染，获得健壮的组培苗。实施例子3 :切花菊组培苗污染的消除 将污染的切花菊组培苗通过正常的接转技术，接转到含有浓度为50mg/L次氯酸钠的培养基中，使其培养基的PH值为5. 8，培养条件温度24°C，光照条件每天12小时，光照强度20001x，每10天为一个周期，经过2个周期后，即可消除污染，获得健壮的组培苗。权利要求1.一种，其特征在于，包括以下步骤 (1)将培养组织培养苗的培养基中加入次氯酸钠溶液，培养基中次氯酸钠的浓度为5_50mg/L (2)将污染的组织培养苗接转到含有次氯酸钠溶液的培养基上； (3)重复步骤(I)和(2)，经过数次接转以后，即可消除污染； (4)对消除污染的组织培养苗进行培养即可。2.根据权利要求I所述的，其特征在于，所述的每次接转周期为5-25天。3.根据权利要求I所述的，其特征在于，所述的培养基的PH值为5. 5-5. 8，略显酸性。4.根据权利要求I所述的，其特征在于，所述的步骤(4)中的组织培养苗的培养温度22-24°C，光照条件每天10-12小时，光照强度20001x左右。5.根据权利要求I至4任意一项权利要求所述的，其特征在于，所述的培养基中次氯酸钠浓度较高，杀菌效果好，所以浓度越大，接转周期要越短，根据培养基中次氯酸钠的含量，安排接转周期，一般次氯酸钠浓度由低到高，接转周期由长到短，根据组织培养苗的实际生长情况，调整接转周期。全文摘要本专利技术涉及一种，其特征在于，包括以下步骤(1)将培养组培苗的培养基中加入次氯酸钠溶液；(2)将污染的组培苗接转到含有次氯酸钠溶液的培养基上；(3)重复步骤(1)和(2)，经过数次接转以后，即可消除污染；(4)对消除污染的组培苗进行培养即可。本专利技术的优点是与其它抗生素比较，添加方便，可随培养基高压灭菌，与氯化汞比较，没有二次污染，可有效的消除组培苗的污染，在组培苗物种保存和生产用苗快繁中，挽救污染组培苗，具有很大的生态效益和经济效益。文档编号A01H4/00GK102726290SQ20111009061公开日2012年10月17日 申请日期2011年4月12日 优先权日2011年4月12日专利技术者史淑一, 姜宁, 张志芬, 张曰秋, 林丽丽, 王红艳, 辛秀琛 申请人:山东省烟台农业学校本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种消除组织培养苗污染的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将培养组织培养苗的培养基中加入次氯酸钠溶液，培养基中次氯酸钠的浓度为5？50mg/L(2)将污染的组织培养苗接转到含有次氯酸钠溶液的培养基上；(3)重复步骤(1)和(2)，经过数次接转以后，即可消除污染；(4)对消除污染的组织培养苗进行培养即可。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：史淑一，林丽丽，辛秀琛，张曰秋，王红艳，姜宁，张志芬，
申请(专利权)人：山东省烟台农业学校，
类型：发明
国别省市：
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