用于光取向膜取向处理的粘性薄膜制造技术

本发明专利技术涉及一种用于光取向膜取向处理的粘性薄膜、层压薄膜、光滤波器的制造方法以及光滤波器或立体影像显示装置。本发明专利技术能够提供一种使未取向区域的发生最小化并能够形成高精度取向图案的取向处理用粘性薄膜、包含所述取向处理用粘性薄膜的层压薄膜或使用所述取向处理用粘性薄膜的光滤波器的制造方法。并且，本发明专利技术能够提供一种光滤波器或立体影像显示装置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于光取向膜取向处理的粘性薄膜、层压薄膜、光滤波器的制造方法以及光滤波器或立体影像显示装置。本专利技术在2010年I月22日在韩国申请的韩国专利申请第2010-0005907号基础上主张优先权，并全文纳入本文。
技术介绍
立体影像显示装置是能够表示具有深度感的影像的显示装置。现有的影像显示装置只能在影像显示面上表现信息，因此存在丢失全部所要表现的目标深度信息的局限性。由于立体影像显示装置能够在空间内立体地显示目标，因此能够将物体本身的三维信息完整地传递给观察者，因此使具有逼真效果的显示成为可能。立体影像显示技术大体分为眼镜式和裸眼式。并且，眼镜式可分为偏光式和LC快门式(LC shutter glass),裸眼式可分为两眼式/多视点两眼视差式、体积式(volumetrictype)或全息式等。
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术的目的在于提供一种用于光取向膜取向处理的粘性薄膜、层压薄膜、光滤波器的制造方法以及光滤波器或立体影像显示装置。解决课题的方法本专利技术涉及一种具有包含透光区和遮光区的基材(substrate)的用于光取向膜取向处理的粘性薄膜。以下，对本专利技术的粘性薄膜进行详细说明。本专利技术的粘性薄膜可以用于例如向光取向膜照射光来进行取向处理的过程。在一个例示中，上述粘性薄膜能在光取向膜上进行取向处理的过程中使用，其中该取向处理用于形成至少包含第一取向方向的第一取向区域和与上述第一取向方向不同的第二取向方向的第二取向区域的图案或者取向方向互不相同的两种以上取向区域。在上述取向处理过程中，形成有透光区和遮光区的基材能够起到一种掩膜作用。特别是，由于处于粘性薄膜状态，因此能够在将上述基材贴附于光取向膜的状态下即在光取向膜和基材之间实质上不存在间隔的状态下进行取向处理，从而不存在未取向区域，进而能够形成高精度的取向图案。术语“光取向膜”可包括作为本领域使用的通过光照射来能够诱导所包含的分子朝一定方向取向的所有种类的取向膜。在一个例不中，上述光取向膜可以是如下的取向膜通过偏振紫外光例如直线偏振紫外光的照射来诱导取向，而且在其上部形成有液晶化合物时，通过与液晶化合物的相互作用来诱导上述液晶化合物的取向。在本专利技术的一个例示中，上述光取向膜可以是立体影像显示装置的光滤波器用光取向膜。作为用于立体影像显示装置的光滤波器的例子可以举出图案化的相位差元件(patterned retarder)。在本专利技术中，术语“透光区”是指能够使从基材上部或下部入射的光透过并从相反侧射出的区域，术语“遮光区”是指能够吸收或遮蔽从基材上部或下部入射的光使其无法从相反侧射出的区域。图I是例示性表示本专利技术粘性薄膜所包含的基材10的剖面图。如图I所示，粘性薄膜基材10包含能够使厚度方向照射的光(在附图中用箭头来表示)透过的透光区T和能够遮蔽或吸收上述光的遮光区B。在基材上可以分别形成一个以上上述透光区和遮光区。在本专利技术的基材上形成的上述遮光区和透光区的形状并不受特别限制，可根据目标光取向膜的取向图案来决定。在本专利技术的一个例示中，上述透光区和遮光区分别可以具有条纹(stripe)形状，并且可互相邻接交替形成。图2是模式性表示从上部观察本专利技术一例示基材的图。在图的基材10中，透光区T和遮光区B以条纹状交替形成。当透光区和遮光区以条纹状交替形成时，并不特别限制上述区域的间距，即一个遮光区的线宽和与其邻接的遮光区之间的间隔之和(图2的P)、以及邻接的遮光区的间隔(图2的V)。并且，上述间隔可根据光取向膜使用用途来决定。例如，当上述光取向膜为立体影像显示装置的光滤波器用光取向膜时，透光区和与其邻接的遮光区的间距可以是形成上述立体影像显示装置显示部的左眼用影像或右眼用影像的单位像素(Pixel)宽度的两倍。如图6所示，通常立体影像显示装置例如可以包含如显示板62的显示部和如图案化相位差元件的光滤波器63。并且，如图3所示，用于生成左眼用影像的单位像素(左眼用单位像素，图3的UL)和用于生成右眼用影像的单位像素(右眼用单位像素，图3的UR)可以以条纹状交替配置于上述显示部。