氯硅烷洗涤塔制造技术

本实用新型专利技术公开了一种氯硅烷洗涤塔，包括洗涤段、连接法兰以及换热段。洗涤段含有锥形封头、液相空间、气相空间。其中，带粉尘的高温氯硅烷气体经过锥形封头上的氯硅烷进气口进入洗涤塔；在液相空间的洗涤液中充分反应，氯硅烷气体中的粉尘杂质被留在洗涤液中，由于重力原因沉积于锥形封头的底端，由底端的排渣口定期进行排渣；洗涤后的高温氯硅烷气体进入换热段的换热管中；换热段壳体通入冷却介质；经充分换热后的氯硅烷气体由换热段上封头的气体出口进入下一工序。本实用新型专利技术提供的氯硅烷洗涤塔能够对高温的氯硅烷气体进行洗涤与换热，使其能直接进入下一生产工序，为后续的生产工序进行预处理。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种氯硅烷洗涤塔，特别是一种带有洗涤与换热功能的氯硅烷洗涤塔，属于太阳能光伏产业

技术介绍
多晶硅是制造硅抛光片、太阳能电池及高纯硅制品的主要原料，是信息产业和新能源产业的基础原料。在太阳能光伏产业的巨大利润下，各地多晶硅项目纷纷上马，多晶硅产业前景广阔，已经成为中国投资的热点。现有技术中广泛采用西门子法制备多晶硅。西门子法是在还原炉内，SiHClJPH2等工艺气体经进气管进入炉体内发生还原反应，生成Si并沉积在硅芯电极上。与此同时， 生产1000吨多晶硅将生成约15000吨SiCl4 (即四氯化硅)，不仅造成能源浪费，也为多晶硅企业生产带来巨大压力。现有新工艺将SiCl4转化为SiHCl3，重新参与生产，是当前多晶硅生产的趋势。在此转化过程中，经过一系列反应生成的高温SiHCl3气体中含有粉尘颗粒，为了使得此高温SiHCl3气体重新进入还原炉内生产多晶硅，必须对杂质粉尘进行洗涤并且进行降温。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种氯硅烷洗涤塔，该氯硅烷洗涤塔能有效对含有粉尘的高温氯硅烷气体进行充分洗涤，且对高温氯硅烷气体进行换热，有效降低氯硅烷气体的温度，使其能直接进入下一生产工序。为实现上述目的，本技术采用的氯硅烷洗涤塔，自上而下包括上封头、换热段、洗涤段以及下封头，所述换热段与洗涤段通过法兰连接；所述下封头设有气体进口 ；所述上封头设有气体出口，所述换热段设有冷却介质出口和冷却介质入口。作为本技术的一种优选方案，所述换热段包含一壳体，所述壳体内部设有若干个换热管，所述换热管固定于管板，所述冷却介质入口设于壳体下半部分，所述冷却介质出口设于壳体上半部分。高温氯硅烷气体经过换热管与换热管外的冷却介质进行热量交换，达到降温的目的。作为本技术的一种优选方案，所述换热管的横截面的直径小于其长度。作为本技术的一种优选方案，所述换热管的横截面为圆形，或者多边形，所述换热管均匀分布于所述壳体内。作为本技术的一种优选方案，所述洗涤段的上方为气相空间，下方为液相空间，所述液相空间中充满洗涤液。作为本技术的一种优选方案，所述液相空间设有洗涤液进口与洗涤液出口。作为本技术的一种优选方案，所述下封头为锥形。作为本技术的一种优选方案，所述下封头底部设有排渣口。作为本技术的一种优选方案，所述排渣口上设有重力阀。本技术的工作原理上一工序生产的高温带粉尘的氯硅烷气体，经气体进口进入洗涤段的液相空间，液相空间充满一定浓度的洗涤液，带粉尘的氯硅烷气体在洗涤液中充分洗涤，将粉尘留在洗涤液中，粉尘经重力作用沉积在洗涤段的底部，经洗涤段的排渣口定期排渣；经洗涤后的氯硅烷气体进入气相空间；洗涤后的氯硅烷气体经洗涤段气相空间进入换热段的换热管；换热段的壳体内充满冷却介质；换热管内的高温氯硅烷气体与壳体内的冷却介质进行换热；经冷却后的氯硅烷气体从换热段顶部的出气口进入下一工序。本技术提供的氯硅烷洗涤塔能够对高温的氯硅烷气体进行洗涤与换热，有效去除氯硅烷气体中的粉尘颗粒等杂质，大大降低气体温度，使其能直接进入下一生产工序，为后续的生产工序进行预处理。