【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种磁控溅射低成本LOW-E玻璃。
技术介绍
随着节能减排的要求越来越高，普通的镀膜玻璃已满足不了人们的需求，人们追求一种更低辐射率的并可遮阳的LOW-E玻璃，但同时由于市场竞争越来越激励，人们更是寻求一种低成本的LOW-E玻璃。
技术实现思路
本技术的目的是针对上述存在问题，提供一种透过率高、镀膜层与玻璃基片的结合力强、镀膜层致密、均匀的磁控溅射低成本LOW-E玻璃。本技术的目的是这样实现的包括有玻璃基片，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有五个膜层，其中，第一膜层即最内层为氧化锡层，第二膜层为铬层，第三膜层为金属铜层，第四膜层为氮氧化铬层，第五膜层为氧化锌锡层。本技术，氧化锡层的厚度为35 43nm，铬层的厚度为I. 5 3nm，金属铜层的厚度为12 16nm，氮氧化铬层的厚度为I. 5 3nm，氧化锌锡层的厚度为35 46nm。本技术，具有如下积极效果I)、采用磁控溅射法将镀膜层溅射在玻璃基片上，镀膜层与玻璃基片的结合力强、镀膜层致密、均匀；2)、作为溅射的靶材均采用物美价廉的材料，产品成本比同类产品下降30%以上；3)、透过率可任意调整，颜色丰富。本技术，具有透过率高、镀膜层与玻璃基片的结合力强、镀膜层致密、均匀的优点。下面实施例结合附图说明对本技术作进一步的说明。附图说明图I是本技术的一个实施例的结构示意图。图中，I、玻璃基片；2、复合面；21、氧化锡层；22、铬层；23、金属铜层；24、氮氧化铬层；25、氧化锌锡层。具体实施方式参照图1，本实施例是一种磁控溅射低成本LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的复合面上由内到外...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射低成本LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(I)，其特征在于在玻璃基片的复合面(2)上由内到外依次相邻地复合有五个膜层，其中，第一膜层即最内层为氧化锡层(21)，第二膜层为铬层(22)，第三膜层为金属铜层(23)，第四膜层为氮氧化铬层(24)，第五膜层为氧化锌锡层(25)。2...
【专利技术属性】
技术研发人员：魏佳坤，
申请(专利权)人：揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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