在本专利技术中，当适用于粘性薄膜的光取向膜适用于上述立体影像显示装置的光滤波器时，优选上述间距P具有与上述显示部的单位像素(UR或UL)宽度(图3的Wl或W2)的两倍值相同的数值。在本专利技术中，术语“相同”是指在不破坏本专利技术效果的范围内的实质相同，例如包含已考虑到制造误差(error)或偏差(variation)等的误差。例如，上述间距与单位像素宽度的两倍相同是指包含约±60i!m以内的误差，优选包含约±40 iim以内的误差，更优选包含约±20iim以内的误差。通过以如上所述方式调节上述间距，能够防止取向处理后在取向膜上产生未取向区域，并能够形成具有高精度的取向图案。因此，当具有上述取向膜的光滤波器适用于立体影像显示装置时，能够防止所谓的串扰(crosstalk)等的发生。并且，上述中邻接的遮光区间隔(图2的V)优选具有与立体影像显示装置显示部的左眼用单位像素或右眼用单位像素的宽度(例如，图3的Wl或W2)相同的值。上述中与单位像素宽度相同的值是指前述中的实质相同，例如包含±30 以内的误差，优选包含约±20i!m以内的误差，更优选包含约ilOym以内的误差。将上述间隔与单位像素的宽度相同地设定，从而防止取向处理时未取向区域的产生，进而能够形成具有更优异精度的取向图案。并且，当光滤波器用于显示装置时，各偏振转换部能够与左眼用和右眼用影像生成部的单位像素有效地对应，从而能够防止串扰等的发生。本专利技术基材的透光区和遮光区的形状并不限于上述条纹状，可根据立体影像显示装置的影像生成部的形态或适用本专利技术光取向膜的其他用途而改变。例如，当本专利技术光取向膜使用于立体影像显示装置的光滤波器并且左眼用和右眼用单位像素在显示部中形成为方格图案时，能够将上述遮光区和透光区仍然以与上述像素相对应的方式配置成方格图案。此时，各区域的间距和间隔可以以上述相同方式来规定，例如，透光区和与其邻接的遮光区的间距实质上可以与形成为上述方格图案的左眼用或右眼用单位像素宽度的两倍相同，并且邻接的遮光区之间的间隔实质上可以与上述单位像素的宽度相同。上述间距和间隔可以指在以方格图案排列的透光区和遮光区中竖向或横向的间距和间隔，单位像素的宽度可以指上述像素的竖向或横向的宽度。本专利技术粘性薄膜的基材例如可包含透光性薄板和在所述薄板上形成遮光区的遮光性或吸光性油墨。S卩，根据目标图案在透光性薄板表面印刷遮光性或吸光性油墨，由此形成遮光区，从而制造上述基材。上述“透光性薄板”是指能够使光取向处理中使用的光例如紫外线有效透过的薄 板，上述有效透过可以指透过对光取向膜的取向处理有效程度的量。例如，上述透光性薄板作为在紫外线UV区域吸光率低的薄板，可以是对约320nm以下波长光的吸收率为10%以下的薄板。这样的薄板可以例举出如三乙酸纤维素等的纤维素系薄板或者如降冰片烯衍生物薄板等的烯烃基薄板等，只要薄板能够表现出适当的透光性就不限于上述薄板。上述透光性薄板的厚度不受特别限制，在考虑到目的、用途以及透光度等情况下可进行适当选择。通常，上述薄板作为保护膜的基材来使用，用以在光滤波器的制造过程中防止取向膜的污染并提高取向性。在本专利技术的一个例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.01.22 KR 10-2010-0005907;2011.01.24 KR 10-2011.一种用于光取向膜取向处理的粘性薄膜，其具有包含透光区和遮光区的基材。2.权利要求I所述的用于光取向膜取向处理的粘性薄膜，其中，透光区和遮光区分别具有条纹形状，并且互相邻接交替形成。3.权利要求2所述的光取膜取向处理用粘性薄膜，其中，光取向膜为用于立体影像显示装置的光滤波器的光取向膜，透光区和与所述透光区邻接的遮光区的间距为所述立体影像显示装置显示部的左眼用单位像素或右眼用单位像素宽度的两倍。4.权利要求3所述的用于光取向膜取向处理的粘性薄膜，其中，邻接的遮光区之间的间隔与显示部的左眼用单位像素或右眼用单位像素宽度相同。5.权利要求I所述的用于光取向膜取向处理的粘性薄膜，其包括透光性薄板；遮光性或吸光性油墨，用于在所述薄板上形成遮光区。6.权利要求I所述的用于光取向膜取向处理的粘性薄膜，其进一步包括形成在基材的至少一面且用于将基材贴紧于光取向膜的粘附层。7.一种用于光滤波器制造的层压薄膜，其包括基板；光取向膜，形成在所述基板上；权利要求I所述的粘性薄膜，贴附在所述光取向膜上。8.权利要求7所述的用于光滤波器制造的层压薄膜，其中，光取向膜是被直线偏振...

【专利技术属性】
技术研发人员：金信英，尹赫，朴钟声，洪敬寄，张应镇，朴文洙，许斗宁，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：