【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种投影光学系统，特别涉及一种对称式双远心投影光学系统，主要应用于半导体、太阳能电池、液晶、印刷电路板等光刻系统以及照相制版的投影光学系统。
技术介绍
随着投影光刻技术的发展，投影光学系统的性能逐步提高，投影光学系统已经可以适用于电路制造等多种领域。投影光刻技术也可以用于更大面积，较大焦深，较高产率的半导体、太阳能电池、液晶、印刷电路板等
然而在现有技术中，如美国专利US6，879,383(公告日:2005年4月12日)，采用折射反射结构，整体尺寸大，对光学玻璃材料要求十分严格，尤其是大口径的凹面反射镜的加工，检测技术要求非常严格。在视场大小，工作距离，装校要求，制造成本等方面不如全折射系统具有优势。中国专利CN98113037. 2(公告日2003年7月23日)是一种像方远心的双高斯光学系统，由于该专利采用2个胶合面，在高产率的投影光刻设备中，透镜粘合剂会产生很大的变形甚至变性，导致光学成像性能降低，投影镜头的使用寿命缩短，不符合光刻技术要求。有鉴于此，提供一种既经济又具有良好质量保证的，较大视场尺寸，较大焦深的投影光学系统，并且提高投影...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘鹏，
申请(专利权)人：张家港鹏博光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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