附图说明图I是本技术的氯硅烷洗涤塔的结构示意图。 附图标记I是排渣口，2是锥形封头，3是气体进口，4是洗涤段液相空间，5是洗涤段气相空间，6是法兰，7是管板，8是换热管，9是壳体，10是上封头，11是气体出口，12是冷却介质出口，13是冷却介质入口。具体实施方式以下结合附图对本技术作进一步描述，但是本技术不限于所述的实施例。如图I所示，氯硅烷洗涤塔自下而上包括锥形封头2、洗涤段液相空间4、洗涤段气相空间5、法兰6、管板7、换热管8、壳体9、上封头10。换热管8固定于管板7上,壳体9与洗涤段通过法兰6连接为一体；锥形封头2底部设有排渣口 I，其侧边设有气体进口 3，壳体9设有冷却介质出口 12和冷却介质入口 13，上封头10的顶部设有气体出口 11。本实施例的工作过程是正常工作时，由上一工序过来的高温带粉尘的氯硅烷气体，由洗涤塔锥形封头2的气体进口 3进入洗涤段的液相空间4 ;在特定浓度的洗涤液中，能将进入的氯硅烷气体中的粉尘杂质充分洗涤；粉尘杂质在洗涤液中由于重力原因沉积至洗涤塔锥形封头2底端，由排渣口 I定期排渣；经洗涤的不带粉尘的氯硅烷气体进入洗涤段气相空间5 ;高温的氯硅烷气体由洗涤段进入换热段的换热管8内；换热管8内的高温氯硅烷气体与壳体9内的冷却介质充分换热，冷却至一定温度，进入上封头10，由上封头的气体出口 11进入下一工序。权利要求1.氯硅烷洗涤塔，其特征在于自上而下包括上封头、换热段、洗涤段以及下封头，所述换热段与洗涤段通过法兰连接； 所述下封头设有气体进口 ；所述上封头设有气体出口，所述换热段设有冷却介质出口和冷却介质入口。2.根据权利要求I所述的氯硅烷洗涤塔，其特征在于所述换热段包含一壳体，所述壳体内部 设有若干个换热管，所述换热管固定于管板，所述冷却介质入口设于壳体下半部分，所述冷却介质出口设于壳体上半部分。3.根据权利要求2所述的氯硅烷洗涤塔，其特征在于所述换热管的横截面的直径小于其长度。4.根据权利要求2所述的氯硅烷洗涤塔，其特征在于所述换热管的横截面为圆形，或者多边形，所述换热管均匀分布于所述壳体内。5.根据权利要求I所述的氯硅烷洗涤塔，其特征在于所述洗涤段的上方为气相空间，下方为液相空间，所述液相空间中充满洗涤液。6.根据权利要求5所述的氯硅烷洗涤塔，其特征在于所述液相空间设有洗涤液进口与洗涤液出口。7.根据权利要求I所述的氯硅烷洗涤塔，其特征在于所述下封头为锥形。8.根据权利要求I所述的氯硅烷洗涤塔，其特征在于所述下封头底部设有排渣口。9.根据权利要求8所述的氯硅烷洗涤塔，其特征在于所述排渣口上设有重力阀。专利摘要本技术公开了一种氯硅烷洗涤塔，包括洗涤段、连接法兰以及换热段。洗涤段含有锥形封头、液相空间、气相空间。其中，带粉尘的高温氯硅烷气体经过锥形封头上的氯硅烷进气口进入洗涤塔；在液相空间的洗涤液中充分反应，氯硅烷气体中的粉尘杂质被留在洗涤液中，由于重力原因沉积于锥形封头的底端，由底端的排渣口定期进行排渣；洗涤后的高温氯硅烷气体进入换热段的换热管中；换热段壳体通入冷却介质；经充分换热后的氯硅烷气体由换热段上封头的气体出口进入下一工序。本技术提供的氯硅烷洗涤塔能够对高温的氯硅烷气体进行洗涤与换热，使其能直接进入下一生产工序，为后续的生产工序进行预处理。文档编号B01D47/00GK202398241SQ201120338418公开日2012年8月29日 申请日期2011年9月9日 优先权日2011年9月9日专利技术者曾炟, 许晟, 赵翠, 黄小华 申请人:上海森松新能源设备有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄小华，赵翠，曾炟，许晟，
申请(专利权)人：上海森松新能源设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：